Keperluan industri semikonduktor untuk keperluan bahan grafit amat tinggi, saiz zarah halus grafit mempunyai ketepatan yang tinggi, rintangan suhu tinggi, kekuatan tinggi, kehilangan kecil dan kelebihan lain, seperti: acuan produk grafit sintered.Oleh kerana peralatan grafit yang digunakan dalam industri semikonduktor (termasuk pemanas dan acuan sinternya) dikehendaki menahan proses pemanasan dan penyejukan berulang, untuk memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan grafit, biasanya bahan grafit yang digunakan dikehendaki mempunyai prestasi yang stabil dan fungsi hentaman tahan haba.
01 Aksesori grafit untuk pertumbuhan kristal semikonduktor
Semua proses yang digunakan untuk menumbuhkan kristal semikonduktor beroperasi di bawah suhu tinggi dan persekitaran yang menghakis. Zon panas relau pertumbuhan kristal biasanya dilengkapi dengan komponen grafit ketulenan tinggi yang tahan haba dan kakisan, seperti pemanas, mangkuk pijar, silinder penebat, silinder panduan, elektrod, pemegang mangkuk pijar, nat elektrod, dan sebagainya.
Kami boleh mengeluarkan semua bahagian grafit bagi peranti pengeluaran kristal, yang boleh dibekalkan secara individu atau dalam set, atau bahagian grafit tersuai dengan pelbagai saiz mengikut keperluan pelanggan. Saiz produk boleh diukur di tapak, dan kandungan abu produk siap boleh dikurangkan.daripada 5ppm.
02 Aksesori grafit untuk epitaksi semikonduktor
Proses epitaksial merujuk kepada pertumbuhan lapisan bahan kristal tunggal dengan susunan kekisi yang sama seperti substrat pada substrat kristal tunggal. Dalam proses epitaksial, wafer dimuatkan pada cakera grafit. Prestasi dan kualiti cakera grafit memainkan peranan penting dalam kualiti lapisan epitaksial wafer. Dalam bidang pengeluaran epitaksial, banyak grafit ketulenan ultra tinggi dan asas grafit ketulenan tinggi dengan salutan SIC diperlukan.
Tapak grafit syarikat kami untuk epitaksi semikonduktor mempunyai pelbagai aplikasi, boleh menandingi kebanyakan peralatan yang biasa digunakan dalam industri, dan mempunyai ketulenan yang tinggi, salutan seragam, hayat perkhidmatan yang sangat baik, dan rintangan kimia yang tinggi serta kestabilan terma.
03 Aksesori grafit untuk implantasi ion
Implantasi ion merujuk kepada proses memecutkan pancaran plasma boron, fosforus dan arsenik kepada tenaga tertentu, dan kemudian menyuntiknya ke dalam lapisan permukaan bahan wafer untuk mengubah sifat bahan lapisan permukaan. Komponen peranti implantasi ion hendaklah diperbuat daripada bahan berketulenan tinggi dengan rintangan haba yang sangat baik, kekonduksian terma, kurang kakisan yang disebabkan oleh pancaran ion dan kandungan bendasing yang rendah. Grafit berketulenan tinggi memenuhi keperluan aplikasi, dan boleh digunakan untuk tiub penerbangan, pelbagai celah, elektrod, penutup elektrod, saluran, penamat pancaran, dan sebagainya bagi peralatan implantasi ion.
Kami bukan sahaja boleh menyediakan penutup pelindung grafit untuk pelbagai mesin implantasi ion, tetapi juga menyediakan elektrod grafit berketulenan tinggi dan sumber ion dengan rintangan kakisan yang tinggi dengan pelbagai spesifikasi. Model yang berkenaan: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM dan peralatan lain. Di samping itu, kami juga boleh menyediakan produk seramik, tungsten, molibdenum, aluminium dan bahagian bersalut yang sepadan.
04 Bahan penebat grafit dan lain-lain
Bahan penebat haba yang digunakan dalam peralatan pengeluaran semikonduktor termasuk felt keras grafit, felt lembut, kerajang grafit, kertas grafit dan tali grafit.
Semua bahan mentah kami adalah grafit yang diimport, yang boleh dipotong mengikut saiz khusus keperluan pelanggan atau dijual secara keseluruhan.
Dulang karbon-karbon digunakan sebagai pembawa untuk salutan filem dalam proses pengeluaran sel silikon monokristalin suria dan silikon polikristalin. Prinsip kerjanya ialah: masukkan cip silikon ke dalam dulang CFC dan hantarkannya ke dalam tiub relau untuk memproses salutan filem.
