Notícias

Fontes de contaminação e limpeza de wafers semicondutores
por admin em 24-08-13
Algumas substâncias orgânicas e inorgânicas são necessárias para a fabricação de semicondutores. Além disso, como o processo é sempre realizado em uma sala limpa com participação humana, os wafers semicondutores são inevitavelmente contaminados por diversas impurezas. De acordo...
Ler mais
Fontes de poluição e prevenção na indústria de fabricação de semicondutores
por admin em 24-08-13
A produção de dispositivos semicondutores inclui principalmente dispositivos discretos, circuitos integrados e seus processos de encapsulamento. A produção de semicondutores pode ser dividida em três etapas: produção do material do corpo do produto, fabricação do wafer do produto e montagem do dispositivo. Entre elas,...
Ler mais
Por que é necessário desbaste?
por admin em 24-08-08
Na fase de processamento final, o wafer (wafer de silício com circuitos na frente) precisa ser afinado na parte de trás antes do corte, soldagem e embalagem subsequentes para reduzir a altura de montagem do pacote, reduzir o volume do pacote do chip, melhorar a difusão térmica do chip...
Ler mais
Processo de síntese de pó monocristalino de SiC de alta pureza
por admin em 24-08-08
No processo de crescimento de monocristais de carboneto de silício, o transporte físico de vapor é o método de industrialização predominante atualmente. Para o método de crescimento PVT, o pó de carboneto de silício tem grande influência no processo de crescimento. Todos os parâmetros do pó de carboneto de silício...
Ler mais
Por que uma caixa de wafers contém 25 wafers?
por admin em 24-07-30
No sofisticado mundo da tecnologia moderna, os wafers, também conhecidos como wafers de silício, são os principais componentes da indústria de semicondutores. Eles são a base para a fabricação de diversos componentes eletrônicos, como microprocessadores, memórias, sensores, etc., e cada wafer...
Ler mais
Pedestais comumente usados para epitaxia em fase de vapor
por admin em 24-07-30
Durante o processo de epitaxia em fase de vapor (VPE), a função do pedestal é sustentar o substrato e garantir aquecimento uniforme durante o processo de crescimento. Diferentes tipos de pedestais são adequados para diferentes condições de crescimento e sistemas de materiais. A seguir, alguns...
Ler mais
Como prolongar a vida útil de produtos revestidos de carboneto de tântalo?
por admin em 24-07-26
Produtos revestidos de carboneto de tântalo são um material comumente utilizado para altas temperaturas, caracterizado por alta resistência à temperatura, resistência à corrosão, resistência ao desgaste, etc. Portanto, são amplamente utilizados em indústrias como aeroespacial, química e de energia. Para ex...
Ler mais
Qual é a diferença entre PECVD e LPCVD em equipamentos CVD de semicondutores?
por admin em 24-07-24
A deposição química de vapor (CVD) refere-se ao processo de deposição de um filme sólido na superfície de uma pastilha de silício por meio de uma reação química de uma mistura de gases. De acordo com as diferentes condições de reação (pressão, precursor), pode ser dividida em vários equipamentos...
Ler mais
Características do molde de grafite de carboneto de silício
por admin em 24-07-18
Molde de Carboneto de Silício e Grafite O molde de carboneto de silício e grafite é um molde composto com carboneto de silício (SiC) como base e grafite como material de reforço. Este molde possui excelente condutividade térmica, resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão e...
Ler mais