적용 분야


제품 적용 및 성능 제품 적용 분야 및 용도
실리콘 단결정 산업, GaN, AlN, 사파이어 및 기타 MOCVD 기판. - 단결정 실리콘 에피택셜 성장을 위한 흑연 기판 코팅
주요 특징: 고순도, 내식성, 높은 열전도율 - MOCVD 공정, GaN 에피택셜 성장을 위한 흑연 기반 코팅
고온 저항성, 낮은 열팽창 계수.
| 열전도율 | 250 W/m °K | 레이저 플래시 방식, RT |
| 열팽창(CTE) | 4.5 x 10-6°K | 실온에서 950°C까지, 실리카 팽창계 |
| 재산 | 값 | 방법 |
| 밀도 | 3.21 g/cc | 침강/부력 및 치수 |
| 비열 | 0.66 J/g °K | 펄스 레이저 플래시 |
| 굽힘 강도 | 450 MPa 560 MPa | 4점 벤드, RT4점 벤드, 1300° |
| 파괴 인성 | 2.94 MPa m1/2 | 미세압입 |
| 경도 | 2800 | 비커스, 500g 장전 |
| 탄성 계수, 영률 | 450 GPa 430 GPa | 4점 굽힘, RT4점 굽힘, 1300°C |
| 입자 크기 | 2~10 µm | 주사전자현미경(SEM) |

순도, SEM 구조, 두께 분석SiC 코팅
CVD를 이용하여 흑연 위에 형성된 SiC 코팅의 순도는 99.9995%에 달하며, 구조는 fcc이다. XRD 데이터(그림 1)에서 볼 수 있듯이, 흑연 위에 코팅된 SiC 박막은 (111) 방향으로 배향되어 있어 높은 결정성을 나타낸다. 그림 2에서 볼 수 있듯이, SiC 박막의 두께는 매우 균일하다.
단결정 실리콘 에피택셜 베이스
제품 성능 및 적용 전망.
탄화규소(SiC) 코팅이 기판은 단결정 실리콘 및 GaN 에피택시에 가장 적합한 기판으로, 에피택시로의 핵심 부품입니다. 특히 대형 집적 회로용 단결정 실리콘 생산에 필수적인 부품이며, 높은 순도, 고온 내성, 내식성, 우수한 기밀성 등 탁월한 소재 특성을 지니고 있습니다.
제품 적용 및 사용
단결정 실리콘 에피택셜 성장을 위한 흑연 기반 코팅. Aixtron 장비 등에 적합. 코팅 두께: 90~150μm. 웨이퍼 크레이터 직경: 55mm.
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포장 세부 정보
자주 묻는 질문
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