CVD-SiCकोटिंगमा एकरूप संरचना, कम्प्याक्ट सामग्री, उच्च तापक्रम प्रतिरोध, अक्सिडेशन प्रतिरोध, उच्च शुद्धता, एसिड र क्षार प्रतिरोध र जैविक अभिकर्मक, स्थिर भौतिक र रासायनिक गुणहरू सहितको विशेषताहरू छन्।

उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट सामग्रीको तुलनामा, ग्रेफाइट ४०० डिग्री सेल्सियसमा अक्सिडाइज हुन थाल्छ, जसले गर्दा अक्सिडेशनको कारणले पाउडरको क्षति हुन्छ, जसले गर्दा परिधीय उपकरणहरू र भ्याकुम चेम्बरहरूमा वातावरणीय प्रदूषण हुन्छ, र उच्च-शुद्धता वातावरणको अशुद्धता बढ्छ।

यद्यपि, SiC कोटिंगले १६०० डिग्रीमा भौतिक र रासायनिक स्थिरता कायम राख्न सक्छ। यो आधुनिक उद्योगमा, विशेष गरी अर्धचालक उद्योगमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ।

हाम्रो कम्पनीले ग्रेफाइट, सिरेमिक र अन्य सामग्रीहरूको सतहमा CVD विधिद्वारा SiC कोटिंग प्रक्रिया सेवाहरू प्रदान गर्दछ, जसले गर्दा कार्बन र सिलिकन युक्त विशेष ग्यासहरूले उच्च तापक्रममा प्रतिक्रिया गरेर उच्च शुद्धता SiC अणुहरू प्राप्त गर्छन्, लेपित सामग्रीहरूको सतहमा जम्मा गरिएका अणुहरू, SIC सुरक्षात्मक तह बनाउँछन्। बनेको SIC ग्रेफाइट आधारमा दृढतापूर्वक बाँधिएको हुन्छ, जसले ग्रेफाइट आधारलाई विशेष गुणहरू दिन्छ, जसले गर्दा ग्रेफाइटको सतह कम्प्याक्ट, पोरोसिटी-मुक्त, उच्च तापक्रम प्रतिरोध, जंग प्रतिरोध र अक्सिडेशन प्रतिरोधी हुन्छ।

मुख्य विशेषताहरू:

१. उच्च तापक्रम अक्सीकरण प्रतिरोध:

तापक्रम १६०० सेल्सियससम्म हुँदा पनि अक्सिडेशन प्रतिरोध धेरै राम्रो हुन्छ।

२. उच्च शुद्धता: उच्च तापक्रम क्लोरिनेशन अवस्थामा रासायनिक वाष्प निक्षेपणद्वारा बनाइएको।

३. क्षरण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, कम्प्याक्ट सतह, मसिना कणहरू।

४. जंग प्रतिरोध: एसिड, क्षार, नुन र जैविक अभिकर्मकहरू।

CVD-SIC कोटिंग्सको मुख्य विशिष्टताहरू: