Durante o processo de epitaxia em fase vapor (VPE), a função do pedestal é suportar o substrato e garantir um aquecimento uniforme durante o crescimento. Diferentes tipos de pedestais são adequados para diferentes condições de crescimento e sistemas de materiais. A seguir, apresentamos alguns dos tipos de pedestais mais comumente usados em VPE.epitaxia:
pedestal de barril
Os pedestais cilíndricos são comumente usados em sistemas de epitaxia em fase vapor horizontais ou inclinados. Eles podem sustentar o substrato e permitir que o gás flua sobre ele, o que ajuda a obter um crescimento epitaxial uniforme.
Pedestal em forma de disco (pedestal vertical)
Os pedestais em forma de disco são adequados para sistemas de epitaxia em fase vapor vertical, nos quais o substrato é posicionado verticalmente. Esse design ajuda a reduzir a área de contato entre o substrato e o susceptor, diminuindo assim a perda de calor e a potencial contaminação.
Susceptor horizontal
Os susceptores horizontais são menos comuns na epitaxia em fase vapor, mas podem ser usados em alguns sistemas de crescimento específicos para permitir o crescimento epitaxial na direção horizontal.
Susceptor de reação epitaxial monolítica
O receptor de reação epitaxial monolítico foi projetado para um único substrato, o que permite um controle de temperatura mais preciso e melhor isolamento térmico, sendo adequado para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade.
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Data da publicação: 30 de julho de 2024