Ⅰ. Ìfihàn
Àwọn ohun èlò ìṣẹ́ amọ̀ Silikoni Carbide (Porous SiC)Àwọn ohun èlò seramiki tó ti pẹ́ tó ń so àwọn ohun ìní tó tayọ ti silikoni carbide pọ̀ mọ́ ìṣètò oníhò tó ní ìrísí tó wọ́pọ̀. Láìdàbí àwọn seramiki SiC tó nípọn, SiC oníhò tó ní ihò máa ń mú àwọn ihò tó so pọ̀ mọ́ ara wọn wá, títí kan agbára ìṣiṣẹ́ tó wà lábẹ́ ìṣàkóso, àwòrán tó fúyẹ́, ìdènà ooru, àti agbára gbígbé omi tó pọ̀ sí i.
Pẹ̀lú ìdúróṣinṣin ooru tó dára, ìdènà kẹ́míkà, àti ìgbẹ́kẹ̀lé ẹ̀rọ, àwọn ohun èlò amọ̀ SiC tó ní ihò ti di pàtàkì síi ní àwọn ilé iṣẹ́ ooru tó ga, pàápàá jùlọ iṣẹ́ semiconductor, níbi tí àwọn àyíká iṣẹ́ ti nílò ìwẹ̀nùmọ́ gíga, ìdènà ìbàjẹ́, àti ìdúróṣinṣin iṣẹ́ ìgbà pípẹ́.
Ⅱ. Àwọn ohun ìní ohun èlò ti àwọn ohun èlò amọ̀ tí a fi ohun èlò amọ̀ ṣe tí ó ní ihò sílíńkónì
1. Iduroṣinṣin Iwọn otutu giga
A mọ silikoni carbide fún iṣẹ́ rẹ̀ tó dára jùlọ lábẹ́ àwọn iwọ̀n otútù tó le koko nítorí ìsopọ̀ covalent Si-C tó lágbára. Porous SiC máa ń pa ìdúróṣinṣin ìṣètò mọ́ ní àwọn àyíká iwọ̀n otútù tó ga, èyí tó mú kí ó dára fún ṣíṣe àgbékalẹ̀ ooru semiconductor, àwọn ètò epitaxy, àti àwọn èròjà iná mànàmáná.
Ìwọ̀n ìfàsẹ́yìn ooru tó kéré àti ìdènà ìgbóná tó dára ń dín ìyípadà kù àti mú kí ìdúróṣinṣin iṣẹ́ náà sunwọ̀n síi.
2. Agbara Kemikali ati Plasma to gaju
Iṣẹ́dá Semiconductor ní àwọn gáàsì líle àti àyíká plasma, títí bí àwọn gáàsì tí ó ní chlorine, plasma fluorine, àti àwọn afẹ́fẹ́ onígbóná gíga.
Àwọn ohun èlò amọ̀ SiC tí ó ní ihò ní:
- O tayọ resistance ifoyina
- Iduroṣinṣin kemikali giga
- Agbara resistance iparun pilasima lagbara
- Àwọn ànímọ́ ìbàjẹ́ kékeré
Àwọn àǹfààní wọ̀nyí ń dín ìṣẹ̀dá pàtákì kù àti láti fa ìgbésí ayé àwọn ohun èlò semikondokito pọ̀ sí i.
3. Porosity àti Gáàsì Tí A Ń Ṣàkóso
Àǹfààní pàtàkì ti SiC oníhò ni ìṣètò ihò rẹ̀ tí a lè ṣàtúnṣe. Nípa ṣíṣàkóso ìwọ̀n ihò, ìpínkiri, àti ìsopọ̀, àwọn olùpèsè lè mú kí ìwọ́ntúnwọ́nsí wà láàrín agbára ẹ̀rọ àti agbára ìṣiṣẹ́.
Ẹya alailẹgbẹ yii jẹ ki SiC oniho ṣiṣẹ bi:
- Àwọn ohun èlò ìtànkálẹ̀ gaasi
- Àwọn ètò àlẹ̀mọ́
- Àwọn ẹ̀yà ìṣàkóso ooru
Ⅲ. Àwọn Ìmọ̀-ẹ̀rọ Ìṣiṣẹ́ ti Àwọn Ohun Èlò Sẹ́rámíkì Sílíkónì Carbide Porous
Iṣẹ́ àwọn ohun èlò amọ̀ SiC oníhò da lórí àwọn ọ̀nà ìṣelọ́pọ́ àti àpẹẹrẹ ohun èlò amọ̀ kékeré.
Idinku Agbara Kabohemu
Ilana ibile yii n mu SiC ti o ni ihò jade nipasẹ awọn iṣeṣe iwọn otutu giga laarin awọn ohun elo ti o ni silikoni ati awọn orisun erogba. O mu ki o ṣee ṣe lati ṣẹda awọn ilana SiC ti o ni mimọ giga pẹlu iduroṣinṣin ooru ti o tayọ.
