CVD-SiCNameଆବରଣରେ ସମାନ ଗଠନ, ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ସାମଗ୍ରୀ, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ, ଅକ୍ସିଡେସନ ପ୍ରତିରୋଧ, ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା, ଏସିଡ୍ ଏବଂ କ୍ଷାର ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ଜୈବ ପ୍ରତିରୋଧକ, ସ୍ଥିର ଭୌତିକ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଗୁଣ ଆଦି ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟ ରହିଛି।

ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ତୁଳନାରେ, ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ 400C ରେ ଅକ୍ସିଡାଇଜ୍ ହେବା ଆରମ୍ଭ କରେ, ଯାହା ଅକ୍ସିଡାଇଜ୍ ଯୋଗୁଁ ପାଉଡରର କ୍ଷତି ଘଟାଇବ, ଯାହା ଫଳରେ ପରିଧିୟ ଉପକରଣ ଏବଂ ଭାକ୍ୟୁମ୍ ଚାମ୍ବରରେ ପରିବେଶ ପ୍ରଦୂଷଣ ହେବ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା ପରିବେଶର ଅଶୁଦ୍ଧତା ବୃଦ୍ଧି ପାଇବ।

ତଥାପି, SiC ଆବରଣ ୧୬୦୦ ଡିଗ୍ରୀରେ ଭୌତିକ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ସ୍ଥିରତା ବଜାୟ ରଖିପାରେ, ଏହା ଆଧୁନିକ ଶିଳ୍ପରେ, ବିଶେଷକରି ଅର୍ଦ୍ଧପରିବାହୀ ଶିଳ୍ପରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।

ଆମର କମ୍ପାନୀ ଗ୍ରାଫାଇଟ୍, ସେରାମିକ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ CVD ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା SiC ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସେବା ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯାହା ଦ୍ଵାରା କାର୍ବନ ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ଯୁକ୍ତ ବିଶେଷ ଗ୍ୟାସଗୁଡ଼ିକ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରି ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା SiC ଅଣୁ, ଆବରଣଯୁକ୍ତ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ SIC ସୁରକ୍ଷା ସ୍ତର ଗଠନ କରେ। ଗଠିତ SIC ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଆଧାର ସହିତ ଦୃଢ଼ ଭାବରେ ବନ୍ଧିତ ହୋଇଥାଏ, ଯାହା ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଆଧାରକୁ ବିଶେଷ ଗୁଣ ପ୍ରଦାନ କରେ, ଏହିପରି ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ର ପୃଷ୍ଠକୁ ସଂକୁଚିତ, ପୋରୋସିଟି-ମୁକ୍ତ, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ, କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ କରିଥାଏ।

ମୁଖ୍ୟ ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:

1. ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଅକ୍ସିଡେସନ ପ୍ରତିରୋଧ:

୧୬୦୦ ସେଲସିୟସ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ତାପମାତ୍ରା ଥିଲେ ମଧ୍ୟ ଅକ୍ସିଡେସନ ପ୍ରତିରୋଧ ବହୁତ ଭଲ ରହିଥାଏ।

2. ଉଚ୍ଚ ବିଶୁଦ୍ଧତା: ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଲୋରିନେସନ ଅବସ୍ଥାରେ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​ଦ୍ୱାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ।

3. କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ: ଉଚ୍ଚ କଠୋରତା, ସଂକୁଚିତ ପୃଷ୍ଠ, ସୂକ୍ଷ୍ମ କଣିକା।

୪. କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ: ଏସିଡ୍, କ୍ଷାର, ଲୁଣ ଏବଂ ଜୈବ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକାରୀ।

CVD-SIC ଆବରଣର ମୁଖ୍ୟ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ: