応用分野


製品の用途と性能 製品の用途と使用方法
Si単結晶産業、GaN、AlN、サファイア、その他のMOCVD基板。 -単結晶シリコンエピタキシャル成長用グラファイトベースコーティング
主な性能:高純度、耐侵食性、高熱伝導性、- MOCVDプロセス、GaNエピタキシャル成長用グラファイトベースコーティング
高温耐性、低熱膨張係数。
| 熱伝導率 | 250 W/m °K | レーザーフラッシュ法、RT |
| 熱膨張係数(CTE) | 4.5 x 10-6°K | 室温から950℃まで、シリカ膨張計 |
| 財産 | 価値 | 方法 |
| 密度 | 3.21 g/cc | 沈下浮力と寸法 |
| 比熱 | 0.66 J/g °K | パルスレーザーフラッシュ |
| 曲げ強度 | 450 MPa 560 MPa | 4点曲げ、RT4点曲げ、1300° |
| 破壊靭性 | 2.94 MPa m1/2 | マイクロインデンテーション |
| 硬度 | 2800 | ビッカース弾、500g装填 |
| 弾性率 ヤング率 | 450 GPa 430 GPa | 4点曲げ、RT4点曲げ、1300℃ |
| 粒度 | 2~10 µm | SEM |

純度、SEM構造、厚さ分析SiCコーティング
CVD法を用いてグラファイト上に成膜したSiCコーティングの純度は99.9995%と非常に高い。その構造はfccである。グラファイト上に成膜されたSiC膜は、XRDデータ(図1)に示すように(111)配向しており、高い結晶品質を示している。SiC膜の厚さは図2に示すように非常に均一である。
単結晶シリコンエピタキシャルベース
製品の性能と用途の見通し。
炭化ケイ素(SiC)コーティングベースは、単結晶シリコンおよびGaNエピタキシャル成長に最適なベースであり、エピタキシャル炉の中核部品です。ベースは、大型集積回路用単結晶シリコンの重要な製造用付属品です。高純度、耐高温性、耐腐食性、優れた気密性など、優れた材料特性を備えています。
製品の用途と使用方法
単結晶シリコンエピタキシャル成長用グラファイトベースコーティング。Aixtron社製装置などに適しています。コーティング厚さ:90~150μm。ウェーハクレーターの直径は55mmです。
当社を選ぶ理由
プロ仕様の機材とチーム
クラス1000の無塵作業場
クイックサービス
ご注文前のお問い合わせにつきましては、弊社の専門営業チームが営業時間内であれば50~100分以内、営業時間外であれば12時間以内にご回答いたします。迅速かつ専門的な対応により、お客様に最適なソリューションを効率的にご提案し、ご満足いただけるようサポートいたします。
ご注文処理段階では、弊社の専門サービスチームが3~5日ごとに写真を撮影し、お客様に生産状況をリアルタイムでご報告いたします。また、発送状況に関する書類を36時間以内にご提供いたします。弊社はアフターサービスにも細心の注意を払っております。
アフターサービス段階においても、弊社のサービスチームは常にお客様と密に連絡を取り合い、いつでもサポートいたします。専門的なアフターサービスには、お客様の現場で問題解決を支援するためにエンジニアを派遣することも含まれます。保証期間は納品後12ヶ月です。
梱包の詳細
よくある質問
はい、すべての海外からのご注文には、継続的な最低注文数量が設定されています。
はい、分析証明書/適合証明書、保険証書、原産地証明書、その他必要な輸出書類など、ほとんどの書類をご提供できます。
サンプルの場合、納期は約7日間です。量産の場合、ご入金確認後15~25日間となります。納期は、ご入金確認後、お客様から最終承認をいただいた時点から有効となります。いずれの場合も、お客様のご要望にお応えできるよう努めます。ほとんどの場合、ご要望にお応えすることが可能です。
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当社は材料と製造上の品質を保証いたします。お客様にご満足いただくことが当社の使命です。保証期間内であるか否かにかかわらず、すべてのお客様の問題に真摯に対応し、ご満足いただけるよう解決することが当社の企業文化です。
はい、弊社では常に高品質の輸出用梱包材を使用しています。危険物には専用の危険物梱包材を、温度管理が必要な品目には認証済みの冷蔵輸送用梱包材を使用しています。特殊な梱包や標準外の梱包要件には追加料金が発生する場合があります。
送料は、商品の配送方法によって異なります。通常、速達便が最も速いですが、最も高額な配送方法でもあります。大量の場合は、海上輸送が最適です。正確な送料は、数量、重量、配送方法の詳細が分からないとお伝えできません。詳細については、お問い合わせください。
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