सीवीडी-एसआईसीकोटिंग में एकसमान संरचना, सघन सामग्री, उच्च तापमान प्रतिरोध, ऑक्सीकरण प्रतिरोध, उच्च शुद्धता, अम्ल और क्षार प्रतिरोध तथा कार्बनिक अभिकर्मक प्रतिरोध जैसी विशेषताएं होती हैं, साथ ही इसके भौतिक और रासायनिक गुण स्थिर होते हैं।

उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट पदार्थों की तुलना में, ग्रेफाइट 400 डिग्री सेल्सियस पर ऑक्सीकृत होना शुरू हो जाता है, जिससे ऑक्सीकरण के कारण पाउडर का नुकसान होता है, जिसके परिणामस्वरूप आसपास के उपकरणों और वैक्यूम कक्षों में पर्यावरणीय प्रदूषण होता है, और उच्च शुद्धता वाले वातावरण में अशुद्धियाँ बढ़ जाती हैं।

हालांकि, SiC कोटिंग 1600 डिग्री सेल्सियस पर भौतिक और रासायनिक स्थिरता बनाए रख सकती है, इसलिए इसका व्यापक रूप से आधुनिक उद्योग में, विशेष रूप से अर्धचालक उद्योग में उपयोग किया जाता है।

हमारी कंपनी ग्रेफाइट, सिरेमिक और अन्य सामग्रियों की सतह पर सीवीडी विधि द्वारा SiC कोटिंग प्रक्रिया सेवाएं प्रदान करती है। इस प्रक्रिया में कार्बन और सिलिकॉन युक्त विशेष गैसें उच्च तापमान पर प्रतिक्रिया करके उच्च शुद्धता वाले SiC अणु बनाती हैं। ये अणु लेपित सामग्रियों की सतह पर जमा होकर SiC सुरक्षात्मक परत का निर्माण करते हैं। निर्मित SiC ग्रेफाइट बेस से मजबूती से जुड़ जाता है, जिससे ग्रेफाइट बेस को विशेष गुण प्राप्त होते हैं। इस प्रकार, ग्रेफाइट की सतह सघन, छिद्ररहित, उच्च तापमान प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी और ऑक्सीकरण प्रतिरोधी बन जाती है।

मुख्य विशेषताएं:

1. उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध:

1600 डिग्री सेल्सियस तक के उच्च तापमान पर भी इसकी ऑक्सीकरण प्रतिरोधक क्षमता बहुत अच्छी रहती है।

2. उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण की स्थिति में रासायनिक वाष्प निक्षेपण द्वारा निर्मित।

3. क्षरण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, सघन सतह, महीन कण।

4. संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, लवण और कार्बनिक अभिकर्मकों के प्रति प्रतिरोध।

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग्स की मुख्य विशिष्टताएँ: