ଦିSiC ଆବରଣ ସହିତ କାର୍ବନ-କାର୍ବନ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ଭେଟ୍-ଚାଇନାରୁ ଶକ୍ତି, ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିରୋଧର ଏକ ଅସାଧାରଣ ମିଶ୍ରଣ ପ୍ରଦାନ କରେ। ଏହି ଉନ୍ନତ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ ଉଚ୍ଚ-କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମତା ସହିତ ଇଞ୍ଜିନିୟର କରାଯାଇଛିCVD SiC (ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍) ଆବରଣ, ଏହାକୁ ମହାକାଶ, ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ ଉତ୍ପାଦନ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଭଳି ଶିଳ୍ପରେ ଦାବିଦାର ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ କରିଥାଏ। କାର୍ବନ-କାର୍ବନ କୋର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତାପଜ ପରିବାହିତା ଏବଂ ଶକ୍ତି ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯେତେବେଳେ SiC ଆବରଣ ଅକ୍ସିଡେସନ ଏବଂ ଘଷିବା ବିରୁଦ୍ଧରେ ପୃଷ୍ଠ ସୁରକ୍ଷାକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ।

ଦିCVD SiC ଆବରଣକାର୍ବନ-କାରବନ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ ଉପରେ ଏହା ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ ଯେ ଏହା ଢାଞ୍ଚାଗତ ଅଖଣ୍ଡତା ବଜାୟ ରଖି 1600°C ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅତ୍ୟଧିକ ତାପମାତ୍ରା ସହ୍ୟ କରିପାରିବ। ଏହା ଏହାକୁ କଠୋର ପରିସ୍ଥିତିରେ ସଠିକତା ଏବଂ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଆବଶ୍ୟକ କରୁଥିବା ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ କରିଥାଏ। ଭେଟ୍-ଚାଇନା ପ୍ଲେଟ୍ ବିଶେଷ ଭାବରେ ସମ୍ପୃକ୍ତ ପ୍ରକ୍ରିୟାଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତସିଭିଡି ସିଆଇସିଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ, ଯେଉଁଠାରେ ରାସାୟନିକ ଜଡ଼ତା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ପ୍ରତିରୋଧ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ।

ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ ସହିତ,CVD SiC ଆବରଣଏକ ସୁରକ୍ଷା ସ୍ତର ଯୋଡେ ଯାହା କାର୍ଯ୍ୟ ସମୟରେ ଘଷିବା ଏବଂ ଛିଣ୍ଡିବା ହ୍ରାସ କରେ, ଏହାର ଜୀବନ ବୃଦ୍ଧି କରେକାର୍ବନ-କାର୍ବନ ମିଶ୍ରିତ ପ୍ଲେଟ୍। ଭେଟ୍-ଚାଇନା କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ଗୁଡ଼ିକ ଉଚ୍ଚ-ପ୍ରଯୁକ୍ତି ଶିଳ୍ପଗୁଡ଼ିକରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ ଯେଉଁଠାରେ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ପ୍ରମୁଖ କାରଣ, ବିଭିନ୍ନ ଉଚ୍ଚ-ସଠିକତା ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ସମାଧାନ ପ୍ରଦାନ କରେ।

ଏହି କାର୍ବନ-କାର୍ବନ କମ୍ପୋଜିଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ SiC ଆବରଣ ସହିତ ଉଚ୍ଚ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଶକ୍ତି ଏବଂ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିରୋଧ ଆବଶ୍ୟକ କରୁଥିବା ପରିବେଶ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ, ସବୁଠାରୁ ଚ୍ୟାଲେଞ୍ଜିଂ ଶିଳ୍ପ ପରିସ୍ଥିତିରେ ମଧ୍ୟ ସ୍ଥିରତା ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ।