Célunk és vállalati szándékunk, hogy „mindig megfeleljünk vevőink igényeinek”. Továbbra is kiváló minőségű termékeket szerezzünk be és gyártunk mind meglévő, mind új ügyfeleink számára, és mindenki számára előnyös helyzetet teremtünk ügyfeleink számára, mivel mi vagyunk a kínai széngrafit öntőforma gyártója betoncsiszoláshoz. A kiváló minőségű termékek folyamatos elérhetősége, valamint a kiváló értékesítés előtti és utáni támogatásunk erős versenyképességet biztosít az egyre globalizálódó piacon.
Célunk és vállalati szándékunk általában az, hogy „mindig kielégítsük vásárlóink igényeit”. Kiváló minőségű termékeket szerezzünk be és tervezünk mind meglévő, mind új ügyfeleink számára, és mindenki számára előnyös helyzetet teremtünk, mivel mi is…Kínai széngrafit formák, grafit öntőformákA , Cégnév mindig a minőséget tekinti a vállalat alapjának, a magas fokú hitelesség révén törekszik a fejlődésre, szigorúan betartja az ISO minőségirányítási szabványt, és a haladást jelző őszinteség és optimizmus szellemében hozza létre a legmagasabb rangú vállalatot.
Szén / szén kompozitok(a továbbiakban: „C / C vagy CFC”) egyfajta szén alapú kompozit anyag, amelyet szénszállal és annak termékeivel (szénszál előgyártmány) erősítenek meg. Rendelkezik a szén tehetetlenségével és a szénszál nagy szilárdságával. Jó mechanikai tulajdonságokkal, hőállósággal, korrózióállósággal, súrlódáscsillapítással, valamint hő- és elektromos vezetőképességgel rendelkezik.
CVD-SiCA bevonat egyenletes szerkezetű, kompakt anyagú, magas hőmérséklettel szemben ellenálló, oxidációs ellenállású, nagy tisztaságú, sav- és lúgálló, szerves reagensekkel szemben ellenálló, stabil fizikai és kémiai tulajdonságokkal rendelkezik.
A nagy tisztaságú grafit anyagokkal összehasonlítva a grafit 400°C-on oxidálódni kezd, ami az oxidáció miatt porveszteséget okoz, ami környezetszennyezést okoz a perifériás eszközökben és a vákuumkamrákban, és növeli a nagy tisztaságú környezet szennyeződéseit.
A SiC bevonat azonban 1600 fokon is képes fizikai és kémiai stabilitást fenntartani, ezért széles körben használják a modern iparban, különösen a félvezetőiparban.
Cégünk CVD módszerrel végez SiC bevonatolási eljárást grafit, kerámiák és egyéb anyagok felületén, melynek során speciális, szenet és szilíciumot tartalmazó gázok magas hőmérsékleten reagálva nagy tisztaságú SiC molekulákat hoznak létre, amelyek a bevont anyagok felületére rakódnak le, SIC védőréteget képezve. A képződött SIC szilárdan kötődik a grafit alaphoz, különleges tulajdonságokat kölcsönözve a grafit alapnak, így a grafit felülete tömör, porozitásmentes, magas hőmérsékletnek ellenálló, korrózióálló és oxidációálló.
Főbb jellemzők:
1. Magas hőmérsékletű oxidációs ellenállás:
Az oxidációs ellenállás még 1600 °C hőmérsékleten is nagyon jó.
2. Nagy tisztaságú: kémiai gőzfázisú leválasztással, magas hőmérsékletű klórozási körülmények között állítják elő.
3. Erózióállóság: nagy keménység, tömör felület, finom részecskék.
4. Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
A CVD-SIC bevonatok főbb jellemzői:
| SiC-CVD | ||
| Sűrűség | (g/cm³)
| 3.21 |
| Hajlító szilárdság | (MPa)
| 470 |
| Hőtágulás | (10-6/Ó) | 4
|
| Hővezető képesség | (W/mK) | 300
|
