1. Киришүү
Кеуектүү кремний карбиди (кеуектүү SiC) керамикасыкремний карбидинин өзгөчө касиеттерин кылдаттык менен иштелип чыккан тешиктүү түзүлүш менен айкалыштырган өнүккөн керамикалык материалдар. Тыгыз SiC керамикасынан айырмаланып, тешиктүү SiC башкарылуучу өткөрүмдүүлүк, жеңил дизайн, жылуулук изоляциясы жана суюктукту ташуу мүмкүнчүлүгүн жакшыртуу сыяктуу кошумча функцияларды камсыз кылган бири-бири менен байланышкан тешикчелерди киргизет.
Эң сонун жылуулук туруктуулугу, химиялык туруктуулугу жана механикалык ишенимдүүлүгү менен, тешиктүү SiC керамикасы жогорку температуралуу тармактарда, айрыкча жарым өткөргүчтөрдү өндүрүүдө, технологиялык чөйрө жогорку тазалыкты, коррозияга туруктуулукту жана узак мөөнөттүү иштөө туруктуулугун талап кылган тармактарда барган сайын маанилүү болуп баратат.
Ⅱ. Кеуектүү кремний карбидинин керамикасынын материалдык касиеттери
1. Жогорку температурадагы туруктуулук
Кремний карбиди күчтүү Si-C коваленттик байланышынын аркасында экстремалдык температурада эң сонун иштеши менен белгилүү. Тешиктүү SiC жогорку температуралуу чөйрөдө структуралык бүтүндүктү сактайт, бул аны жарым өткөргүчтөрдү термикалык иштетүүгө, эпитаксиалдык системаларга жана мештин компоненттерине ылайыктуу кылат.
Анын төмөнкү жылуулук кеңейүү коэффициенти жана эң сонун жылуулук соккуга туруктуулугу деформацияны азайтууга жана процесстин туруктуулугун жакшыртууга жардам берет.
2. Жогорку химиялык жана плазмалык туруктуулук
Жарым өткөргүчтөрдү өндүрүү агрессивдүү газдарды жана плазмалык чөйрөлөрдү, анын ичинде хлор негизиндеги газдарды, фтор плазмасын жана жогорку температурадагы реактивдүү атмосфераны камтыйт.
Кеуектүү SiC керамикасы төмөнкүлөрдү сунуштайт:
- Мыкты кычкылданууга туруктуулук
- Жогорку химиялык туруктуулук
- Плазма эрозиясына күчтүү туруктуулук
- Аз булгануу мүнөздөмөлөрү
Бул артыкчылыктар жарым өткөргүч жабдууларда бөлүкчөлөрдүн пайда болушун азайтууга жана компоненттердин иштөө мөөнөтүн узартууга жардам берет.
3. Көзөнөктүүлүк жана газ өткөрүмдүүлүгүн көзөмөлдөө
Көзөнөктүү SiCтин негизги артыкчылыгы - анын жөнгө салынуучу тешикчелүү түзүлүшү. Өндүрүүчүлөр тешикчелердин өлчөмүн, бөлүштүрүлүшүн жана байланышын көзөмөлдөө менен механикалык бекемдик менен өткөрүмдүүлүктүн ортосундагы балансты оптималдаштыра алышат.
Бул уникалдуу өзгөчөлүк тешиктүү SiCге төмөнкүдөй функцияларды аткарууга мүмкүндүк берет:
- Газ диффузиялык материалдары
- Фильтрациялык курулмалар
- Жылуулук башкаруу компоненттери
Ⅲ. Кеуектүү кремний карбидинин керамикасын иштетүү технологиялары
Кеуектүү SiC керамикасынын иштеши көбүнчө өндүрүш ыкмаларына жана микроструктуранын дизайнына көз каранды.
Карботермикалык калыбына келтирүү
Бул салттуу процесс кремний камтыган материалдар менен көмүртек булактарынын ортосундагы жогорку температурадагы реакциялар аркылуу тешиктүү SiCди өндүрөт. Ал эң сонун жылуулук туруктуулугуна ээ жогорку тазалыктагы SiC каркастарын түзүүгө мүмкүндүк берет.
