E masani ona fa'amuamua tagata fa'atau, ma o la matou sini autū ia le gata ina avea ma kamupani e sili ona ta'uleleia, fa'atuatuaina ma fa'amaoni, ae ia avea fo'i ma pa'aga mo a matou tagata fa'atau mo le Super Lowest Price China 1200c Plasma Enhanced Chemical Vapor DepositionPecvdVacuum Funace, Afai e te fia iloa atili e uiga i mea e mafai ona matou faia mo oe, fa'afeso'ota'i matou i so'o se taimi. Matou te tulimatai atu i le fa'atuina o ni mafutaga fa'apisinisi lelei ma umi ma oe.
E masani ona fa'amuamua tagata fa'atau, ma o la matou sini autū ia le gata ina avea ma kamupani e sili ona ta'uleleia, fa'atuatuaina ma fa'amaoni, ae ia avea fo'i ma pa'aga mo a matou tagata fa'atau.Fa'aputuga Ausa Kemikolo Fa'aleleia Plasma Saina, Pecvd, O a matou meafaigaluega fa'aonaponei, pulega lelei tele, tomai i su'esu'ega ma atina'e e fa'aitiitia ai la matou tau. Atonu e le o le tau maualalo le tau matou te ofoina atu, ae matou te fa'amautinoa atu e matua'i tauva lava! Susu mai e fa'afeso'ota'i mai matou i le taimi nei mo fegalegaleaiga fa'apisinisi i le lumana'i ma le manuia fa'atasi!
Fa'aputuga kaponi / kaponi(o le a taua mulimuli ane o le “C / C po'o le CFC) o se ituaiga mea tu'ufa'atasi e fa'avae i luga o le kaponi ma fa'amalosia e le alava kaponi ma ana oloa (carbon fiber preform). E iai lona inertia e pei o le kaponi ma le malosi maualuga e pei o le alava kaponi. E iai ona meatotino lelei fa'amasini, tete'e atu i le vevela, tete'e atu i le 'ele, fa'aitiitia o fe'ese'esea'iga ma uiga o le fa'avevela ma le eletise.
CVD-SiCO le ufiufi e iai uiga o le fausaga tutusa, mea laiti, tete'e maualuga i le vevela, tete'e atu i le oxidation, mama maualuga, tete'e atu i le acid & alkali ma le reagent organic, fa'atasi ai ma meatotino fa'aletino ma vaila'au mautu.
Pe a faʻatusatusa i mea e maualuga le mama o le karapite, e amata ona faʻamaʻaʻaina le karapite i le 400C, lea o le a mafua ai le leiloa o le pauta ona o le faʻamaʻaʻaina, ma mafua ai le faʻaleagaina o le siosiomaga i masini faʻapitoa ma potu e leai ni mea e faʻamama ai, ma faʻateleina ai mea le mama o le siosiomaga maualuga le mama.
Ae ui i lea, e mafai e le ufiufi SiC ona faatumauina le mautu faaletino ma vailaau i le 1600 tikeri, E faʻaaogaina lautele i pisinisi faʻaonaponei, aemaise lava i le pisinisi semiconductor.
O la matou kamupani e tuʻuina atu auaunaga faʻagasologa o le ufiufiina o le SiC e ala i le metotia CVD i luga o le graphite, keramika ma isi meafaitino, ina ia mafai e kasa faapitoa o loʻo i ai le carbon ma le silicon ona tali atu i le vevela maualuga e maua ai ni mole SiC mama maualuga, o mole e faʻaputu i luga o le fogaeleele o mea ua ufiufiina, ma fausia ai se vaega puipuia SIC. O le SIC ua fausia e pipii mau i le faavae o le graphite, ma maua ai e le faavae o le graphite ni meatotino faapitoa, ma avea ai le fogaeleele o le graphite ma se mea e mafiafia, e leai ni porosity, e teteʻe atu i le vevela maualuga, e teteʻe atu i le ele ma e teteʻe atu i le oxidation.
Vaega autū:
1. Tete'e atu i le fa'ama'i o le vevela maualuga:
E lelei tele lava le tete'e atu i le 'okesene pe a o'o atu le vevela i le 1600 C.
2. Mama maualuga: faia e ala i le teuina o le ausa vailaʻau i lalo o le tulaga o le chlorination i le vevela maualuga.
3. Tete'e i le ele: maualuga le ma'a'a, laualuga mafiafia, fasi mea manifinifi.
4. Tete'e i le 'ele: 'āsi, alkali, masima ma vaila'au fa'aola.
Fa'amatalaga Autū o Ufiufi CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Mafiafia | (g/cc)
| 3.21 |
| Malosiaga fa'apipi'i | (Mpa)
| 470 |
| Fa'alauteleina o le vevela | (10-6/K) | 4
|
| Fa'avevela o le eletise | (W/mK) | 300
|
