II. Įvadas
Porėta silicio karbido (porėta SiC) keramikayra pažangios keraminės medžiagos, kuriose sujungiamos išskirtinės silicio karbido savybės su kruopščiai suprojektuota porėta struktūra. Skirtingai nuo tankios SiC keramikos, porėtame SiC yra tarpusavyje sujungtų porų, kurios suteikia papildomų funkcijų, įskaitant kontroliuojamą pralaidumą, lengvą konstrukciją, šilumos izoliaciją ir pagerintas skysčių transportavimo galimybes.
Dėl puikaus šiluminio stabilumo, atsparumo cheminiam poveikiui ir mechaniniam patikimumui porėta SiC keramika tampa vis svarbesnė aukštos temperatūros pramonės šakose, ypač puslaidininkių gamyboje, kur proceso aplinkai reikalingas didelis grynumas, atsparumas korozijai ir ilgalaikis eksploatacinis stabilumas.
II. Porėtos silicio karbido keramikos medžiagų savybės
1. Stabilumas aukštoje temperatūroje
Silicio karbidas yra žinomas dėl puikių savybių esant ekstremalioms temperatūroms dėl stiprių Si-C kovalentinių jungčių. Akytasis SiC išlaiko struktūrinį vientisumą aukštoje temperatūroje, todėl tinka puslaidininkių terminiam apdorojimui, epitaksijos sistemoms ir krosnių komponentams.
Mažas šiluminio plėtimosi koeficientas ir puikus atsparumas šiluminiam smūgiui padeda sumažinti deformaciją ir pagerinti proceso stabilumą.
2. Puikus atsparumas cheminėms medžiagoms ir plazmai
Puslaidininkių gamyboje naudojamos agresyvios dujos ir plazmos aplinka, įskaitant chloro pagrindu pagamintas dujas, fluoro plazmą ir aukštos temperatūros reaktyviąsias atmosferas.
Porėtos SiC keramikos savybės:
- Puikus atsparumas oksidacijai
- Didelis cheminis stabilumas
- Stiprus atsparumas plazmos erozijai
- Mažos užterštumo savybės
Šie privalumai padeda sumažinti dalelių susidarymą ir pailginti puslaidininkinės įrangos komponentų tarnavimo laiką.
3. Kontroliuojamas poringumas ir dujų pralaidumas
Pagrindinis akytojo SiC privalumas yra reguliuojama porų struktūra. Kontroliuodami porų dydį, pasiskirstymą ir junglumą, gamintojai gali optimizuoti mechaninio stiprumo ir pralaidumo pusiausvyrą.
Ši unikali savybė leidžia akytam SiC atlikti šias funkcijas:
- Dujų difuzijos medžiagos
- Filtravimo struktūros
- Šilumos valdymo komponentai
III. Porėtos silicio karbido keramikos apdorojimo technologijos
Porėtos SiC keramikos eksploatacinės savybės labai priklauso nuo gamybos metodų ir mikrostruktūros dizaino.
Karboterminė redukcija
Šis tradicinis procesas leidžia gauti porėtą SiC vykstant aukštoje temperatūroje vykstančioms reakcijoms tarp silicio turinčių medžiagų ir anglies šaltinių. Tai leidžia suformuoti labai grynus SiC karkasus, pasižyminčius puikiu terminiu stabilumu.
Skystosios fazės sukepinimas
Skystosios fazės sukepinimo procese naudojami priedai, siekiant pagerinti dalelių sukibimą ir tankinimą. Reguliuodami sukepinimo temperatūrą ir priedų chemiją, gamintojai gali pasiekti optimizuotą mechaninį stiprumą ir porų pasiskirstymą.
Cheminė garų infiltracija (CVI)
CVI į porėtas struktūras įveda dujinius pirmtakus, kur SiC nusėda ant vidinių paviršių. Šis metodas pagerina konstrukcijos stiprumą, grynumą ir atsparumą aukštai temperatūrai.
Putojimo ir šablonų metodai
Putojimo ir šablonų pagrindu sukurtos technologijos sukuria hierarchines porų struktūras, kontroliuodamos poras formuojančius agentus arba aukojamus šablonus. Šie metodai užtikrina puikų pralaidumą ir pritaikytas porų architektūras.
Ⅳ. Taikymas puslaidininkių gamyboje
Dėl unikalaus terminių, cheminių ir struktūrinių savybių derinio, porėta SiC keramika vis dažniau naudojama puslaidininkių procesuose.
Dujų paskirstymo komponentai
CVD, PECVD ir ALD sistemose porėtas SiC gali būti naudojamas kaip dujų difuzoriai ir paskirstymo plokštės, siekiant užtikrinti vienodą proceso dujų srautą ir pagerinti plėvelės nusodinimo nuoseklumą.

Plazminio apdorojimo įranga
Plazminio ėsdinimo ir valymo sistemose porėti SiC komponentai pasižymi puikiu atsparumu korozinei plazmos aplinkai, sumažindami dalelių užterštumą ir pagerindami įrangos patikimumą.
SiC ir GaN epitaksijos sistemos
Trečiosios kartos puslaidininkių gamyboje porėtas SiC padeda pagerinti šilumos valdymą ir proceso stabilumą aukštos temperatūros epitaksinės augimo aplinkoje.
Vaflių tvarkymo komponentai
Poringi SiC vakuuminiai griebtuvaiirplokštelių laikikliaiužtikrina didelį tikslumą, mažą užterštumą ir puikų cheminį atsparumą plokštelių patikrai, litografijai ir terminiam apdorojimui.
III. Išvada
Porėta silicio karbido keramikaatstovauja evoliucijaiSiC medžiagosNuo tradicinės struktūrinės keramikos iki funkcinių puslaidininkinių komponentų. Pažangių apdorojimo technologijų ir tikslios porų struktūros kontrolės dėka porėtas SiC pasiekia idealų pusiausvyrą tarp stiprumo, pralaidumo, terminio atsparumo ir cheminio stabilumo.
Puslaidininkių gamybai toliau tobulėjant siekiant aukštesnės temperatūros ir griežtesnės užterštumo kontrolės, porėta SiC keramika vaidins vis svarbesnį vaidmenį.CVD sistemos, plazminio apdorojimo įranga, plokštelių tvarkymas ir naujos kartos puslaidininkių gamybos technologijos.
Įrašo laikas: 2026 m. liepos 31 d.
