ʻO ka puke loiloi loea ʻo High-Purity Isostatic Graphite Crucible & Alakaʻi koho no ka hoʻoheheʻe ʻana o ka induction a me nā kaʻina hana Semiconductor

1. ʻEnekinia Mea & Nā Kikoʻī ʻenehana Koʻikoʻi

ʻIke Koʻikoʻi:Hoʻokumu ke Cold Isostatic Pressing (CIP) i kahi micro-structure like a kiʻekiʻe ka nui e ʻoi aku ka maikaʻi ma mua o ka graphite extruded a i ʻole ka vibration-molded kuʻuna i ka ikaika mechanical, ke kūpaʻa ʻana i ka erosion, a me ka pono thermal.

ʻO ke ola lōʻihi o ke ʻano o kahi ipu hoʻoheheʻe graphite ma lalo o ke kaumaha wela koʻikoʻi ua wehewehe ʻia e kona nui o ka nui, ka ikaika flexural, a me ka conductivity thermal. Hoʻohana ʻo VET Energy i ka graphite isostatic kiʻekiʻe me ka nui o ka palaoa awelika o8–10 μm, e hāʻawi ana i ke kūpaʻa kiʻekiʻe loa i ka ʻinoʻino ʻana o ka metala wai a me ke komo kino.

Matrix o nā Waiwai Kino a me ka Wera

Palena ʻenehana Papa Kūlana ʻOihana Papa Maʻemaʻe Semiconductor Ka Koʻikoʻi o ka ʻenekinia
Ka nui o ka nui 1.72 – 1.85 g/cm³ 1.85 – 1.90 g/cm³ Hoʻemi ka nui o ka density i ka porosity hāmama, e pale ana i ke komo ʻana o ka metala hoʻoheheʻe a me ka ʻino ʻana o ka paia ʻaoʻao.
Ka nui o ka lehu / nā mea haumia ≤ 20 ppm ≤ 5 ppm (Hoʻomaʻemaʻe Kūikawā) Kāohi i ka hoʻolaha ʻana o nā mea trace i loko o ka silicon maʻemaʻe kiʻekiʻe, ke gula, a me ke kālā i hoʻoheheʻe ʻia.
Ke kū'ē uila 8.0 – 13.0 μΩ·m 8.0 – 10.5 μΩ·m Hoʻomaopopo i ka hoʻopili electromagnetic maikaʻi loa a me ka pono hoʻomehana induction wikiwiki.
Ikaika Flexural 38 – 50 MPa 50 – 60 MPa Kū i ke kaumaha mīkini a me ka haʻalulu wela i ka wā e ninini ana.
Ikaika Hoʻopaʻa 70 – 110 MPa 110 – 135 MPa Mālama i ka kūpaʻa o ke kūkulu ʻana ma lalo o nā ukana wela kaumaha a me nā wahi umu kiʻekiʻe.
Ka Hoʻokele Wela (100°C) 110 – 120 W/(m·K) 120 – 130 W/(m·K) Hoʻomaʻalahi i ka hoʻoili wela wikiwiki a like, e hoʻohaʻahaʻa ana i nā manawa pōʻaiapuni a me ka hoʻohana ʻana i ka ikehu.
Lākiō Anisotropy 1.15 – 1.25 1.05 – 1.15 Pale ka hoʻonui wela isotropic i nā māwae koʻikoʻi i ka wā o ka hoʻomehana wikiwiki a me nā pōʻaiapuni hoʻomaha.

2. ʻEnekinia Mea & Nā Kikoʻī ʻenehana Koʻikoʻi

ʻIke Koʻikoʻi:Hoʻokumu ke Cold Isostatic Pressing (CIP) i kahi micro-structure like a kiʻekiʻe ka nui e ʻoi aku ka maikaʻi ma mua o ka graphite extruded a i ʻole ka vibration-molded kuʻuna i ka ikaika mechanical, ke kūpaʻa ʻana i ka erosion, a me ka pono thermal.

