వార్తలు

సిరామిక్ సబ్‌స్ట్రేట్ ఉపరితలాలపై మెటలైజేషన్ పరిశోధన యొక్క ప్రస్తుత పరిస్థితి మరియు ధోరణి
అడ్మిన్ ద్వారా 25-07-16న
సిరామిక్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ను సింటరింగ్ చేసి, ఆకృతినిచ్చిన తర్వాత, దాని ఉపరితలాన్ని మెటలైజ్ చేయాలి, ఆపై సిరామిక్ సబ్‌స్ట్రేట్ యొక్క విద్యుత్ కనెక్షన్ పనితీరును సాధించడానికి ఇమేజ్ ట్రాన్స్‌ఫర్ ద్వారా ఉపరితల నమూనాను తయారు చేస్తారు. సిరామిక్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ల తయారీలో ఉపరితల మెటలైజేషన్ ఒక కీలకమైన దశ...
మరింత చదవండి
సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) స్ఫటికాల పెరుగుదలకు సంబంధించిన సాంకేతికత ఏమిటి?
అడ్మిన్ ద్వారా 25-07-10న
1. సిలికాన్ కార్బైడ్ పౌడర్ డోపింగ్ టెక్నాలజీ: సిలికాన్ కార్బైడ్ పౌడర్‌లో తగినంత పరిమాణంలో Ce మూలకాన్ని డోపింగ్ చేయడం ద్వారా 4H-SiC యొక్క సింగిల్ క్రిస్టల్ రూపం యొక్క స్థిరమైన పెరుగుదలను సాధించవచ్చు. పౌడర్ పదార్థాలలో Ce మూలకాలను డోపింగ్ చేయడం వల్ల పెరుగుదల రేటును పెంచవచ్చని ఆచరణాత్మక అనుభవం చూపించింది...
మరింత చదవండి
PVT పద్ధతి యొక్క సూత్రం సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) స్ఫటిక వృద్ధి
అడ్మిన్ ద్వారా 25-07-03న
PVT పద్ధతి, దీని పూర్తి పేరు ఫిజికల్ వేపర్ ట్రాన్స్‌పోర్టేషన్, అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు అధిక పీడనం వద్ద సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) స్ఫటికాలను పెంచడానికి ఉపయోగించే ఒక సాధారణ పద్ధతి. దీని ప్రాథమిక సూత్రం ఏమిటంటే, సిలికాన్ కార్బైడ్ పొడిని 2300℃ కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్ద మరియు అల్ప-పీడన వాతావరణంలో ఉత్పతనం చెందే వరకు వేడి చేయడం...
మరింత చదవండి
సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) స్ఫటిక వృద్ధి కొలిమి అంటే ఏమిటి?
అడ్మిన్ ద్వారా 25-06-24న
SiC పెద్ద బ్యాండ్‌గ్యాప్, అధిక ఉష్ణ వాహకత, అధిక క్రిటికల్ బ్రేక్‌డౌన్ ఫీల్డ్ స్ట్రెంత్ మరియు అధిక ఎలక్ట్రాన్ శాచురేషన్ డ్రిఫ్ట్ రేట్ వంటి లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది. ఇది అధిక ఉష్ణోగ్రత, అధిక పీడనం, అధిక ఫ్రీక్వెన్సీ మరియు అధిక పవర్ పరిస్థితులలో అప్లికేషన్ అవసరాలను తీర్చగలదు. దీనిని విస్తృతంగా ఉపయోగించవచ్చు...
మరింత చదవండి
CVD SiC కోటింగ్ అంటే ఏమిటి?
అడ్మిన్ ద్వారా 25-06-09న
CVD SiC కోటింగ్, సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియల పరిమితులను ఆశ్చర్యకరమైన వేగంతో పునర్నిర్మిస్తోంది. పైకి సరళంగా కనిపించే ఈ కోటింగ్ టెక్నాలజీ, చిప్ తయారీలో ఎదురయ్యే కణ కాలుష్యం, అధిక-ఉష్ణోగ్రత తుప్పు మరియు ప్లాస్మా కోత అనే మూడు ప్రధాన సవాళ్లకు కీలక పరిష్కారంగా మారింది. ...
మరింత చదవండి
క్వార్ట్జ్ పడవ యొక్క పనితీరు మరియు ఉపయోగం
అడ్మిన్ ద్వారా 25-06-04న
అధిక స్వచ్ఛత గల క్వార్ట్జ్ పదార్థంతో తయారు చేయబడిన ఒక ఖచ్చితమైన పరికర భాగమైన క్వార్ట్జ్ బోట్, సెమీకండక్టర్ తయారీ, ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్ పరిశ్రమ, రసాయన విశ్లేషణ మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్రయోగాలు వంటి అనేక రంగాలలో ముఖ్యమైన పాత్ర పోషిస్తుంది. దాని విశిష్టమైన భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాలు దీనికి విస్తృతమైన...
మరింత చదవండి
CVD SiC పూత పెరుగుదలపై వివిధ ఉష్ణోగ్రతల ప్రభావం
అడ్మిన్ ద్వారా 25-05-26న
CVD SiC కోటింగ్ అంటే ఏమిటి? కెమికల్ వేపర్ డిపోజిషన్ (CVD) అనేది అధిక స్వచ్ఛత గల ఘన పదార్థాలను ఉత్పత్తి చేయడానికి ఉపయోగించే ఒక వాక్యూమ్ డిపోజిషన్ ప్రక్రియ. ఈ ప్రక్రియను తరచుగా సెమీకండక్టర్ తయారీ రంగంలో వేఫర్‌ల ఉపరితలంపై పలుచని పొరలను ఏర్పరచడానికి ఉపయోగిస్తారు. CV ద్వారా సిలికాన్ కార్బైడ్‌ను తయారుచేసే ప్రక్రియలో...
మరింత చదవండి
సోలార్ గ్రాఫైట్ బోట్ అంటే ఏమిటి?
అడ్మిన్ ద్వారా 25-04-22న
వేగంగా అభివృద్ధి చెందుతున్న సోలార్ ఫోటోవోల్టాయిక్ (PV) పరిశ్రమలో, శక్తి మార్పిడి సామర్థ్యాన్ని మెరుగుపరచడానికి కచ్చితత్వం మరియు పదార్థ ఆవిష్కరణలు చాలా కీలకం. ఈ ప్రక్రియలో అంతగా గుర్తింపు పొందని కీలక అంశాలలో సోలార్ గ్రాఫైట్ బోట్ ఒకటి. ఇది అధిక-ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ తయారీ కోసం ప్రత్యేకంగా రూపొందించబడిన ఒక భాగం...
మరింత చదవండి
TaC కోటింగ్ అంటే ఏమిటి?
అడ్మిన్ ద్వారా 25-04-10న
వేగంగా అభివృద్ధి చెందుతున్న సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో, పనితీరు, మన్నిక మరియు సామర్థ్యాన్ని పెంచే పదార్థాలు చాలా కీలకం. అటువంటి ఒక ఆవిష్కరణే టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) కోటింగ్. ఇది గ్రాఫైట్ భాగాలకు వర్తించే ఒక అత్యాధునిక రక్షణ పొర. ఈ బ్లాగ్ TaC కోటింగ్ యొక్క నిర్వచనం, సాంకేతిక...
మరింత చదవండి