बातम्या

सिरॅमिक सब्सट्रेट पृष्ठभागांवरील धातूकरण संशोधनाची सद्यस्थिती आणि कल
प्रशासकाद्वारे २५-०७-१६ रोजी
सिरेमिक सबस्ट्रेटचे सिंटरिंग आणि आकार दिल्यानंतर, त्याच्या पृष्ठभागावर मेटलायझेशन करणे आवश्यक असते, आणि मग इमेज ट्रान्सफरद्वारे पृष्ठभागावर नमुना तयार केला जातो, जेणेकरून सिरेमिक सबस्ट्रेटची विद्युत जोडणीची कार्यक्षमता साध्य करता येईल. पृष्ठभागाचे मेटलायझेशन ही सिरेमिक सबस्ट्रेटच्या निर्मितीमधील एक महत्त्वपूर्ण पायरी आहे...
अधिक वाचा
सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) स्फटिकांच्या वाढीशी संबंधित तंत्रज्ञान कोणते आहे?
प्रशासकाद्वारे २५-०७-१० रोजी
१. सिलिकॉन कार्बाइड पावडर डोपिंग तंत्रज्ञान: सिलिकॉन कार्बाइड पावडरमध्ये योग्य प्रमाणात Ce मूलद्रव्याचे डोपिंग केल्याने 4H-SiC च्या एकल क्रिस्टल स्वरूपाची स्थिर वाढ साधता येते. व्यावहारिक अनुभवाने असे दिसून आले आहे की पावडर पदार्थांमध्ये Ce मूलद्रव्यांचे डोपिंग केल्याने वाढीचा दर वाढू शकतो...
अधिक वाचा
PVT पद्धतीचे तत्त्व: सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) स्फटिक वाढ
प्रशासकाद्वारे २५-०७-०३ रोजी
पीव्हीटी पद्धत, जिचे पूर्ण नाव फिजिकल व्हेपर ट्रान्सपोर्टेशन आहे, ही उच्च तापमान आणि उच्च दाबाखाली सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) स्फटिक वाढवण्याची एक सामान्य पद्धत आहे. याचे मूलभूत तत्त्व म्हणजे सिलिकॉन कार्बाइड पावडरला २३००℃ पेक्षा जास्त तापमानात आणि कमी दाबाच्या वातावरणात ऊर्ध्वपातनापर्यंत गरम करणे...
अधिक वाचा
सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) स्फटिक वाढ भट्टी म्हणजे काय?
प्रशासकाद्वारे २५-०६-२४ रोजी
SiC मध्ये मोठा बँडगॅप, उच्च औष्णिक वाहकता, उच्च क्रांतिकारक ब्रेकडाउन क्षेत्र सामर्थ्य आणि उच्च इलेक्ट्रॉन संपृक्तता प्रवाह दर ही वैशिष्ट्ये आहेत. ते उच्च तापमान, उच्च दाब, उच्च वारंवारता आणि उच्च शक्तीच्या परिस्थितीत वापराच्या गरजा पूर्ण करू शकते. त्याचा मोठ्या प्रमाणावर वापर केला जाऊ शकतो...
अधिक वाचा
CVD SiC कोटिंग म्हणजे काय?
प्रशासकाद्वारे २५-०६-०९ रोजी
सीव्हीडी एसआयसी कोटिंग आश्चर्यकारक वेगाने सेमीकंडक्टर उत्पादन प्रक्रियेच्या मर्यादा बदलत आहे. हे वरवर पाहता सोपे वाटणारे कोटिंग तंत्रज्ञान, चिप उत्पादनातील कण प्रदूषण, उच्च-तापमान क्षरण आणि प्लाझ्मा क्षरण या तीन मुख्य आव्हानांवर एक प्रमुख उपाय बनले आहे. ...
अधिक वाचा
क्वार्ट्झ बोटीचे कार्य आणि उपयोग
प्रशासकाद्वारे २५-०६-०४ रोजी
उच्च-शुद्धतेच्या क्वार्ट्झ पदार्थापासून बनवलेला एक अचूक उपकरण घटक म्हणून, क्वार्ट्झ बोट सेमीकंडक्टर उत्पादन, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग, रासायनिक विश्लेषण आणि उच्च-तापमान प्रयोग यांसारख्या अनेक क्षेत्रांमध्ये महत्त्वाची भूमिका बजावते. त्याचे अद्वितीय भौतिक आणि रासायनिक गुणधर्म त्याला एक व्यापक...
अधिक वाचा
सीव्हीडी एसआयसी कोटिंगच्या वाढीवर वेगवेगळ्या तापमानांचा परिणाम
प्रशासकाद्वारे २५-०५-२६ रोजी
CVD SiC कोटिंग म्हणजे काय? केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (CVD) ही एक व्हॅक्यूम डिपॉझिशन प्रक्रिया आहे, जी उच्च-शुद्धतेचे घन पदार्थ तयार करण्यासाठी वापरली जाते. ही प्रक्रिया अनेकदा सेमीकंडक्टर उत्पादन क्षेत्रात वेफर्सच्या पृष्ठभागावर पातळ थर तयार करण्यासाठी वापरली जाते. CVD द्वारे सिलिकॉन कार्बाइड तयार करण्याच्या प्रक्रियेत...
अधिक वाचा
सोलर ग्राफाइट बोट म्हणजे काय?
प्रशासकाद्वारे २५-०४-२२ रोजी
वेगाने विकसित होत असलेल्या सौर फोटोव्होल्टेइक (PV) उद्योगात, ऊर्जा रूपांतरण कार्यक्षमता वाढवण्यासाठी अचूकता आणि सामग्रीतील नावीन्य अत्यंत महत्त्वाचे आहे. या प्रक्रियेतील अज्ञात नायकांपैकी एक म्हणजे 'सोलर ग्राफाइट बोट', जो उच्च-तापमान सेमीकंडक्टर उत्पादनासाठी डिझाइन केलेला एक विशेष घटक आहे...
अधिक वाचा
TaC कोटिंग म्हणजे काय?
प्रशासकाद्वारे २५-०४-१० रोजी
वेगाने विकसित होत असलेल्या सेमीकंडक्टर उद्योगात, कार्यक्षमता, टिकाऊपणा आणि परिणामकारकता वाढवणारे साहित्य अत्यंत महत्त्वाचे आहे. असेच एक नवसंशोधन म्हणजे टँटॅलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग, जो ग्राफाइट घटकांवर लावला जाणारा एक अत्याधुनिक संरक्षक थर आहे. हा ब्लॉग TaC कोटिंगची व्याख्या, तांत्रिक बाबी आणि...
अधिक वाचा