ʻO ke ola lōʻihi o ke ʻano o kahi ipu hoʻoheheʻe graphite ma lalo o ke kaumaha wela koʻikoʻi ua wehewehe ʻia e kona nui o ka nui, ka ikaika flexural, a me ka conductivity thermal. Hoʻohana ʻo VET Energy i ka graphite isostatic kiʻekiʻe me ka nui o ka palaoa awelika o8–10 μm, e hāʻawi ana i ke kūpaʻa kiʻekiʻe loa i ka ʻinoʻino ʻana o ka metala wai a me ke komo kino.

Matrix o nā Waiwai Kino a me ka Wera

Palena ʻenehana Papa Kūlana ʻOihana Papa Maʻemaʻe Semiconductor Ka Koʻikoʻi o ka ʻenekinia
Ka nui o ka nui 1.72 – 1.85 g/cm³ 1.85 – 1.90 g/cm³ Hoʻemi ka nui o ka density i ka porosity hāmama, e pale ana i ke komo ʻana o ka metala hoʻoheheʻe a me ka ʻino ʻana o ka paia ʻaoʻao.
Ka nui o ka lehu / nā mea haumia ≤ 20 ppm ≤ 5 ppm (Hoʻomaʻemaʻe Kūikawā) Kāohi i ka hoʻolaha ʻana o nā mea trace i loko o ka silicon maʻemaʻe kiʻekiʻe, ke gula, a me ke kālā i hoʻoheheʻe ʻia.
Ke kū'ē uila 8.0 – 13.0 μΩ·m 8.0 – 10.5 μΩ·m Hoʻomaopopo i ka hoʻopili electromagnetic maikaʻi loa a me ka pono hoʻomehana induction wikiwiki.
Ikaika Flexural 38 – 50 MPa 50 – 60 MPa Kū i ke kaumaha mīkini a me ka haʻalulu wela i ka wā e ninini ana.
Ikaika Hoʻopaʻa 70 – 110 MPa 110 – 135 MPa Mālama i ka kūpaʻa o ke kūkulu ʻana ma lalo o nā ukana wela kaumaha a me nā wahi umu kiʻekiʻe.
Ka Hoʻokele Wela (100°C) 110 – 120 W/(m·K) 120 – 130 W/(m·K) Hoʻomaʻalahi i ka hoʻoili wela wikiwiki a like, e hoʻohaʻahaʻa ana i nā manawa pōʻaiapuni a me ka hoʻohana ʻana i ka ikehu.
Lākiō Anisotropy 1.15 – 1.25 1.05 – 1.15 Pale ka hoʻonui wela isotropic i nā māwae koʻikoʻi i ka wā o ka hoʻomehana wikiwiki a me nā pōʻaiapuni hoʻomaha.

3. Hoʻohālikelike Hana Mea: Graphite Isostatic vs. Nā ipu hoʻoheheʻe ʻē aʻe

ʻIke Koʻikoʻi:Ke hoʻohālikelike ʻia me ke aniani quartz, ka clay-graphite, a me ka alumina ceramic, hāʻawi ka graphite isostatic maʻemaʻe kiʻekiʻe i ke kūpaʻa haʻalulu thermal kiʻekiʻe, ka inertness kemika i nā metala makamae, a me ka pono hoʻomehana hoʻoulu induction maikaʻi loa.

ʻO ke koho ʻana i ka ipu hoʻoheheʻe kūpono e pono ai ke kūlike i nā kūlana hana wela, ka lewa o ka umu, a me ka hana kemika:

