ಸಿವಿಡಿ-ಎಸ್‌ಐಸಿಲೇಪನವು ಏಕರೂಪದ ರಚನೆ, ಸಾಂದ್ರ ವಸ್ತು, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ನಿರೋಧಕತೆ, ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ನಿರೋಧಕತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಆಮ್ಲ ಮತ್ತು ಕ್ಷಾರ ನಿರೋಧಕತೆ ಮತ್ತು ಸಾವಯವ ಕಾರಕದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದ್ದು, ಸ್ಥಿರವಾದ ಭೌತಿಕ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ, ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ 400C ನಲ್ಲಿ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣಗೊಳ್ಳಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣದಿಂದಾಗಿ ಪುಡಿಯ ನಷ್ಟಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಬಾಹ್ಯ ಸಾಧನಗಳು ಮತ್ತು ನಿರ್ವಾತ ಕೋಣೆಗಳಿಗೆ ಪರಿಸರ ಮಾಲಿನ್ಯವಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಪರಿಸರದ ಕಲ್ಮಶಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.

ಆದಾಗ್ಯೂ, SiC ಲೇಪನವು 1600 ಡಿಗ್ರಿಗಳಲ್ಲಿ ಭೌತಿಕ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಕಾಯ್ದುಕೊಳ್ಳಬಹುದು, ಇದನ್ನು ಆಧುನಿಕ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಅರೆವಾಹಕ ಉದ್ಯಮದಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ನಮ್ಮ ಕಂಪನಿಯು ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್, ಸೆರಾಮಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು ಇತರ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ CVD ವಿಧಾನದ ಮೂಲಕ SiC ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸೇವೆಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಕಾರ್ಬನ್ ಮತ್ತು ಸಿಲಿಕಾನ್ ಹೊಂದಿರುವ ವಿಶೇಷ ಅನಿಲಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ SiC ಅಣುಗಳನ್ನು ಪಡೆಯುತ್ತವೆ, ಲೇಪಿತ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಠೇವಣಿ ಇಡಲಾದ ಅಣುಗಳು, SIC ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಪದರವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ. ರೂಪುಗೊಂಡ SIC ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಬೇಸ್‌ಗೆ ದೃಢವಾಗಿ ಬಂಧಿತವಾಗಿದ್ದು, ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಬೇಸ್‌ಗೆ ವಿಶೇಷ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ, ಹೀಗಾಗಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್‌ನ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಸಾಂದ್ರಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಸರಂಧ್ರತೆ-ಮುಕ್ತ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ನಿರೋಧಕತೆ, ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆ ಮತ್ತು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ನಿರೋಧಕತೆಯನ್ನು ಮಾಡುತ್ತದೆ.

ಮುಖ್ಯ ಲಕ್ಷಣಗಳು:

1. ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಪ್ರತಿರೋಧ:

ತಾಪಮಾನವು 1600 C ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿರುವಾಗಲೂ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಪ್ರತಿರೋಧವು ಇನ್ನೂ ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

2. ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ: ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಕ್ಲೋರಿನೀಕರಣ ಸ್ಥಿತಿಯಲ್ಲಿ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

3. ಸವೆತ ನಿರೋಧಕತೆ: ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನ, ಸಾಂದ್ರ ಮೇಲ್ಮೈ, ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಕಣಗಳು.

4. ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆ: ಆಮ್ಲ, ಕ್ಷಾರ, ಉಪ್ಪು ಮತ್ತು ಸಾವಯವ ಕಾರಕಗಳು.

CVD-SIC ಲೇಪನಗಳ ಮುಖ್ಯ ವಿಶೇಷಣಗಳು: