-
Esettanulmány:Német vákuumkemence C/C kompozit forró zónájának fejlesztése: deformációállóság és könnyűszerkezetes építés
Esettanulmány | Forrózóna anyagok Német vákuumkemence C/C kompozit forrózóna-fejlesztés: deformációállóság és könnyűszerkezetes kialakítás Írta: Dr. Wang | Műszaki igazgató, Forrózóna anyagok részlege, VET Energy 2026. augusztus 27. -62% Forrózóna saját tömege +35% Nettó teherbírás -22% Kioltási energia >3x alkatrész hossz...További információ -
Esettanulmány: A CZ kristályhúzási hozamának és élettartamának növelése nagy tisztaságú grafittégelyekkel
Esettanulmány: A CZ kristályhúzási hozamának és élettartamának növelése nagy tisztaságú grafit olvasztótégelyekkel Mérnöki vezető: Dr. Marcus és a VET Kristály Hőtér és Nagy tisztaságú Anyagok Mérnöki Csoportja Műszaki jelentés: VET Félvezető Anyagok és Folyamatoptimalizálás Esettanulmány (...További információ -
Esettanulmány: Nagy tisztaságú grafit alkatrészek 32 hüvelykes monokristályos hőterekhez N-típusú szilíciumnövesztésben
Esettanulmány: Nagy tisztaságú grafit alkatrészek 32 hüvelykes monokristályos hőterekhez N-típusú szilíciumnövesztésben Szerző: Dr. Steven Qiu, a VET Energy vezető félvezető anyagmérnöke és műszaki igazgatója Megjelent: 2026. augusztus | Műszaki terepi jelentés és mérnöki elemzés...További információ -
Átfogó útmutató a nagy tisztaságú grafit szuszceptorokhoz
A modern félvezető eszközök gyártásában és a harmadik generációs összetett félvezetők (például szilícium-karbid [SiC] és gallium-nitrid [GaN]) előállításában az iparági megbeszélések gyakran a rendkívül fejlett EUV litográfiai gépek, a plazmamaratók vagy a prekurzor gáz tisztasága körül forognak. A ...További információ -
Nagy tisztaságú grafitfűtő megoldások félvezető epitaxiához
Nagy tisztaságú grafitfűtő megoldások félvezető epitaxiához A magas hőmérsékletű félvezető eljárásokban, mint például a MOCVD (fém-szerves kémiai gőzfűtéses leválasztás) és a SiC epitaxiális növekedése, a hőtér szabályozása közvetlenül meghatározza a filmlerakódás vastagságának egyenletességét, a doppingkoncentrációt és a felhasználási...További információ -
Grafittégely ismertetése: Anyagtulajdonságok, gyártási folyamat és alkalmazások magas hőmérsékletű félvezető folyamatokban
Bevezetés: Grafittégelyek – Kritikus alkatrészek extrém magas hőmérsékletű gyártáshoz A modern csúcskategóriás gyártás területén számos kritikus folyamat az extrém hő által jellemzett környezettől függ. A hagyományos fémolvasztástól a harmadik generációs...További információ -
Egyedi, nagy tisztaságú izosztatikus grafit olvasztótégely: Hogyan oldjuk meg a repedések és szennyeződések okozta kihívásokat a nagyfrekvenciás indukciós olvasztás során?
1. Összefoglaló / Főbb adatok pillanatképe: 12-től 40 ciklusig – Átlátható kockázat- és értékértékelés Fő tanulság: Az ügyfél kezdetben gyakori edzési repedésekkel és hamuszennyeződéssel szembesült a nagyfrekvenciás indukciós olvasztás során. Megoldásunk egy izosztatikus grafittégely volt – anyagfeldolgozással optimalizálva...További információ -
Porózus szilícium-karbid kerámia feldolgozása és tulajdonságai
Ⅰ. Bevezetés A porózus szilícium-karbid (porózus SiC) kerámiák fejlett kerámiaanyagok, amelyek a szilícium-karbid kiemelkedő tulajdonságait gondosan megtervezett porózus szerkezettel ötvözik. A sűrű SiC kerámiákkal ellentétben a porózus SiC összekapcsolódó pórusokat tartalmaz, amelyek további...További információ -
Nagy tisztaságú izosztatikus grafittégely műszaki kézikönyve és kiválasztási útmutatója indukciós olvasztási és félvezető eljárásokhoz
1. Anyagmérnöki és alapvető műszaki adatok Alapvető információk: A hidegizosztatikus sajtolás (CIP) nagy sűrűségű, egyenletes mikroszerkezetet hoz létre, amely jelentősen felülmúlja a hagyományos extrudált vagy vibrációs öntésű grafitot mechanikai szilárdság, erózióállóság és hőhatékonyság tekintetében...További információ