Mūsu misija ir kļūt par inovatīvu augsto tehnoloģiju digitālo un komunikācijas ierīču piegādātāju, piedāvājot papildu priekšrocības, stilu, pasaules līmeņa ražošanu un remonta iespējas Ķīnas grafīta lodveida vārstiem termiskai apstrādei. Mūsu mērķis ir radīt abpusēji izdevīgu situāciju ar mūsu klientiem. Mēs ticam, ka būsim jūsu labākā izvēle. "Reputācija pirmajā vietā, klienti pirmajā vietā." Gaidām jūsu pieprasījumu.
Mūsu misija būtu kļūt par inovatīvu augsto tehnoloģiju digitālo un komunikācijas ierīču piegādātāju, piedāvājot papildu priekšrocības, stilu, pasaules līmeņa ražošanu un remonta iespējas.Ķīnas grafīta tīģelis, Minerāli un materiāliMēs vienmēr ievērojam godīguma, savstarpēja labuma un kopīgas attīstības principus. Pēc daudzu gadu attīstības un visu darbinieku nenogurstošajiem centieniem tagad mums ir perfekta eksporta sistēma, daudzveidīgi loģistikas risinājumi, visaptveroši klientu apmierinātības nodrošināšanai paredzēti piegādes, gaisa transporta, starptautisko eksprespasta un loģistikas pakalpojumi. Izstrādājam vienas pieturas piegādes platformu mūsu klientiem!
Ogleklis/oglekļa kompozīti(turpmāk tekstā — “C / C vai CFC”) ir kompozītmateriāla veids, kas ir balstīts uz oglekli un pastiprināts ar oglekļa šķiedru un tās izstrādājumiem (oglekļa šķiedras sagatavēm). Tam piemīt gan oglekļa inerce, gan oglekļa šķiedras augstā izturība. Tam ir labas mehāniskās īpašības, karstumizturība, izturība pret koroziju, berzes slāpēšana, kā arī siltumvadītspēja un elektrovadītspēja.
CVD-SiCPārklājumam piemīt vienmērīga struktūra, kompakts materiāls, augsta temperatūras izturība, oksidēšanās izturība, augsta tīrības pakāpe, izturība pret skābēm un sārmiem un organiskais reaģents, ar stabilām fizikālām un ķīmiskām īpašībām.
Salīdzinot ar augstas tīrības pakāpes grafīta materiāliem, grafīts sāk oksidēties 400 °C temperatūrā, kas oksidēšanās dēļ izraisa pulvera zudumu, kā rezultātā perifērijas ierīces un vakuuma kameras tiek piesārņotas, un palielinās augstas tīrības pakāpes vides piemaisījumi.
Tomēr SiC pārklājums var saglabāt fizikālo un ķīmisko stabilitāti 1600 grādos, to plaši izmanto mūsdienu rūpniecībā, īpaši pusvadītāju rūpniecībā.
Mūsu uzņēmums nodrošina SiC pārklāšanas procesa pakalpojumus, izmantojot CVD metodi grafīta, keramikas un citu materiālu virsmām, lai īpašas gāzes, kas satur oglekli un silīciju, reaģētu augstā temperatūrā, iegūstot augstas tīrības pakāpes SiC molekulas, molekulas nogulsnējas uz pārklāto materiālu virsmas, veidojot SIC aizsargslāni. Izveidotais SIC ir stingri saistīts ar grafīta bāzi, piešķirot grafīta bāzei īpašas īpašības, tādējādi padarot grafīta virsmu kompaktu, bez porainības, izturīgu pret augstām temperatūrām, koroziju un oksidēšanos.
Galvenās iezīmes:
1. Augstas temperatūras oksidēšanās izturība:
Oksidācijas izturība joprojām ir ļoti laba, ja temperatūra sasniedz pat 1600 °C.
2. Augsta tīrība: iegūta ar ķīmisku tvaiku nogulsnēšanos augstas temperatūras hlorēšanas apstākļos.
3. Izturība pret eroziju: augsta cietība, kompakta virsma, smalkas daļiņas.
4. Korozijas izturība: skābes, sārmi, sāls un organiskie reaģenti.
CVD-SIC pārklājumu galvenās specifikācijas:
| SiC-CVD | ||
| Blīvums | (g/cm³)
| 3.21 |
| Lieces izturība | (MPa)
| 470 |
| Termiskā izplešanās | (10–6/K) | 4
|
| Siltumvadītspēja | (W/mK) | 300
|
