समाचार

सिरेमिक सब्सट्रेट सतहों पर धातुकरण अनुसंधान की वर्तमान स्थिति और रुझान
एडमिन द्वारा 25-07-16 को
सिरेमिक सब्सट्रेट के सिंटरिंग और निर्माण के बाद, इसकी सतह को धातुयुक्त करना आवश्यक होता है, और फिर सिरेमिक सब्सट्रेट के विद्युत संपर्क प्रदर्शन को प्राप्त करने के लिए इमेज ट्रांसफर के माध्यम से सतह पैटर्न बनाया जाता है। सतह धातुयुक्तीकरण सिरेमिक सब्सट्रेट के निर्माण में एक महत्वपूर्ण चरण है...
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सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) क्रिस्टल के विकास से संबंधित तकनीक क्या है?
एडमिन द्वारा 25-07-10 को
1. सिलिकॉन कार्बाइड पाउडर डोपिंग तकनीक: सिलिकॉन कार्बाइड पाउडर में Ce तत्व की उचित मात्रा मिलाकर 4H-SiC के एकल क्रिस्टल रूप की स्थिर वृद्धि प्राप्त की जा सकती है। व्यावहारिक अनुभव से पता चला है कि पाउडर सामग्री में Ce तत्व मिलाने से वृद्धि दर में वृद्धि हो सकती है...
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पीवीटी विधि द्वारा सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) क्रिस्टल वृद्धि का सिद्धांत
एडमिन द्वारा 25-07-03 को
पीवीटी विधि, जिसका पूरा नाम फिजिकल वेपर ट्रांसपोर्टेशन है, उच्च तापमान और उच्च दबाव में सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) क्रिस्टल विकसित करने की एक सामान्य विधि है। इसका मूल सिद्धांत सिलिकॉन कार्बाइड पाउडर को 2300℃ से अधिक तापमान पर और कम दबाव वाले वातावरण में ऊर्ध्वपातन तक गर्म करना है।
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सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) क्रिस्टल वृद्धि भट्टी क्या है?
एडमिन द्वारा 25-06-24 को
SiC में उच्च बैंडगैप, उच्च तापीय चालकता, उच्च क्रांतिक ब्रेकडाउन क्षेत्र शक्ति और उच्च इलेक्ट्रॉन संतृप्ति बहाव दर जैसी विशेषताएं हैं। यह उच्च तापमान, उच्च दबाव, उच्च आवृत्ति और उच्च शक्ति की स्थितियों में अनुप्रयोग आवश्यकताओं को पूरा कर सकता है। इसका व्यापक रूप से उपयोग किया जा सकता है...
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सीवीडी एसआईसी कोटिंग क्या है?
एडमिन द्वारा 25-06-09 को
सीवीडी एसआईसी कोटिंग अर्धचालक निर्माण प्रक्रियाओं की सीमाओं को आश्चर्यजनक गति से बदल रही है। यह देखने में सरल लगने वाली कोटिंग तकनीक चिप निर्माण में कण संदूषण, उच्च तापमान संक्षारण और प्लाज्मा क्षरण की तीन प्रमुख चुनौतियों का एक महत्वपूर्ण समाधान बन गई है।
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क्वार्ट्ज नाव का कार्य और उपयोग
एडमिन द्वारा 25-06-04 को
उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज़ पदार्थ से निर्मित एक सटीक उपकरण घटक के रूप में क्वार्ट्ज़ नाव, अर्धचालक निर्माण, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग, रासायनिक विश्लेषण और उच्च तापमान प्रयोगों जैसे कई क्षेत्रों में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है। इसके अद्वितीय भौतिक और रासायनिक गुण इसे व्यापक उपयोगिता प्रदान करते हैं...
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सीवीडी एसआईसी कोटिंग की वृद्धि पर विभिन्न तापमानों का प्रभाव
एडमिन द्वारा 25-05-26 को
सीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग क्या है? केमिकल वेपर डिपोजिशन (सीवीडी) एक वैक्यूम डिपोजिशन प्रक्रिया है जिसका उपयोग उच्च शुद्धता वाले ठोस पदार्थों के उत्पादन के लिए किया जाता है। इस प्रक्रिया का उपयोग अक्सर सेमीकंडक्टर निर्माण क्षेत्र में वेफर्स की सतह पर पतली परतें बनाने के लिए किया जाता है। सीवीडी द्वारा सिलिकॉन कार्बाइड तैयार करने की प्रक्रिया में...
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सोलर ग्रेफाइट बोट क्या है?
एडमिन द्वारा 25-04-22 को
तेजी से विकसित हो रहे सौर फोटोवोल्टिक (पीवी) उद्योग में, ऊर्जा रूपांतरण दक्षता बढ़ाने के लिए सटीकता और सामग्री नवाचार महत्वपूर्ण हैं। इस प्रक्रिया में गुमनाम नायकों में से एक है सोलर ग्रेफाइट बोट, जो उच्च तापमान वाले अर्धचालक निर्माण के लिए डिज़ाइन किया गया एक विशेष घटक है...
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TaC कोटिंग क्या है?
एडमिन द्वारा 25-04-10 को
तेजी से विकसित हो रहे सेमीकंडक्टर उद्योग में, प्रदर्शन, स्थायित्व और दक्षता बढ़ाने वाले पदार्थ अत्यंत महत्वपूर्ण हैं। ऐसा ही एक नवाचार है टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग, जो ग्रेफाइट घटकों पर लगाई जाने वाली एक अत्याधुनिक सुरक्षात्मक परत है। यह ब्लॉग TaC कोटिंग की परिभाषा, तकनीकी पहलुओं और अन्य पहलुओं की पड़ताल करता है...
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