Arra is összpontosítunk, hogy fejlesszük a dolgok adminisztrációját és a minőségellenőrzési programot, hogy megőrizzük a fantasztikus előnyünket a személyre szabott termékek kínai szilícium-karbon olvasztótégelyének erősen versenyképes piacán, hogy következetes, jövedelmező és folyamatos fejlődést érjünk el versenyelőny megszerzésével, valamint a részvényeseinknek és alkalmazottainknak nyújtott hozzáadott érték folyamatos növelésével.
Emellett a dolgok adminisztrációjának és a minőségellenőrzési programnak a fejlesztésére is összpontosítunk, hogy megőrizhessük a fantasztikus előnyünket a kiélezett versenyben lévő vállalatnál.Kínai szilícium-dioxid grafit tégely, Grafit öntödei tégelyCégünk nemzetközi beszállítója az ilyen típusú áruknak. Kiváló minőségű áruk lenyűgöző választékát kínáljuk. Célunk, hogy elkápráztassuk Önt egyedi, gondosan válogatott termékeinkkel, miközben értéket és kiváló szolgáltatást nyújtunk. Küldetésünk egyszerű: A legjobb termékeket és szolgáltatást nyújtani ügyfeleinknek a lehető legalacsonyabb áron.
Szén / szén kompozitok(a továbbiakban: „C / C vagy CFC”) egyfajta szén alapú kompozit anyag, amelyet szénszállal és annak termékeivel (szénszál előgyártmány) erősítenek meg. Rendelkezik a szén tehetetlenségével és a szénszál nagy szilárdságával. Jó mechanikai tulajdonságokkal, hőállósággal, korrózióállósággal, súrlódáscsillapítással, valamint hő- és elektromos vezetőképességgel rendelkezik.
CVD-SiCA bevonat egyenletes szerkezetű, kompakt anyagú, magas hőmérséklettel szemben ellenálló, oxidációs ellenállású, nagy tisztaságú, sav- és lúgálló, szerves reagensekkel szemben ellenálló, stabil fizikai és kémiai tulajdonságokkal rendelkezik.
A nagy tisztaságú grafit anyagokkal összehasonlítva a grafit 400°C-on oxidálódni kezd, ami az oxidáció miatt porveszteséget okoz, ami környezetszennyezést okoz a perifériás eszközökben és a vákuumkamrákban, és növeli a nagy tisztaságú környezet szennyeződéseit.
A SiC bevonat azonban 1600 fokon is képes fizikai és kémiai stabilitást fenntartani, ezért széles körben használják a modern iparban, különösen a félvezetőiparban.
Cégünk CVD módszerrel végez SiC bevonatolási eljárást grafit, kerámiák és egyéb anyagok felületén, melynek során speciális, szenet és szilíciumot tartalmazó gázok magas hőmérsékleten reagálva nagy tisztaságú SiC molekulákat hoznak létre, amelyek a bevont anyagok felületére rakódnak le, SIC védőréteget képezve. A képződött SIC szilárdan kötődik a grafit alaphoz, különleges tulajdonságokat kölcsönözve a grafit alapnak, így a grafit felülete tömör, porozitásmentes, magas hőmérsékletnek ellenálló, korrózióálló és oxidációálló.
Főbb jellemzők:
1. Magas hőmérsékletű oxidációs ellenállás:
Az oxidációs ellenállás még 1600 °C hőmérsékleten is nagyon jó.
2. Nagy tisztaságú: kémiai gőzfázisú leválasztással, magas hőmérsékletű klórozási körülmények között állítják elő.
3. Erózióállóság: nagy keménység, tömör felület, finom részecskék.
4. Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
A CVD-SIC bevonatok főbb jellemzői:
| SiC-CVD | ||
| Sűrűség | (g/cm³)
| 3.21 |
| Hajlító szilárdság | (MPa)
| 470 |
| Hőtágulás | (10-6/Ó) | 4
|
| Hővezető képesség | (W/mK) | 300
|
