Аерографітова форма для фотоелектричних систем

Короткий опис:

Застосування: плавлення та спікання металу

Опір (мкОм·м): 8-10 Ом

Пористість (%): макс. 12%

Насипна щільність (г/см³): >1,6 г/см³

Міцність на стиск: >60 МПа, >80 МПа


Деталі продукту

Теги продукту

Аерографітові вироби з вуглецевого матеріалуДля фотоелектричних систем
 
 
Матеріали Високочистий графіт
Насипна щільність >1,80 г/см3
Опір 8-10 Ом
Розмір посилення <=325 меш
Міцність на стиск >80 МПа
Міцність на згин >45 МПа
Твердість за Шором >48
Вміст золи <0,1%
Пористість <12%
Розмір і форма Налаштовані

 

Аерографітові вироби з вуглецевого матеріалу, кулька для фотоелектричних системАерографітові вироби з вуглецевого матеріалу, кулька для фотоелектричних системАерографітові вироби з вуглецевого матеріалу, кулька для фотоелектричних системАерографітові вироби з вуглецевого матеріалу, кулька для фотоелектричних системАерографітові вироби з вуглецевого матеріалу, кулька для фотоелектричних системАерографітові вироби з вуглецевого матеріалу, кулька для фотоелектричних систем

 


  • Попередній:
  • Далі:

  • СУМІЖНІ ТОВАРИ

    Онлайн-чат у WhatsApp!