Mēs arī koncentrējamies uz lietu administrēšanas un kvalitātes kontroles programmas uzlabošanu, lai saglabātu fantastiskas priekšrocības sīvi konkurētspējīgajā uzņēmumā, kas paredzēts personalizētiem produktiem Ķīnas silīcija oglekļa tīģelim dzelzs un krāsaino metālu sakausējumiem, lai panāktu pastāvīgu, ienesīgu un pastāvīgu izaugsmi, iegūstot konkurences priekšrocības un nepārtraukti palielinot pievienotās cenas mūsu akcionāriem un darbiniekiem.
Mēs arī koncentrējamies uz lietu pārvaldības un kvalitātes kontroles programmas uzlabošanu, lai saglabātu fantastiskas priekšrocības sīvi konkurētspējīgā uzņēmumā.Ķīnas silīcija grafīta tīģelis, Grafīta liešanas tīģelisMūsu uzņēmums ir starptautisks šāda veida preču piegādātājs. Mēs piedāvājam pārsteidzošu augstas kvalitātes preču izvēli. Mūsu mērķis ir iepriecināt jūs ar mūsu atšķirīgo pārdomāto preču kolekciju, vienlaikus nodrošinot vērtību un lielisku servisu. Mūsu misija ir vienkārša: piegādāt mūsu klientiem labākās preces un pakalpojumus par viszemākajām iespējamām cenām.
Ogleklis/oglekļa kompozīti(turpmāk tekstā — “C / C vai CFC”) ir kompozītmateriāla veids, kas ir balstīts uz oglekli un pastiprināts ar oglekļa šķiedru un tās izstrādājumiem (oglekļa šķiedras sagatavēm). Tam piemīt gan oglekļa inerce, gan oglekļa šķiedras augstā izturība. Tam ir labas mehāniskās īpašības, karstumizturība, izturība pret koroziju, berzes slāpēšana, kā arī siltumvadītspēja un elektrovadītspēja.
CVD-SiCPārklājumam piemīt vienmērīga struktūra, kompakts materiāls, augsta temperatūras izturība, oksidēšanās izturība, augsta tīrības pakāpe, izturība pret skābēm un sārmiem un organiskais reaģents, ar stabilām fizikālām un ķīmiskām īpašībām.
Salīdzinot ar augstas tīrības pakāpes grafīta materiāliem, grafīts sāk oksidēties 400 °C temperatūrā, kas oksidēšanās dēļ izraisa pulvera zudumu, kā rezultātā perifērijas ierīces un vakuuma kameras tiek piesārņotas, un palielinās augstas tīrības pakāpes vides piemaisījumi.
Tomēr SiC pārklājums var saglabāt fizikālo un ķīmisko stabilitāti 1600 grādos, to plaši izmanto mūsdienu rūpniecībā, īpaši pusvadītāju rūpniecībā.
Mūsu uzņēmums nodrošina SiC pārklāšanas procesa pakalpojumus, izmantojot CVD metodi grafīta, keramikas un citu materiālu virsmām, lai īpašas gāzes, kas satur oglekli un silīciju, reaģētu augstā temperatūrā, iegūstot augstas tīrības pakāpes SiC molekulas, molekulas nogulsnējas uz pārklāto materiālu virsmas, veidojot SIC aizsargslāni. Izveidotais SIC ir stingri saistīts ar grafīta bāzi, piešķirot grafīta bāzei īpašas īpašības, tādējādi padarot grafīta virsmu kompaktu, bez porainības, izturīgu pret augstām temperatūrām, koroziju un oksidēšanos.
Galvenās iezīmes:
1. Augstas temperatūras oksidēšanās izturība:
Oksidācijas izturība joprojām ir ļoti laba, ja temperatūra sasniedz pat 1600 °C.
2. Augsta tīrība: iegūta ar ķīmisku tvaiku nogulsnēšanos augstas temperatūras hlorēšanas apstākļos.
3. Izturība pret eroziju: augsta cietība, kompakta virsma, smalkas daļiņas.
4. Korozijas izturība: skābes, sārmi, sāls un organiskie reaģenti.
CVD-SIC pārklājumu galvenās specifikācijas:
| SiC-CVD | ||
| Blīvums | (g/cm³)
| 3.21 |
| Lieces izturība | (MPa)
| 470 |
| Termiskā izplešanās | (10–6/K) | 4
|
| Siltumvadītspēja | (W/mK) | 300
|
