Selalunya berorientasikan pelanggan, dan sasaran utama kami bukan sahaja untuk menjadi penyedia yang paling bereputasi, boleh dipercayai dan jujur, tetapi juga rakan kongsi untuk pelanggan kami untuk Pemendapan Wap Kimia Dipertingkat Plasma 1200c Harga Super Terendah ChinaPecvdVacuum Funace, Untuk mengetahui lebih lanjut tentang apa yang boleh kami lakukan untuk anda, hubungi kami pada bila-bila masa. Kami berharap dapat menjalin hubungan perniagaan yang baik dan jangka panjang dengan anda.
Selalunya berorientasikan pelanggan, dan sasaran utama kami bukan sahaja untuk menjadi penyedia yang paling bereputasi, boleh dipercayai dan jujur, tetapi juga rakan kongsi untuk pelanggan kamiPemendapan Wap Kimia Dipertingkat Plasma China, Pecvd, Peralatan canggih kami, pengurusan kualiti yang sangat baik, keupayaan penyelidikan dan pembangunan menjadikan harga kami rendah. Harga yang kami tawarkan mungkin bukan yang terendah, tetapi kami menjamin ia benar-benar kompetitif! Selamat datang untuk menghubungi kami dengan segera untuk hubungan perniagaan masa depan dan kejayaan bersama!
Komposit karbon / karbon(selepas ini dirujuk sebagai “C / C atau CFC”) ialah sejenis bahan komposit yang berasaskan karbon dan diperkukuh oleh gentian karbon dan produknya (serat karbon prabentuk). Ia mempunyai inersia karbon dan kekuatan gentian karbon yang tinggi. Ia mempunyai sifat mekanikal, rintangan haba, rintangan kakisan, redaman geseran dan ciri-ciri kekonduksian terma dan elektrik yang baik.
CVD-SiCSalutan mempunyai ciri-ciri struktur seragam, bahan padat, rintangan suhu tinggi, rintangan pengoksidaan, ketulenan tinggi, rintangan asid & alkali dan reagen organik, dengan sifat fizikal dan kimia yang stabil.
Berbanding dengan bahan grafit berketulenan tinggi, grafit mula teroksida pada suhu 400°C, yang akan menyebabkan kehilangan serbuk akibat pengoksidaan, mengakibatkan pencemaran alam sekitar pada peranti periferal dan ruang vakum, dan meningkatkan kekotoran persekitaran berketulenan tinggi.
Walau bagaimanapun, salutan SiC boleh mengekalkan kestabilan fizikal dan kimia pada 1600 darjah, Ia digunakan secara meluas dalam industri moden, terutamanya dalam industri semikonduktor.
Syarikat kami menyediakan perkhidmatan proses salutan SiC melalui kaedah CVD pada permukaan grafit, seramik dan bahan lain, supaya gas khas yang mengandungi karbon dan silikon bertindak balas pada suhu tinggi untuk mendapatkan molekul SiC ketulenan tinggi, molekul yang termendap pada permukaan bahan bersalut, membentuk lapisan pelindung SIC. SIC yang terbentuk terikat kuat pada asas grafit, memberikan sifat khas asas grafit, sekali gus menjadikan permukaan grafit padat, bebas keliangan, tahan suhu tinggi, tahan kakisan dan tahan pengoksidaan.
Ciri-ciri utama:
1. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi:
Rintangan pengoksidaan masih sangat baik apabila suhu setinggi 1600 C.
2. Ketulenan tinggi: dihasilkan melalui pemendapan wap kimia di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
3. Rintangan hakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat, zarah halus.
4. Rintangan kakisan: reagen asid, alkali, garam dan organik.
Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Ketumpatan | (g/cc)
| 3.21 |
| Kekuatan lenturan | (Mpa)
| 470 |
| Pengembangan haba | (10-6/K) | 4
|
| Kekonduksian terma | (W/mK) | 300
|
