Zprávy

Současný stav a trend výzkumu metalizace na keramických substrátech
od administrátora dne 25. 7. 2016
Po slinování a tvarování keramického substrátu je třeba jeho povrch metalizovat a poté se na něj přenosem obrazu vytvoří povrchový vzor, aby se dosáhlo elektrického připojení keramického substrátu. Metalizace povrchu je klíčovým krokem při výrobě keramických substrátů...
Číst dále
Jaká je technologie související s růstem krystalů karbidu křemíku (SiC)?
od administrátora dne 25. 7. 2010
1. Technologie dopování prášku karbidu křemíku Dopováním vhodného množství prvku Ce v prášku karbidu křemíku lze dosáhnout stabilního růstu monokrystalické formy 4H-SiC. Praktické zkušenosti ukázaly, že dopování prvků Ce v práškových materiálech může zvýšit rychlost růstu ...
Číst dále
Princip metody PVT pro růst krystalů karbidu křemíku (SiC)
od administrátora dne 25. 7. 2003
Metoda PVT, jejíž celý název je fyzikální transport páry, je běžná metoda pro pěstování krystalů karbidu křemíku (SiC) za vysoké teploty a vysokého tlaku. Jejím základním principem je zahřátí prášku karbidu křemíku k sublimaci při teplotě nad 2300 ℃ a v prostředí s nízkým tlakem...
Číst dále
Co je to pec pro růst krystalů karbidu křemíku (SiC)?
od administrátora dne 25. 6. 2024
SiC se vyznačuje velkou šířkou zakázaného pásma, vysokou tepelnou vodivostí, vysokou kritickou intenzitou průrazného pole a vysokou rychlostí driftu elektronové saturace. Může splňovat požadavky aplikací za podmínek vysoké teploty, vysokého tlaku, vysoké frekvence a vysokého výkonu. Může být široce používán...
Číst dále
Co je CVD SiC povlak?
od administrátora dne 25. 6. 2009
CVD SiC povlakování ohromující rychlostí mění hranice procesů výroby polovodičů. Tato zdánlivě jednoduchá technologie povlakování se stala klíčovým řešením tří hlavních problémů, kterými jsou kontaminace částicemi, vysokoteplotní koroze a plazmová eroze při výrobě čipů. ...
Číst dále
Funkce a použití křemenné lodi
od administrátora dne 25. 6. 2004
Křemenná lodička, jako součástka přesných přístrojů vyrobená z vysoce čistého křemenného materiálu, hraje důležitou roli v mnoha oblastech, jako je výroba polovodičů, optoelektronický průmysl, chemická analýza a experimenty za vysokých teplot. Její jedinečné fyzikální a chemické vlastnosti jí dávají široké...
Číst dále
Vliv různých teplot na růst CVD SiC povlaku
od administrátora dne 25.05.2026
Co je CVD SiC povlakování? Chemická depozice z plynné fáze (CVD) je proces vakuové depozice používaný k výrobě vysoce čistých pevných materiálů. Tento proces se často používá v oblasti výroby polovodičů k vytváření tenkých filmů na povrchu destiček. V procesu přípravy karbidu křemíku metodou CV...
Číst dále
Co je to solární grafitový člun?
od administrátora dne 25. 4. 2022
V rychle se rozvíjejícím odvětví solární fotovoltaiky (FV) jsou pro zvýšení účinnosti přeměny energie klíčové přesnost a inovace materiálů. Mezi neznámé hrdiny v tomto procesu patří Solar Graphite Boat, specializovaná součástka určená pro výrobu polovodičů za vysokých teplot...
Číst dále
Co je to TaC povlak?
od administrátora dne 25. 4. 2010
V rychle se rozvíjejícím polovodičovém průmyslu jsou materiály, které zvyšují výkon, odolnost a účinnost, klíčové. Jednou z takových inovací je povlak z karbidu tantalu (TaC), špičková ochranná vrstva nanášená na grafitové součástky. Tento blog zkoumá definici povlaku TaC, jeho technologii...
Číst dále