U Wafer GaAs 4 Inch da VET Energy hè un materiale essenziale per i dispositi optoelettronici è d'alta velocità, cumpresi amplificatori RF, LED è cellule solari. Questi wafers sò cunnisciuti per a so alta mobilità di l'elettroni è a capacità di operà à frequenze più alte, facendu un cumpunente chjave in l'applicazioni avanzate di semiconductor. VET Energy assicura wafers GaAs di alta qualità cun spessore uniforme è difetti minimi, adattati per una gamma di prucessi di fabricazione esigenti.
Questi Wafer GaAs 4 Inch sò cumpatibili cù diversi materiali semiconduttori cum'è Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer è SiN Substrate, rendenduli versatili per l'integrazione in diverse architetture di dispositivi. Ch'ella sia aduprata per a produzzione Epi Wafer o à fiancu di materiali di punta cum'è Gallium Oxide Ga2O3 è AlN Wafer, offrenu una basa affidabile per l'elettronica di prossima generazione. Inoltre, i wafers sò cumplettamente cumpatibili cù i sistemi di manipulazione basati in Cassette, assicurendu operazioni liscia in l'ambienti di ricerca è di fabricazione di altu volume.
VET Energy offre una cartera cumpleta di sustrati semiconduttori, cumprese Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, è AlN Wafer. A nostra diversa linea di prudutti risponde à i bisogni di diverse applicazioni elettroniche, da l'elettronica di putenza à RF è optoelettronica.
VET Energy offre wafers GaAs persunalizabili per risponde à e vostre esigenze specifiche, cumprese diversi livelli di doping, orientazioni è finiture di superficia. U nostru squadra di esperti furnisce supportu tecnicu è serviziu post-vendita per assicurà u vostru successu.
SPECIFICAZIONI WAFERING
*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-tipu Ps-Grade, Sl=Semi-isolante
| Articulu | 8-inch | 6-inch | 4-inch | ||
| nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
| TTV (GBIR) | ≤ 6um | ≤ 6um | |||
| Arcu (GF3YFCD) - Valore assolutu | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
| Warp (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
| LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2μm | ||||
| Wafer Edge | Bisellu | ||||
FINITURA DI SUPERFICIE
*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-tipu Ps-Grade, Sl=Semi-isolante
| Articulu | 8-inch | 6-inch | 4-inch | ||
| nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
| Finitura di a superficia | Lucido ottico doppia faccia, Si-Face CMP | ||||
| Rugosità di a superficia | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
| Chips Edge | Nisunu permessu (lunghezza è larghezza ≥ 0,5 mm) | ||||
| Indentati | Nisunu permessu | ||||
| Scratchs (Si-Face) | Qty.≤5, Cumulative | Qty.≤5, Cumulative | Qty.≤5, Cumulative | ||
| Cracks | Nisunu permessu | ||||
| Exclusion di Edge | 3 mm | ||||
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