Sintering Ipele Omi
Sínẹ́ẹ̀tì ìpele omi máa ń lo àwọn afikún láti mú kí ìsopọ̀ àti ìfúnpọ̀ àwọn èròjà pọ̀ sí i. Nípa ṣíṣe àtúnṣe ìwọ̀n otútù sínẹ́ẹ̀tì àti kẹ́míkà afikún, àwọn olùṣelọpọ lè ṣe àṣeyọrí agbára ẹ̀rọ tí a mú dára jùlọ àti ìpínkiri ihò.
Ìwọ̀lé Afẹ́fẹ́ Kẹ́míkà (CVI)
CVI n fi awọn ohun elo ti o wa ninu gaasi sinu awọn ẹya ti o ni iho, nibiti SiC ti n gbe sori awọn oju inu. Ọna yii n mu agbara eto, mimọ, ati agbara otutu giga dara si.
Àwọn Ọ̀nà Fífọ́ àti Àwòṣe
Àwọn ìmọ̀ ẹ̀rọ ìfọ́ àti àpẹẹrẹ tí a fi ń ṣe àgbékalẹ̀ ń ṣẹ̀dá àwọn ìrísí ihò nípa ṣíṣàkóso àwọn ohun èlò ìṣẹ̀dá ihò tàbí àwọn àpẹẹrẹ ìrúbọ. Àwọn ọ̀nà wọ̀nyí ń pèsè ìtẹ̀síwájú tó dára àti àwọn ìrísí ihò tí a ṣe àdáni.
Ⅳ. Àwọn ohun èlò tí a lè lò nínú iṣẹ́ ṣíṣe Semiconductor
Nítorí àkópọ̀ àrà ọ̀tọ̀ rẹ̀ ti àwọn ohun-ìní ooru, kẹ́míkà, àti ìṣètò, àwọn ohun èlò amọ̀ SiC oníhò ni a ń lò sí i nínú àwọn iṣẹ́ semikondokito.
Àwọn Ẹ̀yà Pínpín Gáàsì
Nínú àwọn ètò CVD, PECVD, àti ALD, SiC oníhò le ṣiṣẹ́ gẹ́gẹ́ bí àwọn atẹ̀jáde gaasi àti àwọn àwo ìpínkiri láti ṣàṣeyọrí ìṣàn gaasi ilana kan náà àti láti mú kí ìdúró fíìmù náà sunwọ̀n síi.
Ohun elo Iṣiṣẹ Plasma
Nínú àwọn ètò ìfọṣọ àti ìwẹ̀nùmọ́ plasma, àwọn èròjà SiC oníhò tí ó ní agbára gíga ń fúnni ní agbára ìdènà tó ga sí àwọn àyíká plasma tí ó ń ba nǹkan jẹ́, wọ́n ń dín ìbàjẹ́ pàtákì kù, wọ́n sì ń mú kí ohun èlò ṣeé gbẹ́kẹ̀lé.
Awọn Sisẹ́ẹ̀mù SiC ati GaN Epitaxy
Fún ìṣẹ̀dá semiconductor ìran kẹta, SiC oníhò ń ṣe àfikún sí ìṣàkóso ooru tí ó dára síi àti ìdúróṣinṣin ilana ní àwọn àyíká ìdàgbàsókè epitaxial tí ó ga ní iwọ̀n otútù.
Àwọn Ohun Èlò Ìmúlò Wafer
Àwọn ohun èlò ìfọṣọ SiC tí ó ní ihòàtiawọn atilẹyin waferpese deedee giga, idoti kekere, ati resistance kemikali ti o tayọ fun ayewo wafer, lithography, ati processing ooru.
Ⅴ. Ìparí
Àwọn ohun èlò amọ̀ Silikoni Carbide tí ó ní ihòṣe aṣoju idagbasoke tiÀwọn ohun èlò SiCLáti àwọn ohun èlò ìṣẹ̀dá ìbílẹ̀ sí àwọn ohun èlò semiconductor tó ń ṣiṣẹ́. Nípasẹ̀ àwọn ìmọ̀ ẹ̀rọ ìṣiṣẹ́ tó ti ní ìlọsíwájú àti ìṣàkóso ìṣètò ihò tó péye, SiC oníhò rí i pé ó ní ìwọ́ntúnwọ́nsí tó dára láàrín agbára, ìtẹ̀síwájú, iṣẹ́ ooru, àti ìdúróṣinṣin kẹ́míkà.
Bí iṣẹ́ àgbékalẹ̀ semiconductor ṣe ń tẹ̀síwájú sí i sí iwọ̀n otútù tó ga àti ìṣàkóso ìbàjẹ́ tó lágbára, àwọn ohun èlò amọ̀ SiC tó ní ihò yóò kó ipa pàtàkì sí i nínúÀwọn ètò CVD, ohun èlò ìṣiṣẹ́ plasma, mímú wafer, àti àwọn ìmọ̀-ẹ̀rọ ìṣẹ̀dá semiconductor ìran tó ń bọ̀.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Keje-31-2026