Ka Hoʻohālikelike Hana Crucible

ʻAno Mea Hoʻoheheʻe Mahana Kiʻekiʻe (°C) Ke kū'ē ʻana i ka haʻalulu wela Hoʻopili Induction Ka Inertness o ka Metal Heat Nā Palena ʻOihana Mua
VET Energy Graphite Isostatic Maʻemaʻe Kiʻekiʻe 2760°C (Vacuum) / 400°C (Ea) Maikaʻi loa(Nā pōʻaiapuni ΔT nui loa > 1000°C) Kiʻekiʻe Loa(Mea Hoʻopau Kūpono) Maikaʻi loa(ʻAʻole e pulu i ka Au, Ag, Cu) Pono ka lewa palekana ma luna o 400°C e pale aku ai i ka hoʻomake ʻia ʻana o ka ea.
Graphite i hoʻopaʻa ʻia me ka lepo 1200°C – 1400°C Waena Haʻahaʻa / Waena Kūpono (Maʻalahi i nā hoʻokomo slag) Kiʻekiʻe ka haumia; ʻaʻole kūpono no ka hoʻomaʻemaʻe maikaʻi ʻana a i ʻole ka hana semiconductor.
Aniani Quartz i hoʻopili ʻia 1100°C – 1450°C Maikaʻi loa ʻAʻohe (Insulator) ʻAʻole maikaʻi (Pane me nā metala reactive) Hoʻomālielie i nā mahana kiʻekiʻe; hiki ke devitrification i ka wā o ke kaʻapuni wela.
ʻAlumina seramika (Al₂O₃) 1600°C – 1750°C ʻilihune (palupalu) ʻAʻohe (Insulator) Maikaʻi i nā wahi oxidizing Ke kūpaʻa haʻahaʻa i ka haʻalulu wela; hiki ke nahā nui ma lalo o nā loli wela wikiwiki.

4. Nā Kūlana Noi ʻOihana Koʻikoʻi a me ke Alakaʻi Koho

ʻIke Koʻikoʻi:Pono e hoʻopilikino ʻia nā ana o ka ipu hoʻoheheʻe, nā pae maʻemaʻe o ka lehu, a me nā uhi ʻili i ke kiko heheʻe, ka hana kemika, a me ke kūlana maʻemaʻe o ka mea i manaʻo ʻia.

Alakaʻi Koho Noi

Mea Pahuhopu / Noi Kiko Heheʻe (°C) Papa Maʻemaʻe i Manaʻo ʻia Nā Pōmaikaʻi o ke Kaʻina Hana Koʻikoʻi
Ka Hana ʻana i ka Mahana Haʻahaʻa o Tin (Sn) 232°C Papa Maʻamau (≤ 20 ppm) Ka liʻiliʻi o ka hoʻoʻino kemika, e hāʻawi ana i kahi ola hana lōʻihi loa.
Ka Hoʻoheheʻe ʻana o ka Aluminum (Al) a me ke Alloy 660 °C Papa Maʻamau / Uhi ʻia Kū'ē maika'i loa i ka ho'opili 'ana o ka lepo; pale ka uhi SiC koho i ka oxidation o ka 'ili.
Hoʻomaʻemaʻe a me ka hoʻoheheʻe kālā (Ag) 962 °C Maʻemaʻe Kiʻekiʻe (≤ 10 ppm) ʻO ka hoʻopau ʻana o ka ʻili laumania e pale aku i ke komo ʻana o ke kālā i hoʻoheheʻe ʻia, e hoʻopau ana i ka pohō waiwai.
Ke Gula (Au) Hoʻoheheʻe a me ka Ninini ʻana 1064 °C ʻOi loa-Maʻemaʻe (≤ 5 ppm) ʻAʻohe leaching haumia, e hōʻoiaʻiʻo ana i ka hoʻokō piha ʻana me nā kūlana maikaʻi o ka bullion.
Hana Metallurgy Keleawe (Cu) 1085 °C Papa Kūlana Kiʻekiʻe-Density ʻO ke alakaʻi wela kiʻekiʻe (k = 110–130 W/(m·K)) e hōʻemi i ka hoʻohana ʻana i ka ikehu i loko o nā umu hoʻokomo.
Ka huki ʻana o ka Semiconductor Silicon (Si) 1410 °C Papa Semiconductor (≤ 5 ppm + SiC) Hoʻomalu pono i ka haumia o ka boron a me ka phosphorus no ka ulu ʻana o ka kristal mono/poly-silicon.

5. Nā Ana Maʻamau a me nā Hiki Hana Machining CNC Maʻamau

ʻIke Koʻikoʻi:Uhi nā nui ipu hoʻoheheʻe maʻamau i nā mana mai1 kg a i 16 kgMe ka hoʻohana ʻana i nā poloka graphite isostatic nui (a hiki i ka D1440 × 1200 mm), hāʻawi ʻo VET Energy i ka mīkini kikoʻī maʻamau no nā geometries kūikawā.

