Haʻawina Hihia: Nā ʻĀpana Graphite Maʻemaʻe Kiʻekiʻe no nā kahua Thermal Monocrystalline 32-'īniha ma ka ulu ʻana o ka Silicon N-Type
Mea kākau:ʻO Kauka Steven Qiu, ʻenekinia mea Semiconductor kiʻekiʻe a me ka Luna Hoʻokele ʻenehana ma VET Energy
Paʻi ʻia:ʻAukake 2026 | Hōʻike Kahua ʻenehana a me ka loiloi ʻenekinia
Hōʻuluʻulu Manaʻo a me ka Nānā Papahana
- ʻOihana:Hana ʻana i ka Solar PV a me ka Semiconductor Silicon Wafer
- Kaʻina Hana:ʻO ka huki ʻana o ka ʻano N (TOPCon/HJT) Monocrystalline Czochralski (CZ)
- Lako:Nā Umu Kahua Wera Anawaena Nui 32-'Īniha (50 mau ʻĀpana i Loiloi ʻia)
- Hoʻonā:Nā ʻāpana Graphite Isostatic i hoʻomaʻemaʻe ʻia i ka Halogen hohonu (lehu ≤ 2-5 ppm) + Uhi ʻana o CVD SiC
- Ka hopena i helu ʻia:Hoʻonui ʻia ke ola o ka mea lawe liʻiliʻi mai <100 μs a i >380 μs; ʻO ka hua o ka Ingot +18%; ʻO ke ola o ke kahua wela +30%.
Hoʻolauna: ʻO ka 32-Inch Thermal Field Challenge i ka ulu ʻana o ka Silicon N-Type High-Efficiency
I ka neʻe wikiwiki ʻana o ka ʻoihana photovoltaics mai ka ʻano P-PERC a i nā ʻano N-TOPCon a me Heterojunction (HJT) solar cell, ua piʻi nui ke koi no nā wafers silicon maʻemaʻe kiʻekiʻe. Pono nā substrates silicon N-type i ke ola lawe liʻiliʻi kiʻekiʻe loa (maʻamau >300 μs) a me ka haumia metala hoʻololi kokoke i ka zero.
No ka hoʻonui ʻana i ka throughput, ke hoʻonui nei nā mea hana wafer silicon i nā nui o ka ipu hoʻoheheʻe i 32 ʻīniha a ma ʻō aku. Eia nō naʻe, ʻo ka hana ʻana ma nā mahana ma mua o 1,450°C i loko o kahi kahua wela 32-ʻīniha e hoʻolauna i nā pilikia ʻenekinia koʻikoʻi:
- Ka Hoʻohaʻahaʻa Wela a me ke ʻAno like ʻole:Hoʻoulu nā gradients thermal nui i ka hoʻololi ʻana o ke ʻano a me ka nahā ʻana i nā mea hoʻomehana graphite maʻamau a me nā pedestals.
- Ka haumia metala lele:Hoʻomake nā mea haumia trace (Fe, Ni, Cu, V) i loko o ka graphite maʻamau i ka wā e huki lōʻihi ʻia ai ke kristal, e neʻe pololei ana i loko o ka silicon heheʻe a e hoʻoulu ai i ka hōʻino nui ʻana o ke ola o ka mea lawe liʻiliʻi.
Hoʻonā ʻenekinia: Ultra-Purified Isostatic Graphite & CVD SiC Shielding
No ka lanakila ʻana i kēia mau pilikia loea, ua hoʻolaha ʻo VeTek Semiconductor i kahi hoʻonui piha ʻana i nā mea ma o ka ʻaha kahua wela 32-ʻīniha holoʻokoʻa, nona ka graphite isostatic density kiʻekiʻe i hoʻokomo ʻia i ka hoʻomaʻemaʻe halogen wela kiʻekiʻe a me nā uhi pale CVD Silicon Carbide (SiC).
1. Hoʻomaʻemaʻe Halogen Hohonu (ʻIke Lehu ≤ 2-5 ppm)
Loaʻa i ka graphite ʻoihana maʻamau ka nui o ka lehu ma waena o 50 ppm a me 200 ppm. Ma 1,450°C ma lalo o ka vacuum, e hoʻoheheʻe kēia mau mea trace. Hoʻololi kā mākou hana hoʻomaʻemaʻe kinoea Halogen kiʻekiʻe i nā haumia metala i nā hui halogen volatile (chlorides/fluorides) ma nā mahana ma luna o 2,400°C.
- Hoʻāʻo ʻana o ka Glow Discharge Mass Spectrometry (GDMS)hōʻoia i ka hoʻemi ʻia ʻana o nā mea haumia metala āpau (Fe, Cr, Ni, Cu, V) i lalo o 0.5 ppm, e hoʻokō ana i kahi ʻike lehu holoʻokoʻa o ≤ 2 ppm.
- Hopena:Hoʻopau i ka ulu ʻana o ke kinoea metala hope, e pale ana i ka waihona silicon i hoʻoheheʻe ʻia mai ka haumia i ka wā o 120+ mau hola o nā pōʻaiapuni huki mau.
2. ʻAno Graphite Isostatic High-Density no ke kūpaʻa wela
Hoʻopili ʻia nā ʻāpana e like me ka mea hoʻomehana graphite, ka mea hoʻoulu ipu hoʻoheheʻe, a me ka pahu insulation mai ka graphite isostatic kiʻekiʻe-density (1.85 g/cm³), fine-grain (ka nui o ka palaoa <10 μm). Hōʻoia ka paʻi isostatic i ka hoʻonui like ʻana o ka thermal isotropic (CTE), e pale ana i ke kaumaha thermal localized, warping, a me ka haki mechanical ma lalo o nā pōʻaiapuni thermal i hana hou ʻia.
