তাপ প্রক্রিয়াকরণের জন্য চায়না গ্রাফাইট বল ভালভের মূল্য

সংক্ষিপ্ত বিবরণ:


পণ্যের বিবরণ

পণ্যের ট্যাগ

আমাদের লক্ষ্য হলো উচ্চ প্রযুক্তির ডিজিটাল এবং যোগাযোগ ডিভাইসের একটি উদ্ভাবনী সরবরাহকারী হিসেবে বিকশিত হওয়া। এর জন্য আমরা অতিরিক্ত সুবিধা, বিশ্বমানের উৎপাদন এবং মেরামত সক্ষমতা প্রদান করব। হিট ট্রিটমেন্টের জন্য চায়না গ্রাফাইট বল ভালভের কোটেশনের ক্ষেত্রে, আমাদের উদ্দেশ্য হলো গ্রাহকদের সাথে একটি উইন-উইন পরিস্থিতি তৈরি করা। আমরা বিশ্বাস করি, আমরাই আপনার সেরা পছন্দ হব। “সুনাম প্রথম, গ্রাহক সর্বাগ্রে।” আপনার অনুসন্ধানের অপেক্ষায় রইলাম।
আমাদের লক্ষ্য হবে বাড়তি সুবিধা, বিশ্বমানের উৎপাদন এবং মেরামত সক্ষমতা প্রদানের মাধ্যমে উচ্চ প্রযুক্তির ডিজিটাল ও যোগাযোগ ডিভাইসের একটি উদ্ভাবনী সরবরাহকারী হিসেবে গড়ে ওঠা।চায়না গ্রাফাইট ক্রুসিবল, খনিজ ও উপকরণআমরা সর্বদা সততা, পারস্পরিক সুবিধা এবং যৌথ উন্নয়নের নীতি অনুসরণ করি। বছরের পর বছর ধরে উন্নয়ন এবং সকল কর্মীদের অক্লান্ত প্রচেষ্টার ফলে, এখন আমাদের একটি নিখুঁত রপ্তানি ব্যবস্থা ও বৈচিত্র্যময় লজিস্টিক সমাধান রয়েছে, যা গ্রাহকদের শিপিং, বিমান পরিবহন, আন্তর্জাতিক এক্সপ্রেস এবং লজিস্টিক পরিষেবার চাহিদা সম্পূর্ণরূপে পূরণ করে। আমাদের গ্রাহকদের জন্য একটি বিশদ ওয়ান-স্টপ সোর্সিং প্ল্যাটফর্মও রয়েছে!

পণ্যের বিবরণ

কার্বন / কার্বন যৌগ(এরপরে “ হিসাবে উল্লেখ করা হবে)সি / সি অথবা সিএফসি”এটি এক প্রকার যৌগিক পদার্থ যা কার্বনের উপর ভিত্তি করে তৈরি এবং কার্বন ফাইবার ও এর উৎপাদিত পণ্য (কার্বন ফাইবার প্রিফর্ম) দ্বারা শক্তিশালী করা হয়। এতে কার্বনের জড়তা এবং কার্বন ফাইবারের উচ্চ শক্তি উভয়ই বিদ্যমান। এর উত্তম যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য, তাপ প্রতিরোধ ক্ষমতা, ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা, ঘর্ষণ প্রশমন এবং তাপ ও ​​বিদ্যুৎ পরিবাহিতার মতো বৈশিষ্ট্য রয়েছে।

CVD-SiCআবরণটির বৈশিষ্ট্য হলো এর সুষম গঠন, নিরেট উপাদান, উচ্চ তাপমাত্রা ও জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা, উচ্চ বিশুদ্ধতা, অ্যাসিড ও ক্ষার এবং জৈব বিকারক প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং স্থিতিশীল ভৌত ও রাসায়নিক ধর্ম।

উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট উপাদানের তুলনায়, গ্রাফাইট ৪০০°C তাপমাত্রায় জারিত হতে শুরু করে, যার ফলে জারণের কারণে পাউডারের ক্ষয় হয়, পার্শ্ববর্তী যন্ত্রপাতি ও ভ্যাকুয়াম চেম্বারে পরিবেশ দূষণ ঘটে এবং উচ্চ-বিশুদ্ধ পরিবেশে অশুদ্ধতার পরিমাণ বৃদ্ধি পায়।

