太陽光発電半導体産業の背後にある「黒い金」の秘密：静水圧グラファイトへの欲求と依存

静水圧黒鉛は、太陽光発電や半導体において非常に重要な材料です。国内の静水圧黒鉛企業の急速な台頭により、中国における外資系企業の独占状態は打破されつつあります。当社は、継続的な自主研究開発と技術革新により、一部の主力製品の性能指標は国際競合他社と同等、あるいはそれ以上の水準に達しています。しかしながら、原材料価格の下落とエンドユーザー顧客のコスト削減という二重の影響を受け、価格は下落を続けています。現在、国内のローエンド製品の利益率は20%未満です。生産能力の継続的な解放に伴い、静水圧黒鉛企業は徐々に新たな圧力と課題に直面しています。

1. 等方性グラファイトとは何ですか?

アイソスタティックグラファイトとは、静水圧成形法によって製造されるグラファイト材料を指します。静水圧成形されたグラファイトは、成形工程において液体圧力によって均一かつ安定的に加圧されるため、優れた特性を有します。1960年代に誕生して以来、アイソスタティックグラファイトは、その独自の特性と幅広い用途により、新しいグラファイト材料のリーダー的存在となっています。

2. 等方性グラファイト製造プロセス

図は、等方圧成形グラファイトの製造プロセスフローを示しています。等方圧成形グラファイトは、構造的に等方性のある原料を必要とします。原料はより微細な粉末に粉砕され、等方圧成形技術を適用する必要があります。焙焼サイクルは非常に長く、目標密度を達成するには、複数回の含浸と焙焼サイクルが必要です。また、黒鉛化期間も通常の黒鉛よりもはるかに長くなります。

3. 等方性グラファイトの応用

等方性グラファイトは、主に半導体や太陽光発電の分野で幅広い用途に使用されています。

太陽光発電分野では、等方圧成形グラファイトは主に、単結晶シリコン成長炉のグラファイト熱処理分野および多結晶シリコンインゴット炉のグラファイト熱処理分野のグラファイト部品に使用されています。具体的には、多結晶シリコン材料製造用のクランプ、水素化炉用ガス分配器、発熱体、断熱筒、多結晶インゴットヒーター、方向性ブロック、単結晶成長用ガイドチューブ、その他小型部品に使用されます。

半導体分野では、サファイア単結晶育成用のヒーターや断熱筒に、静水圧成形黒鉛または成形黒鉛が使用されています。また、るつぼ、ヒーター、電極、断熱遮蔽板、種結晶などの部品にも、静水圧成形黒鉛が使用されています。約30種類のホルダー、回転るつぼ用ベース、各種円板、熱反射板なども静水圧成形黒鉛で作られています。