Суюк фазалуу бышыруу
Суюк фазадагы бышыруу бөлүкчөлөрдүн байланышын жана тыгыздыгын жакшыртуу үчүн кошумчаларды колдонот. Бышыруу температурасын жана кошумча химияны тууралоо менен өндүрүүчүлөр механикалык бекемдикти жана тешикчелердин бөлүштүрүлүшүн оптималдаштыра алышат.
Химиялык буу инфильтрациясы (CVI)
CVI газ түрүндөгү прекурсорлорду тешиктүү түзүлүштөргө киргизет, ал жерде SiC ички беттерге чөкмөлөйт. Бул ыкма структуранын бекемдигин, тазалыгын жана жогорку температурадагы бышыктыгын жакшыртат.
Көбүктөө жана шаблон ыкмалары
Көбүктөндүрүүчү жана шаблонго негизделген технологиялар тешикчелерди түзүүчү агенттерди же курмандык шаблондорун башкаруу менен иерархиялык тешикчелүү структураларды түзөт. Бул ыкмалар эң сонун өткөрүмдүүлүктү жана ыңгайлаштырылган тешикчелүү архитектураларды камсыз кылат.
Ⅳ. Жарым өткөргүчтөрдү өндүрүүдө колдонулушу
Термикалык, химиялык жана структуралык касиеттеринин уникалдуу айкалышынан улам, тешиктүү SiC керамикасы жарым өткөргүч процесстерде барган сайын көбүрөөк колдонулууда.
Газ бөлүштүрүүчү компоненттер
CVD, PECVD жана ALD системаларында тешиктүү SiC газ диффузорлору жана бөлүштүрүүчү пластиналар катары кызмат кыла алат, бул бирдиктүү технологиялык газ агымына жетишүү жана пленканын чөкмө консистенциясын жакшыртуу үчүн колдонулат.

Плазма иштетүүчү жабдуулар
Плазмалык оюу жана тазалоо системаларында, тешиктүү SiC компоненттери коррозиялык плазма чөйрөлөрүнө жогорку туруктуулукту камсыз кылат, бөлүкчөлөрдүн булганышын азайтат жана жабдуулардын ишенимдүүлүгүн жогорулатат.
SiC жана GaN эпитакси системалары
Үчүнчү муундагы жарым өткөргүчтөрдү өндүрүү үчүн, тешиктүү SiC жогорку температурадагы эпитаксиалдык өсүү чөйрөсүндө жылуулукту башкарууну жана процесстин туруктуулугун жакшыртууга өбөлгө түзөт.
Вафли менен иштөөчү компоненттер
Кеуектүү SiC вакуумдук патрондоружанапластина таянычтарыпластинаны текшерүү, литография жана термикалык иштетүү үчүн жогорку тактыкты, аз булганууну жана эң сонун химиялык туруктуулукту камсыз кылат.
Ⅴ. Жыйынтык
Кеуектүү кремний карбидинин керамикасыэволюциясын билдиретSiC материалдарысалттуу структуралык керамикадан функционалдык жарым өткөргүч компоненттерге чейин. Өркүндөтүлгөн иштетүү технологиялары жана тешикчелердин түзүлүшүн так башкаруу аркылуу тешикчелүү SiC бекемдик, өткөрүмдүүлүк, жылуулук көрсөткүчтөрү жана химиялык туруктуулуктун ортосундагы идеалдуу тең салмактуулукка жетишет.
Жарым өткөргүчтөрдү өндүрүү жогорку температурага жана булганууну көзөмөлдөөнү күчөтүүгө карай өнүгүп жаткандыктан, тешиктүү SiC керамикасы барган сайын маанилүү ролду ойной беретCVD системалары, плазмалык иштетүүчү жабдуулар, пластиналарды иштетүү жана кийинки муундагы жарым өткөргүчтөрдү жасоо технологиялары.
Жарыяланган убактысы: 2026-жылдын 31-июлу