[Kahi Kiʻi: Nā ipu hoʻoheheʻe graphite Isostatic maʻamau me nā poʻi (1KG, 3KG-B, 5.5KG)]

Nā Ana o ka ipu hoʻoheheʻe Graphite maʻamau (Nā koho uhi e kūlike ana)

Ka Hoʻākāka Mana (Mana Hoʻoheheʻe) Anawaena Waho (OD) Anawaena o loko (ID) Kiʻekiʻe holoʻokoʻa (H) Mānoanoa o ka paia a me lalo
Kumu Hoʻohālike 1 KG 58 mm 35 mm 88 mm 11.5 mm
Kumu Hoʻohālike 2 KG 65 mm 44 mm 110 mm 10.5 mm
Kumu Hoʻohālike 3 KG (ʻAno B) 85 mm 60 mm 105 mm 12.5 mm
Kumu Hoʻohālike 5.5 KG 105 mm 70 mm 150 mm 17.5 mm

Nā Hale Mīkini a me ka Hōʻoiaʻiʻo Kūlana

Hoʻokele ʻo VET Energy i kahi hale hana mīkini holomua 6,000 m² i lako me nā kikowaena wili CNC kikoʻī a me nā Mīkini Mea Ana Hoʻohui (CMM):

  • Nā Kikowaena Wili CNC Kiʻekiʻe-Precision (10 Units):ʻO ka envelopa hana kiʻekiʻe loa 700 × 600 × 500 mm, ka hoʻomanawanui machining a hiki i ka ±0.005 mm.

  • Nā Kikowaena Mīkini CNC Nui (10 ʻĀpana):ʻO ka envelopa hana kiʻekiʻe loa he 1000 × 2000 × 1800 mm, ka hoʻomanawanui machining a hiki i ka ±0.03 mm.

  • Mīkini Ana Hoʻonohonoho (CMM):Ka laulā nānā ʻana he 900 × 1500 × 800 mm, ʻo ka pololei o ke ana ʻana he 0.005 mm.

  • Nā Uhi Hoʻonui ʻIli:Loaʻa nā uhi Silicon Carbide (CVD SiC) a me Pyrolytic Carbon (PyC) e hoʻoikaika i nā waiwai anti-oxidation a me nā waiwai non-wetting.

6. Alakaʻi Hana a me ka Mālama no ke Ola Hana Loa

ʻIke Koʻikoʻi:ʻO ka hoʻomehana mua ʻana i nā ipu hoʻoheheʻe i ~500°C a me ka mālama ʻana i nā kūlana lewa ambient e pale ai i ka hemo ʻana o ka makū a hoʻolohi i ka oxidation thermal.

  1. Ka mālama ʻana me ka ʻole o ka makū:Loaʻa i ka graphite kahi ʻano porous e omo ana i ka makū o ke kaiapuni. E mālama i nā ipu hoʻoheheʻe ma kahi maloʻo a me ka ea ma mua o ka hoʻohana ʻana.

  2. Hoʻomehana mua a me ka hoʻomaloʻo mālie:Ma mua o ka hana mua ʻana, e hoʻonui mālie i ka mahana i kahi o 500 °C a paʻa no 30-60 mau minuke e kipaku aku i ka makū, e pale ana i ka nahā ʻana i hana ʻia e ka mahu.

  3. Ka Hoʻopili Kūpono ʻana:Mai hoʻokomo paʻa i nā poloka metala anu a paʻa i loko o ke kumu ipu hoʻoheheʻe. ʻO ka hoʻonui ʻana o ka metala ma lalo o ka wela e hoʻopuka i ke kaomi mechanical koʻikoʻi e hiki ai ke haki i nā paia.

  4. Ka wehe ʻana i ka Slag ma hope o ka heheʻe ʻana:E hoʻomaʻemaʻe i ke koena o ka ʻōpala me ka hoʻohana ʻana i nā mea hana kūikawā ʻoiai e mahana ana ke ipu hoʻoheheʻe e pale aku i ka paʻa ʻana o ka ʻōpala mai nā kiko koʻikoʻi.

