6 Inch N Type SiC Wafer

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

The 6 Inch N Type SiC Wafer ຈາກ VET Energy ເປັນຊັ້ນຍ່ອຍທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ຖືກອອກແບບມາສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ semiconductor ກ້າວຫນ້າ, ສະຫນອງການນໍາຄວາມຮ້ອນທີ່ເຫນືອກວ່າແລະປະສິດທິພາບພະລັງງານ. ພະລັງງານ VET ນໍາໃຊ້ເຕັກໂນໂລຢີທີ່ທັນສະ ໄໝ ເພື່ອຜະລິດ wafers ທີ່ມີຄຸນນະພາບສູງທີ່ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການທີ່ເຂັ້ມງວດຂອງເຄື່ອງເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ທັນສະໄຫມ, ຮັບປະກັນຄວາມຫນ້າເຊື່ອຖືແລະຄວາມທົນທານໃນອຸປະກອນພະລັງງານ.

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ ດາວໂຫຼດເປັນ PDF

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

ນີ້ 6 Inch N Type SiC Wafer ແມ່ນວິສະວະກໍາສໍາລັບການເພີ່ມປະສິດທິພາບໃນເງື່ອນໄຂທີ່ຮຸນແຮງ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນທາງເລືອກທີ່ເຫມາະສົມສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກທີ່ຕ້ອງການພະລັງງານສູງແລະທົນທານຕໍ່ອຸນຫະພູມ. ຜະລິດຕະພັນທີ່ສໍາຄັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງກັບ wafer ນີ້ປະກອບມີ Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, ແລະ SiN Substrate. ວັດສະດຸເຫຼົ່ານີ້ຮັບປະກັນການປະຕິບັດທີ່ດີທີ່ສຸດໃນຫຼາຍໆຂະບວນການຜະລິດ semiconductor, ເຮັດໃຫ້ອຸປະກອນທີ່ມີທັງພະລັງງານທີ່ມີປະສິດທິພາບແລະທົນທານ.

ສໍາລັບບໍລິສັດທີ່ເຮັດວຽກກັບ Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, Cassette, ຫຼື AlN Wafer, VET Energy's 6 Inch N Type SiC Wafer ສະຫນອງພື້ນຖານທີ່ຈໍາເປັນສໍາລັບການພັດທະນາຜະລິດຕະພັນທີ່ມີນະວັດກໍາ. ບໍ່ວ່າຈະຢູ່ໃນເອເລັກໂຕຣນິກທີ່ມີພະລັງງານສູງຫຼືຫລ້າສຸດໃນເຕັກໂນໂລຢີ RF, wafers ເຫຼົ່ານີ້ຮັບປະກັນການນໍາທີ່ດີເລີດແລະການຕໍ່ຕ້ານຄວາມຮ້ອນຫນ້ອຍ, ຊຸກຍູ້ຂອບເຂດຂອງປະສິດທິພາບແລະການປະຕິບັດ.

ຂໍ້ມູນຈໍາເພາະຂອງ wafering

*n-Pm=n-type Pm-Grade,n-Ps=n-type Ps-Grade,Sl=Semi-lnsulating

ລາຍການ	8-ນິ້ວ	6-ນິ້ວ			4-ນິ້ວ
ລາຍການ	nP	ນ-ນ	n-ປ	SI	SI
TTV(GBIR)	≤6um	≤6um
Bow(GF3YFCD)-ຄ່າຢ່າງແທ້ຈິງ	≤15μm	≤15μm	≤25μm		≤15μm
Warp(GF3YFER)	≤25μm	≤25μm	≤40μm		≤25μm
LTV(SBIR)-10mmx10mm	<2 ມມ
Wafer Edge	Beveling

ສໍາເລັດຮູບ

*n-Pm=n-type Pm-Grade,n-Ps=n-type Ps-Grade,Sl=Semi-lnsulating

ລາຍການ	8-ນິ້ວ	6-ນິ້ວ			4-ນິ້ວ
	nP	ນ-ນ	n-ປ	SI	SI
ສໍາເລັດຮູບ	ສອງດ້ານ Optical Polish, Si-Face CMP
ຄວາມຫຍາບຂອງຜິວໜ້າ	(10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm C-Face Ra≤ 0.5nm			(5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm C-Face Ra≤0.5nm
ຊິບຂອບ	ບໍ່ໄດ້ຮັບອະນຸຍາດ (ຍາວແລະຄວາມກວ້າງ≥0.5mm)
ຫຍໍ້ໜ້າ	ບໍ່ອະນຸຍາດ
ຮອຍຂູດ(Si-Face)	Qty.≤5,ສະສົມ Length≤0.5×ເສັ້ນຜ່າສູນກາງ wafer	Qty.≤5,ສະສົມ Length≤0.5×ເສັ້ນຜ່າສູນກາງ wafer			Qty.≤5,ສະສົມ Length≤0.5×ເສັ້ນຜ່າສູນກາງ wafer
ຮອຍແຕກ	ບໍ່ອະນຸຍາດ
ການຍົກເວັ້ນຂອບ	3 ມມ