3. Uhi Palekana CVD Silicon Carbide (SiC)
Ua uhi ʻia nā ʻāpana koʻikoʻi i hōʻike ʻia i ka mahu silicon a me nā kinoea purge corrosive me kahi papa mānoanoa 50-80 μm o ka Chemical Vapor Deposition (CVD) Silicon Carbide (SiC).
- Pale ʻAi ʻAi:Kāohi i ka hopena kemika pololei ma waena o ka mahu silicon volatile (SiO) a me ka substrate graphite (SiO + 2C → SiC + CO), e hoʻopau ana i ka ʻino ʻana o ka ʻili a me ka hana ʻana o ka lepo kalapona.
- Pololei Geometric:Mālama i ke ʻano kahua wela pololei ma luna o 30% mau wā lawelawe lōʻihi.
ʻIkepili Hana i Ana ʻia a me ka Hōʻoia Hoʻāʻo Kahua
Ua mālama ʻia kahi hoʻāʻo kahua hoʻohālikelike 6 mahina ma waena o 50 mau umu CZ 32-'īniha ma kahi hale hana wafer silicon TOPCon tier-1. Aia ma lalo ka pae hoʻohālikelike hana e hoʻohālikelike ana i nā ʻāpana graphite maʻamau me ka hopena kahua wela i hoʻomaʻemaʻe ʻia o VeTek Semiconductor:
| Ana Hana | Kahua Wera Graphite Maʻamau | ʻO VeTek Hoʻomaʻemaʻe Graphite Solution |
|---|---|---|
| ʻO ka nui o ka lehu Graphite | 50 – 100 ppm | ≤ 2 – 5 ppm (Halogen i hoʻomaʻemaʻe ʻia) |
| Nā Mea Haumia Metala Holoʻokoʻa (GDMS) | ~15 – 30 ppm (Fe, Ni, V) | < 0.5 ppm |
| Ka awelika o ke ola o ka mea lawe hapa liʻiliʻi | 85 – 120 μs (ʻokoʻa kiʻekiʻe) | 380 – 450 μs (Kiʻekiʻe Mau) |
| Ka lōʻihi o ke ola o ka ʻāpana kahua wela | 60 – 75 mau pōʻaiapuni huki | 90 – 105 Nā Pōʻaiapuni Huki (+30%) |
| Ka helu o ka hua o ka ʻano A-N Ingot | 74.5% | 92.5% (+18% Hoʻomaikaʻi Hua) |
Nā Nīnau i Nīnau Pinepine ʻia (FAQ)
Q1: He aha ke kumu nui o ka pohō hua i ka huki silicon monocrystalline ʻano N 32-'īniha?
A1:ʻO ka pohō hua ke kumu nui o ka haumia ʻana o ka metala (e hōʻemi ana i ke ola o ka mea lawe liʻiliʻi) a me ka hoʻololi ʻana o ka wela o nā mea hoʻomehana graphite nui, ka mea e hoʻopilikia ai i ka pilina kristal paʻa-wai.
Q2: Pehea e hiki ai i ka hoʻomaʻemaʻe halogen ke hoʻokō i ka nui o ka lehu ma lalo o 5 ppm?
A2:Hoʻopili ka hoʻomaʻemaʻe halogen i nā ʻāpana graphite i nā mahana kiʻekiʻe (>2,400°C) me ka hoʻokomo ʻana i nā kinoea chlorine a me fluorine. Hoʻopili kēia mau kinoea me nā mea metala hohonu, e hoʻolilo ana iā lākou i mau halides metala lele e pakele ana, e waiho ana i ka graphite ultra-pure.
Q3: Hiki ke uhi hou ʻia ka uhi CVD SiC a hoʻopili ʻia paha i nā ʻāpana kahua wela graphite āpau?
A3:Hoʻopili maikaʻi ʻia ka uhi ʻana o CVD SiC i nā ʻāpana e hoʻohana nui ʻia e like me nā ipu hoʻoheheʻe graphite, nā alakaʻi kahe, nā mea hoʻomehana, a me nā pahu insulation. Ma muli o ke ʻano o ka substrate, hiki ke hana hou ʻia a uhi hou ʻia kekahi mau ʻāpana, e hoʻohaʻahaʻa ana i nā kumukūʻai hana holoʻokoʻa.
Hopena & Kūkākūkā ʻenehana
ʻO ka hoʻonui ʻana i nā ʻāpana graphite isostatic ultra-purified me ka pale ʻana o CVD SiC e hāʻawi i kahi ala pololei a hiki ke ana ʻia e hoʻoponopono ai i nā bottlenecks hua a me ka haumia i ka ulu ʻana o ka silicon monocrystalline N-ʻano 32-ʻīniha. Me ka hoʻomaikaʻi ʻana o 18% i ka hua mua a me ka lōʻihi o ke ola o ke kahua thermal 30%, hiki i nā mea hana wafer solar ke hoʻokō i ka ROI nui.
E hoʻonui i kāu kahua Thermal Monocrystalline i kēia lā
Hoʻoiho i ka Pepa ʻIkepili ʻenehana piha (TDS) a i ʻole e kelepona i kā mākou poʻe loea ʻenekinia no kahi ʻōlelo kūʻai i hana ʻia.
E hoʻonui i kāu kahua Thermal Monocrystalline i kēia lā
Hoʻoiho i ka Pepa ʻIkepili ʻenehana piha (TDS) a i ʻole e kelepona i kā mākou poʻe loea ʻenekinia no kahi ʻōlelo kūʻai i hana ʻia.
Ka manawa hoʻouna: Aug-15-2026