د SiC پوډر پاکوالی به په مستقیم ډول د PVT میتود لخوا کرل شوي SiC واحد کرسټال کیفیت او فعالیت اغیزه وکړي، او د SiC پوډر چمتو کولو لپاره خام مواد لوړ پاکوالی Si پوډر او لوړ پاکوالی C پوډر دي، او د C پوډر پاکوالی به په مستقیم ډول د SiC پوډر پاکوالی اغیزه وکړي.
د ټونر په تولید کې کارول شوي خام مواد معمولا فلیک ګریفایټ، پټرولیم کوک او مایکرو کریسټالین ډبرې رنګ شامل دي. د ګرافایټ پاکوالی څومره لوړ وي، د کارولو ارزښت یې لوړ وي. د ګرافایټ پاکولو طریقې په فزیکي میتودونو او کیمیاوي میتودونو ویشل کیدی شي. د فزیکي پاکولو طریقو کې د فلوټیشن او د لوړې تودوخې پاکول شامل دي، او د کیمیاوي پاکولو طریقو کې د تیزاب اساس میتود، هایدروفلوریک اسید میتود او د کلورایډ روسټینګ طریقه شامله ده. د دوی په منځ کې، د لوړ تودوخې پاکولو طریقه کولی شي د ګرافایټ د لوړ خټکي نقطې (3773K) او د جوش نقطې څخه کار واخلي ترڅو 4N5 او لوړ پاکوالی ترلاسه کړي، چې تبخیر او د ټیټ جوش نقطې سره د ناپاکۍ اخراج پکې شامل دي، ترڅو د پاکولو هدف ترلاسه کړي [6]. د لوړ پاکوالي ټونر کلیدي ټیکنالوژي د ټریس ناپاکۍ لرې کول دي. د کیمیاوي پاکولو او د لوړې تودوخې پاکولو ځانګړتیاو سره یوځای، د لوړ پاکوالي ټونر موادو پاکولو لپاره د یو ځانګړي برخې شوي مرکب لوړ تودوخې ترمو کیمیکل پاکولو پروسه غوره کیږي، او د محصول پاکوالی له 6N څخه ډیر کیدی شي.
د محصول فعالیت او ځانګړتیاوې:
۱، د محصول پاکوالی≥۹۹.۹۹۹۹٪ (۶N)؛
۲، د کاربن پوډر لوړ پاکوالی ثبات، د ګرافیت کولو لوړه درجه، لږ ناپاکۍ؛
۳، د اندازې اندازه او ډول د کاروونکو مطابق تنظیم کیدی شي.
د محصول اصلي استعمالونه:
■ د لوړ پاکوالي SiC پوډر او نورو جامد پړاو مصنوعي کاربایډ موادو ترکیب
■ الماسونه وکري
■ د برېښنايي محصولاتو لپاره نوي حرارتي چالکتیا مواد
■ د لوړ کیفیت لیتیم بیټرۍ کیتوډ مواد
■ د قیمتي فلزاتو مرکبات هم خام مواد دي
