Gelişmiş Yarı İletken İşleme için CVD Kaplamalar
Kritik yarı iletken üretim ortamları için tasarlanan Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) Silisyum Karbür (SiC), Tantal Karbür (TaC) ve Pirolitik Karbon (PyC) kaplamalarımız, olağanüstü kimyasal inertlik, aşırı termal kararlılık ve ultra yüksek saflık (< 5 ppm) sunar. Yüksek saflıkta grafit ve seramik alt tabakaları agresif plazmadan, reaktif işlem gazlarından ve yüksek termal döngülerden korumak için tasarlanan gelişmiş kaplamalarımız, parçacık oluşumunu en aza indirir ve bileşen ömrünü önemli ölçüde uzatır.Silikon/SiC Epitaksi, MOCVD, Plazma Aşındırma ve Monokristal Büyütmeuygulamalar.
GDMS ile doğrulanmış düşük metalik safsızlık seviyeleri, kritik süreçlerde gofret kirlenmesini önler.
Yoğun kristal yapısı, halojen plazmasına (CF₄, NF₃, Cl₂) ve aşındırıcı gazlara karşı koruma sağlar.
Sıkı CTE kontrolü, şiddetli termal şoklar altında mikro çatlamayı ve kaplama soyulmasını ortadan kaldırır.
| Kaplama Tipi | Başlıca Teknik Avantaj | Birincil Süreç Başvurusu |
|---|---|---|
| CVD SiC Kaplama | Yüksek ısı iletkenliği, mükemmel plazma aşınma direnci | Kuru Aşındırma, Si Epitaksi, MOCVD, Kristal Büyütme |
| CVD TaC Kaplama | Aşırı sıcaklık direnci (>2000°C), H₂/SiH₄ korozyon bariyeri | SiC Epitaksi, Tek Kristalli SiC PVT Büyümesi |
| PYC Kaplama | Hava geçirmez gaz sızdırmazlığı, ultra pürüzsüz anizotropik karbon yüzey | Isıl alan yalıtımı, CZ Monokristal Silikon |
-
Tantal Karbür Kaplama Gofret Süseptör
-
Yüksek Saflıkta CVD Katı SiC Yığın Malzeme
-
Epitaksiyel Epi Grafit Namlu Süseptör
-
Gözenekli Tantal Karbür Kaplı Namlu
-
Sıvı Fazlı Epitaksi LPE İçin Namlu Tutucu
-
Yüksek Saflıkta Tantal Karbür Kaplı Yüzük
-
TaC Kaplı Grafit Segment Birleştirme Halkası
-
TaC tantal karbür kaplamalı özel parçalar
-
TaC kaplamalı grafit kapak üreticisi