Megbízható szállító Kína magas hőmérsékletnek ellenálló derék szilícium-karbid grafit tégely

Rövid leírás:


Termék részletei

Termékcímkék

Jelenleg számos kiváló munkatársunk van, akik kiválóak az internetes marketingben, a minőségellenőrzésben és a gyártási folyamat során felmerülő nehézkes problémák megoldásában a megbízható beszállító, Kína magas hőmérsékletnek ellenálló derékú szilícium-karbid grafit tégelyének esetében. Őszintén reméljük, hogy együtt növekszünk ügyfeleinkkel szerte a világon.
Most rengeteg kiváló munkatársunk van, akik kiválóak az internetes marketingben, a minőségellenőrzésben és a gyártási folyamat során felmerülő nehéz problémák megoldásában.Kínai olvasztótégely, GrafittégelyMa a világ minden tájáról érkeznek ügyfeleink, beleértve az USA-t, Oroszországot, Spanyolországot, Olaszországot, Szingapúrt, Malajziát, Thaiföldet, Lengyelországot, Iránt és Irakot. Cégünk küldetése, hogy a lehető legjobb minőségű árut kínálja a legjobb áron. Alig várjuk, hogy üzletelhessünk Önökkel.

Termékleírás

Szén / szén kompozitok(a továbbiakban: „C / C vagy CFC”) egyfajta szén alapú kompozit anyag, amelyet szénszállal és annak termékeivel (szénszál előgyártmány) erősítenek meg. Rendelkezik a szén tehetetlenségével és a szénszál nagy szilárdságával. Jó mechanikai tulajdonságokkal, hőállósággal, korrózióállósággal, súrlódáscsillapítással, valamint hő- és elektromos vezetőképességgel rendelkezik.

CVD-SiCA bevonat egyenletes szerkezetű, kompakt anyagú, magas hőmérséklettel szemben ellenálló, oxidációs ellenállású, nagy tisztaságú, sav- és lúgálló, szerves reagensekkel szemben ellenálló, stabil fizikai és kémiai tulajdonságokkal rendelkezik.

A nagy tisztaságú grafit anyagokkal összehasonlítva a grafit 400°C-on oxidálódni kezd, ami az oxidáció miatt porveszteséget okoz, ami környezetszennyezést okoz a perifériás eszközökben és a vákuumkamrákban, és növeli a nagy tisztaságú környezet szennyeződéseit.

A SiC bevonat azonban 1600 fokon is képes fizikai és kémiai stabilitást fenntartani, ezért széles körben használják a modern iparban, különösen a félvezetőiparban.

Cégünk CVD módszerrel végez SiC bevonatolási eljárást grafit, kerámiák és egyéb anyagok felületén, melynek során speciális, szenet és szilíciumot tartalmazó gázok magas hőmérsékleten reagálva nagy tisztaságú SiC molekulákat hoznak létre, amelyek a bevont anyagok felületére rakódnak le, SIC védőréteget képezve. A képződött SIC szilárdan kötődik a grafit alaphoz, különleges tulajdonságokat kölcsönözve a grafit alapnak, így a grafit felülete tömör, porozitásmentes, magas hőmérsékletnek ellenálló, korrózióálló és oxidációálló.

 SiC bevonat feldolgozása grafit felületű MOCVD szuszceptorokon

Főbb jellemzők:

1. Magas hőmérsékletű oxidációs ellenállás:

Az oxidációs ellenállás még 1600 °C hőmérsékleten is nagyon jó.

2. Nagy tisztaságú: kémiai gőzfázisú leválasztással, magas hőmérsékletű klórozási körülmények között állítják elő.

3. Erózióállóság: nagy keménység, tömör felület, finom részecskék.

4. Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.

 

A CVD-SIC bevonatok főbb jellemzői:

SiC-CVD

Sűrűség

(g/cm³)

3.21

Hajlító szilárdság

(MPa)

470

Hőtágulás

(10-6/Ó)

4

Hővezető képesség

(W/mK)

300

Részletes képek

SiC bevonat feldolgozása grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozása grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozása grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozása grafit felületű MOCVD szuszceptorokonSiC bevonat feldolgozása grafit felületű MOCVD szuszceptorokon

Céginformációk

111

Gyári berendezések

222

Raktár

333

Tanúsítványok

Tanúsítványok22

 


  • Előző:
  • Következő:

  • Online csevegés WhatsApp-on!