তবে, SiC কোটিং ১৬০০ ডিগ্রি তাপমাত্রাতেও ভৌত ও রাসায়নিক স্থিতিশীলতা বজায় রাখতে পারে, তাই এটি আধুনিক শিল্পে, বিশেষ করে সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

আমাদের কোম্পানি CVD পদ্ধতির মাধ্যমে গ্রাফাইট, সিরামিক এবং অন্যান্য উপাদানের পৃষ্ঠে SiC কোটিং প্রক্রিয়াকরণ পরিষেবা প্রদান করে। এই প্রক্রিয়ায়, কার্বন ও সিলিকনযুক্ত বিশেষ গ্যাস উচ্চ তাপমাত্রায় বিক্রিয়া করে উচ্চ বিশুদ্ধতার SiC অণু তৈরি করে, যা কোটিং করা উপাদানের পৃষ্ঠে জমা হয়ে একটি SIC প্রতিরক্ষামূলক স্তর গঠন করে। গঠিত SIC গ্রাফাইট বেসের সাথে দৃঢ়ভাবে সংযুক্ত হয়, যা গ্রাফাইট বেসকে বিশেষ বৈশিষ্ট্য প্রদান করে। এর ফলে গ্রাফাইটের পৃষ্ঠ আরও নিরেট, ছিদ্রমুক্ত, উচ্চ তাপমাত্রা সহনশীল, ক্ষয়রোধী এবং জারণরোধী হয়ে ওঠে।

 গ্রাফাইট পৃষ্ঠের MOCVD সাসসেপ্টরগুলিতে SiC আবরণ প্রক্রিয়াকরণ

প্রধান বৈশিষ্ট্য:

১. উচ্চ তাপমাত্রায় জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা:

১৬০০ সেলসিয়াসের মতো উচ্চ তাপমাত্রায়ও জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা খুব ভালো থাকে।

২. উচ্চ বিশুদ্ধতা: উচ্চ তাপমাত্রার ক্লোরিনেশন অবস্থায় রাসায়নিক বাষ্প অধঃক্ষেপণ পদ্ধতিতে তৈরি।

৩. ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা: উচ্চ কাঠিন্য, নিরেট পৃষ্ঠতল, সূক্ষ্ম কণা।

৪. ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা: অ্যাসিড, ক্ষার, লবণ এবং জৈব বিকারক।

 

CVD-SIC কোটিং-এর প্রধান বৈশিষ্ট্যসমূহ:

SiC-CVD

ঘনত্ব

(জি/সিসি)

৩.২১

নমনীয় শক্তি

(এমপিএ)

৪৭০

তাপীয় প্রসারণ

(১০-৬/কে)

4

তাপ পরিবাহিতা

(ডব্লিউ/এমকে)

৩০০

বিস্তারিত ছবি

গ্রাফাইট পৃষ্ঠের MOCVD সাসসেপ্টরগুলিতে SiC আবরণ প্রক্রিয়াকরণগ্রাফাইট পৃষ্ঠের MOCVD সাসসেপ্টরগুলিতে SiC আবরণ প্রক্রিয়াকরণগ্রাফাইট পৃষ্ঠের MOCVD সাসসেপ্টরগুলিতে SiC আবরণ প্রক্রিয়াকরণগ্রাফাইট পৃষ্ঠের MOCVD সাসসেপ্টরগুলিতে SiC আবরণ প্রক্রিয়াকরণগ্রাফাইট পৃষ্ঠের MOCVD সাসসেপ্টরগুলিতে SiC আবরণ প্রক্রিয়াকরণ

কোম্পানির তথ্য

১১১

কারখানার সরঞ্জাম

২২২

গুদাম

৩৩৩

সার্টিফিকেশন

সার্টিফিকেশন২২

 


  • পূর্ববর্তী:
  • পরবর্তী:

  • হোয়াটসঅ্যাপ অনলাইন চ্যাট!