Cwch graffit a ddefnyddir yn PECVD llinell gynhyrchu celloedd solar
Mae cynhyrchu celloedd solar yn gofyn am chwe phroses bwysig: gweadu, tryledu, ysgythru, cotio, argraffu sgrin a sinteru. Wrth weithgynhyrchu celloedd solar, mae'r broses cotio tiwb PECVD yn defnyddio cwch graffit fel y corff gweithio. Mae'r broses cotio yn defnyddio dyddodiad anwedd cemegol wedi'i wella gan plasma i ddyddodi ffilm silicon nitrid ar flaen y wafer silicon i leihau adlewyrchiad golau haul ac wyneb y wafer silicon.
Nodweddion ein cwch graffit PECVD:
1). Mabwysiadwyd i ddileu'r dechnoleg "lensys lliw", i wneud yn siŵr nad oes "lensys coloe" yn ystod y broses hirdymor.
2). Wedi'i wneud o'r deunydd graffit wedi'i fewnforio gyda phurdeb uchel, cynnwys amhuredd isel a chryfder uchel.
3). Gan ddefnyddio'r serameg 99.9% ar gyfer y cynulliad serameg gyda pherfformiad gwrthsefyll cyrydiad cryf a phrawf brwst.
4). Defnyddio'r offer prosesu manwl gywir i sicrhau cywirdeb pob rhan.
Manyleb
| Eitem | Math | Cludwr wafer rhif |
| Cwch graffit PEVCD --- Y gyfres 156 | Cwch graffit 156-13 | 144 |
| Cwch graffit 156-19 | 216 | |
| Cwch graffit 156-21 | 240 | |
| Cwch graffit 156-23 | 308 | |
| Cwch graffit PEVCD --- Y gyfres 125 | Cwch graffit 125-15 | 196 |
| Cwch graffit 125-19 | 252 | |
| Cwch graffit 125-21 | 280 |
Mae Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd yn fenter uwch-dechnoleg sy'n canolbwyntio ar gynhyrchu a gwerthu deunyddiau uwch o'r radd flaenaf, y deunyddiau a'r dechnoleg gan gynnwys graffit, silicon carbide, cerameg, triniaeth arwyneb fel cotio SiC, cotio TaC, cotio carbon gwydrog, cotio carbon pyrolytig, ac ati, defnyddir y cynhyrchion hyn yn helaeth mewn ffotofoltäig, lled-ddargludyddion, ynni newydd, meteleg, ac ati.
Daw ein tîm technegol o sefydliadau ymchwil domestig gorau, ac maent wedi datblygu nifer o dechnolegau patent i sicrhau perfformiad ac ansawdd cynnyrch, a gallant hefyd ddarparu atebion deunydd proffesiynol i gwsmeriaid.