  5. Ka Hoʻololi Kauwā:No nā ipu hoʻoheheʻe paʻa i loko o nā umu hoʻomau, e hoʻohuli pinepine i ka ipu hoʻoheheʻe e hoʻolaha like i ka wela a hoʻolōʻihi i ke ola.

7. Nā Nīnau i Nīnau Pinepine ʻia (FAQ)

Q1: No ke aha i ʻoi aku ai ka maikaʻi o nā ipu hoʻoheheʻe graphite isostatic ma mua o nā ipu hoʻoheheʻe graphite extruded?

Hoʻopaʻa ʻia ka graphite isostatic me ka hoʻohana ʻana i ke kaomi hydrostatic isotropic, e hāʻawi ana i nā waiwai kūkulu like (isotropy ratio 1.05–1.25). Loaʻa i ka graphite extruded ke kuhikuhi ʻana o ka palaoa, e alakaʻi ana i ka hoʻonui ʻokoʻa ʻole o ka thermal a me ka nahā ʻana i ka wā o ka thermal shock.

Q2: I ka mahana hea e hoʻomaka ai ka oxidation graphite?

I loko o kahi lewa ākea e loaʻa ana ka oxygen, hoʻomaka ka graphite e oxidize ma kahi o 400 °C. I loko o kahi lewa vacuum a i ʻole ke kinoea inert (Argon/Nitrogen), hiki i ka graphite maʻemaʻe kiʻekiʻe ʻo VET Energy ke kū i nā mahana a hiki i 2760 °C.

Q3: Pehea ka hopena o ka lehu i ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i nā metala makamae?

Hōʻike ka lehu i nā haumia kumu (e laʻa, Fe, Al, Si). I nā mahana kiʻekiʻe, hoʻolaha kēia mau haumia i loko o ke gula a i ʻole ke kālā i hoʻoheheʻe ʻia, e hoʻololi ana i ka maikaʻi a me ka ʻōlinolino. Hoʻopau ka papa ultra-pure ≤ 5 ppm o VET Energy i nā pilikia haumia.

Q4: Hiki iā VET Energy ke hāʻawi i nā geometries maʻamau a me nā uhi kūikawā?

ʻAe. Hana mākou i nā geometries maʻamau, nā uhi wili, a me nā hoʻolālā multi-hole, me nā uhi CVD Silicon Carbide (SiC) e hoʻomaikaʻi i ke kūpaʻa ʻana i ka ʻaʻahu, ka pale ʻana i ka oxidation, a me ka inertness kemika.

8. Hōʻuluʻulu Manaʻo & Nā Kūkākūkā Kumuwaiwai

Me ka hoʻohana ʻana i ka ʻike lehu haʻahaʻa loa (≤ 5 ppm), ka nui o ka nui, a me ka conductivity thermal kūikawā (110–130 W/(m·K)), hāʻawi nā ipu hoʻoheheʻe graphite isostatic kiʻekiʻe o VET Energy i ka hana lōʻihi no ka metallurgy ʻoihana, ka huki kristal, a me ka mālama wela lab. Hāʻawi ʻo VET Energy i kahi kaulahao lako hoʻopau-a-hopena—mai ka hoʻomākaukau ʻana i nā mea maka a me ka mīkini CNC a hiki i nā uhi CVD SiC holomua.

Hoʻolaha ʻenehana a me nā kikoʻī pili

  • Mea Hoʻopuka:Ke Keʻena Kākoʻo ʻenehana, VET Energy (Ningbo Vet Energy Technology Co., Ltd.)

  • Pūnaewele Kūhelu: www.vet-china.com

  • Hoʻolaha ʻIkepili:Hōʻike nā waiwai kikoʻī ma aneʻi i nā hoʻokolohua hoʻokolohua e VET Energy. E ʻoluʻolu e nīnau i kā mākou hui loea no nā ʻae ʻia maʻamau a me ke alakaʻi noi.


Ka manawa hoʻouna: Iulai-24-2026
Kamaʻilio Pūnaewele WhatsApp!