-
Bronnen van verontreiniging en reiniging van halfgeleiderwafers
Voor de productie van halfgeleiders zijn organische en anorganische stoffen nodig. Omdat het proces bovendien altijd in een cleanroom met menselijke tussenkomst plaatsvindt, raken halfgeleiderwafers onvermijdelijk verontreinigd met diverse onzuiverheden. Volgens...Lees verder -
Bronnen van vervuiling en preventie in de halfgeleiderindustrie
De productie van halfgeleiderapparaten omvat voornamelijk discrete apparaten, geïntegreerde schakelingen en hun verpakkingsprocessen. De productie van halfgeleiderapparaten kan worden onderverdeeld in drie fasen: de productie van het materiaal van de productbehuizing, de productie van de productwafer en de assemblage van het apparaat. Hieronder vallen...Lees verder -
Waarom moet ik mijn haar uitdunnen?
In de back-end procesfase moet de wafer (siliciumwafer met circuits aan de voorkant) aan de achterkant dunner worden gemaakt. Vervolgens wordt de wafer in stukken gesneden, gelast en verpakt. Dit om de montagehoogte van de verpakking te verkleinen, het volume van de chipverpakking te verkleinen en de thermische diffusie van de chip te verbeteren.Lees verder -
Syntheseproces voor hoogzuiver SiC-monokristalpoeder
In het groeiproces van siliciumcarbidekristallen is fysisch damptransport de huidige gangbare industrialisatiemethode. Voor de PVT-groeimethode heeft siliciumcarbidepoeder een grote invloed op het groeiproces. Alle parameters van siliciumcarbidepoeder richten zich...Lees verder -
Waarom zitten er 25 wafers in een waferdoos?
In de geavanceerde wereld van moderne technologie vormen wafers, ook wel siliciumwafers genoemd, de kerncomponenten van de halfgeleiderindustrie. Ze vormen de basis voor de productie van diverse elektronische componenten zoals microprocessoren, geheugens, sensoren, enz., en elke wafer...Lees verder -
Veelgebruikte sokkels voor dampfase-epitaxie
Tijdens het dampfase-epitaxieproces (VPE) is de rol van de sokkel het ondersteunen van het substraat en het zorgen voor een gelijkmatige verwarming tijdens het groeiproces. Verschillende soorten sokkels zijn geschikt voor verschillende groeiomstandigheden en materiaalsystemen. Hieronder volgen enkele...Lees verder -
Hoe kan de levensduur van met tantaalcarbide gecoate producten verlengd worden?
Producten met tantaalcarbidecoating zijn een veelgebruikt materiaal voor hoge temperaturen, gekenmerkt door hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, slijtvastheid, enz. Daarom worden ze veel gebruikt in sectoren zoals de lucht- en ruimtevaart, de chemische industrie en de energiesector. Om ex...Lees verder -
Wat is het verschil tussen PECVD en LPCVD in halfgeleider-CVD-apparatuur?
Chemische dampdepositie (CVD) verwijst naar het proces waarbij een vaste film wordt afgezet op het oppervlak van een siliciumwafer door middel van een chemische reactie van een gasmengsel. Afhankelijk van de verschillende reactieomstandigheden (druk, precursor) kan dit worden onderverdeeld in verschillende apparatuur...Lees verder -
Kenmerken van siliciumcarbide-grafietmal
Siliciumcarbide-grafietmal. Siliciumcarbide-grafietmal is een composietmal met siliciumcarbide (SiC) als basis en grafiet als versterkingsmateriaal. Deze mal heeft een uitstekende thermische geleidbaarheid, hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid en...Lees verder