CVD SiC పూత యొక్క అనువర్తనాలు
దిCVD SiC పూతఈ ప్రక్రియ దాని బహుముఖ ప్రజ్ఞ మరియు పనితీరు ప్రయోజనాల కారణంగా అనేక పరిశ్రమలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. ప్రాథమిక అనువర్తనాల్లో ఒకటి సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఉంది, ఇక్కడ SiC-పూతతో కూడిన భాగాలు వేఫర్ ప్రాసెసింగ్ సమయంలో సున్నితమైన ఉపరితలాలను రక్షించడంలో సహాయపడతాయి. ససెప్టర్లు, రింగులు మరియు వేఫర్ క్యారియర్లు వంటి CVD SiC-పూతతో కూడిన పరికరాలు అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తాయి మరియు క్లిష్టమైన తయారీ దశలలో కాలుష్యాన్ని నివారిస్తాయి.
అంతరిక్ష పరిశ్రమలో,CVD SiC పూతతీవ్రమైన వేడి మరియు యాంత్రిక ఒత్తిడికి గురయ్యే భాగాలకు వర్తించబడుతుంది. ఈ పూత కఠినమైన పరిస్థితులలో పనిచేసే టర్బైన్ బ్లేడ్లు మరియు దహన గదుల జీవితాన్ని గణనీయంగా పొడిగిస్తుంది. అదనంగా, CVD SiC సాధారణంగా దాని ప్రతిబింబించే మరియు ఉష్ణ స్థిరత్వ లక్షణాల కారణంగా అద్దాలు మరియు ఆప్టికల్ పరికరాల ఉత్పత్తిలో ఉపయోగించబడుతుంది.
CVD SiC యొక్క మరొక ముఖ్యమైన అప్లికేషన్ రసాయన పరిశ్రమలో ఉంది. ఇక్కడ, SiC పూతలు ఉష్ణ వినిమాయకాలు, సీల్స్ మరియు పంపులు వంటి భాగాలను తినివేయు పదార్థాల నుండి రక్షిస్తాయి. SiC ఉపరితలం ఆమ్లాలు మరియు క్షారాలచే ప్రభావితం కాకుండా ఉంటుంది, ఇది రసాయన మన్నిక అవసరమైన వాతావరణాలకు అనువైనదిగా చేస్తుంది.
CVD SiC పూత యొక్క లక్షణాలు
CVD SiC పూత యొక్క లక్షణాలే ఈ అనువర్తనాల్లో దీనిని అత్యంత ప్రభావవంతంగా చేస్తాయి. దీని ప్రధాన లక్షణాలలో ఒకటి దాని కాఠిన్యం, ఇది మోహ్స్ కాఠిన్యం స్కేల్లో వజ్రానికి దగ్గరగా ఉంటుంది. ఈ తీవ్రమైన కాఠిన్యం CVD SiC పూతలకు దుస్తులు మరియు రాపిడికి అద్భుతమైన నిరోధకతను ఇస్తుంది, ఇవి అధిక-ఘర్షణ వాతావరణాలకు అనుకూలంగా ఉంటాయి.
అదనంగా, SiC అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది పూత పూసిన భాగాలు అధిక ఉష్ణోగ్రతలలో కూడా వాటి సమగ్రతను కాపాడుకోవడానికి అనుమతిస్తుంది. ఇది చాలా ముఖ్యమైనది సెమీకండక్టర్ మరియు ఏరోస్పేస్ అప్లికేషన్లలో, నిర్మాణ బలాన్ని కాపాడుకుంటూ పదార్థాలు తీవ్రమైన వేడిని తట్టుకోవాలి.
CVD SiC పూత యొక్క రసాయన జడత్వం మరొక ముఖ్యమైన ప్రయోజనం. ఇది ఆక్సీకరణ, తుప్పు మరియు దూకుడు పదార్థాలతో రసాయన ప్రతిచర్యలను నిరోధిస్తుంది, ఇది రసాయన ప్రాసెసింగ్ పరికరాలకు ఆదర్శవంతమైన పూతగా మారుతుంది. అంతేకాకుండా, దీని తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం పూత ఉపరితలాలు థర్మల్ సైక్లింగ్ పరిస్థితులలో కూడా వాటి ఆకారాన్ని మరియు పనితీరును నిలుపుకుంటాయని నిర్ధారిస్తుంది.
ముగింపు
సారాంశంలో, CVD SiC పూత అనేది తీవ్రమైన వేడి, యాంత్రిక ఒత్తిడి మరియు రసాయన తుప్పును తట్టుకోగల పదార్థాలు అవసరమయ్యే పరిశ్రమలకు మన్నికైన, అధిక-పనితీరు గల పరిష్కారాన్ని అందిస్తుంది. దీని అనువర్తనాలు సెమీకండక్టర్ తయారీ నుండి ఏరోస్పేస్ మరియు రసాయన ప్రాసెసింగ్ వరకు ఉంటాయి, ఇక్కడ SiC యొక్క లక్షణాలు - కాఠిన్యం, ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు రసాయన నిరోధకత - కార్యాచరణ విజయానికి కీలకం. పరిశ్రమలు పనితీరు మరియు విశ్వసనీయత యొక్క సరిహద్దులను ముందుకు నెట్టడం కొనసాగిస్తున్నందున, CVD SiC పూతలు భాగాల మన్నిక మరియు దీర్ఘాయువును పెంచడానికి కీలకమైన సాంకేతికతగా మిగిలిపోతాయి.
వెట్-చైనా వంటి ప్రత్యేక తయారీదారుల నైపుణ్యాన్ని ఉపయోగించడం ద్వారా, కంపెనీలు ఆధునిక పారిశ్రామిక ప్రక్రియల యొక్క కఠినమైన డిమాండ్లను తీర్చగల అధిక-నాణ్యత CVD SiC పూతలను పొందవచ్చు.
పోస్ట్ సమయం: డిసెంబర్-18-2023