Paturot prātā principu “Klients vispirms, augsta kvalitāte pirmajā vietā”, mēs cieši sadarbojamies ar saviem klientiem un nodrošinām viņiem efektīvus un kvalificētus piegādātājus Ķīnas augsta mangāna tērauda liešanas grafīta lietņu veidņu ražotājam. Ar plašu klāstu, augstāko kvalitāti, saprātīgām cenām un stilīgu dizainu mūsu produkti tiek plaši izmantoti šajā un citās nozarēs.
Paturot prātā principu “Klients vispirms, augsta kvalitāte pirmajā vietā”, mēs cieši sadarbojamies ar saviem klientiem un nodrošinām viņiem efektīvus un kvalificētus pakalpojumu sniedzējus.Ķīnas stieņu veidne tērauda rūpnīcai, Kaļamā čuguna stieņu veidne, Biznesa filozofija: uztveriet klientu kā centru, uztveriet kvalitāti kā dzīvi, integritāti, atbildību, fokusu, inovācijas. Mēs sniegsim kvalificētu kvalitāti apmaiņā pret klientu uzticību, un lielākā daļa pasaules lielāko piegādātāju to darīs. Visi mūsu darbinieki strādās kopā un virzīsies uz priekšu kopā.
Ogleklis/oglekļa kompozīti(turpmāk tekstā — “C / C vai CFC”) ir kompozītmateriāla veids, kas ir balstīts uz oglekli un pastiprināts ar oglekļa šķiedru un tās izstrādājumiem (oglekļa šķiedras sagatavēm). Tam piemīt gan oglekļa inerce, gan oglekļa šķiedras augstā izturība. Tam ir labas mehāniskās īpašības, karstumizturība, izturība pret koroziju, berzes slāpēšana, kā arī siltumvadītspēja un elektrovadītspēja.
CVD-SiCPārklājumam piemīt vienmērīga struktūra, kompakts materiāls, augsta temperatūras izturība, oksidēšanās izturība, augsta tīrības pakāpe, izturība pret skābēm un sārmiem un organiskais reaģents, ar stabilām fizikālām un ķīmiskām īpašībām.
Salīdzinot ar augstas tīrības pakāpes grafīta materiāliem, grafīts sāk oksidēties 400 °C temperatūrā, kas oksidēšanās dēļ izraisa pulvera zudumu, kā rezultātā perifērijas ierīces un vakuuma kameras tiek piesārņotas, un palielinās augstas tīrības pakāpes vides piemaisījumi.
Tomēr SiC pārklājums var saglabāt fizikālo un ķīmisko stabilitāti 1600 grādos, to plaši izmanto mūsdienu rūpniecībā, īpaši pusvadītāju rūpniecībā.
Mūsu uzņēmums nodrošina SiC pārklāšanas procesa pakalpojumus, izmantojot CVD metodi grafīta, keramikas un citu materiālu virsmām, lai īpašas gāzes, kas satur oglekli un silīciju, reaģētu augstā temperatūrā, iegūstot augstas tīrības pakāpes SiC molekulas, molekulas nogulsnējas uz pārklāto materiālu virsmas, veidojot SIC aizsargslāni. Izveidotais SIC ir stingri saistīts ar grafīta bāzi, piešķirot grafīta bāzei īpašas īpašības, tādējādi padarot grafīta virsmu kompaktu, bez porainības, izturīgu pret augstām temperatūrām, koroziju un oksidēšanos.
Galvenās iezīmes:
1. Augstas temperatūras oksidēšanās izturība:
Oksidācijas izturība joprojām ir ļoti laba, ja temperatūra sasniedz pat 1600 °C.
2. Augsta tīrība: iegūta ar ķīmisku tvaiku nogulsnēšanos augstas temperatūras hlorēšanas apstākļos.
3. Izturība pret eroziju: augsta cietība, kompakta virsma, smalkas daļiņas.
4. Korozijas izturība: skābes, sārmi, sāls un organiskie reaģenti.
CVD-SIC pārklājumu galvenās specifikācijas:
| SiC-CVD | ||
| Blīvums | (g/cm³)
| 3.21 |
| Lieces izturība | (MPa)
| 470 |
| Termiskā izplešanās | (10–6/K) | 4
|
| Siltumvadītspēja | (W/mK) | 300
|
