-
وضعیت تحقیقات سرامیکهای کاربید سیلیکون تبلور مجدد یافته
سرامیکهای کاربید سیلیکون تبلور مجدد یافته (RSiC) یک ماده سرامیکی با کارایی بالا هستند. به دلیل مقاومت عالی در برابر دمای بالا، مقاومت در برابر اکسیداسیون، مقاومت در برابر خوردگی و سختی بالا، در بسیاری از زمینهها مانند تولید نیمههادیها، صنایع فتوولتائیک و ... مورد استفاده گسترده قرار گرفتهاند.ادامه مطلب -
پوشش SIC چیست؟ – VET ENERGY
کاربید سیلیکون ترکیبی سخت حاوی سیلیکون و کربن است و در طبیعت به عنوان ماده معدنی بسیار کمیاب مویزنیت یافت میشود. ذرات کاربید سیلیکون را میتوان با تف جوشی به هم متصل کرد تا سرامیکهای بسیار سختی تشکیل شوند که به طور گسترده در کاربردهایی که نیاز به دوام بالا دارند، به ویژه ... استفاده میشوند.ادامه مطلب -
کاربرد سرامیکهای کاربید سیلیکون در حوزه فتوولتائیک
① این یک ماده حامل کلیدی در فرآیند تولید سلولهای فتوولتائیک است. در میان سرامیکهای ساختاری کاربید سیلیکون، صنعت فتوولتائیک تکیهگاههای قایق کاربید سیلیکون در سطح بالایی از رونق توسعه یافته و به انتخاب خوبی برای مواد حامل کلیدی در فرآیند تولید تبدیل شده است...ادامه مطلب -
مزایای تکیهگاه قایق سیلیکون کاربید در مقایسه با تکیهگاه قایق کوارتز
کارکردهای اصلی تکیهگاه قایق سیلیکون کاربید و تکیهگاه قایق کوارتز یکسان است. تکیهگاه قایق سیلیکون کاربید عملکرد عالی اما قیمت بالایی دارد. این یک رابطه جایگزین با تکیهگاه قایق کوارتز در تجهیزات پردازش باتری با شرایط کاری سخت (مانند ...) تشکیل میدهد.ادامه مطلب -
ویفر دیسینگ چیست؟
یک ویفر برای تبدیل شدن به یک تراشه نیمههادی واقعی باید سه تغییر را پشت سر بگذارد: ابتدا، شمش بلوکی شکل به ویفر برش داده میشود؛ در فرآیند دوم، ترانزیستورها از طریق فرآیند قبلی روی جلوی ویفر حک میشوند؛ در نهایت، بستهبندی انجام میشود، یعنی از طریق فرآیند برش...ادامه مطلب -
کاربرد سرامیکهای کاربید سیلیکون در حوزه نیمههادیها
ماده ترجیحی برای قطعات دقیق دستگاههای فوتولیتوگرافی در زمینه نیمههادیها، مواد سرامیکی کاربید سیلیکون عمدتاً در تجهیزات کلیدی برای تولید مدار مجتمع مانند میز کار کاربید سیلیکون، ریلهای راهنما، بازتابندهها، سه نظام مکش سرامیکی، بازوها، g... استفاده میشوند.ادامه مطلب -
شش سیستم یک کوره تک کریستالی کدامند؟
کوره تک کریستالی دستگاهی است که از یک بخاری گرافیتی برای ذوب مواد سیلیکونی پلی کریستالی در محیط گاز بی اثر (آرگون) استفاده می کند و از روش چکرالسکی برای رشد تک کریستال های غیر جابجا شده استفاده می کند. این دستگاه عمدتاً از سیستم های زیر تشکیل شده است: مکانیکی...ادامه مطلب -
چرا در میدان حرارتی کوره تک کریستال به گرافیت نیاز داریم؟
سیستم حرارتی کوره تک کریستالی عمودی، میدان حرارتی نیز نامیده میشود. عملکرد سیستم میدان حرارتی گرافیتی به کل سیستم برای ذوب مواد سیلیکونی و حفظ رشد تک کریستال در دمای معین اشاره دارد. به عبارت ساده، این یک گرافن کامل است...ادامه مطلب -
چندین نوع فرآیند برای برش ویفر نیمههادی قدرت
برش ویفر یکی از حلقههای مهم در تولید نیمههادیهای قدرت است. این مرحله برای جداسازی دقیق مدارهای مجتمع یا تراشههای منفرد از ویفرهای نیمههادی طراحی شده است. نکته کلیدی در برش ویفر این است که بتوانیم تراشههای منفرد را جدا کنیم و در عین حال اطمینان حاصل کنیم که ساختار ظریف ...ادامه مطلب