Nuntii

Principium scaphae graphitae PECVD pro cella solari (tegumento) | VET Energy
ab administratore die XXIV mensis Decembris, anno XXIII
Primum omnium, PECVD (Depositionem Vaporis Chemici Plasma Augmentatam) scire debemus. Plasma est intensificatio motus thermalis molecularum materialium. Collisio inter eas moleculas gasis ionizare faciet, et materia mixturam fr...
Plura lege
Quomodo vehicula novae energiae frena adiuvata vacuo efficiunt? | VET Energy
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMXVIII
Vehicula novae energiae machinis combustibilibus non instructa sunt, quomodo igitur frenationem adiuvatam vacuo in frenando consequuntur? Vehicula novae energiae plerumque auxilium frenationis per duas methodos consequuntur: Prima methodus est systema frenationis electricum amplificans vacuum uti. Hoc systema utitur systemate electrico vacuo...
Plura lege
Cur taenia UV ad crustula secanda utimur? | VET Energy
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMXVI
Postquam crustulum per processum priorem transiit, praeparatio fragmenti perficitur, et secanda est ut fragmenta in crustula separentur, et denique involuenda. Processus secandi crustulas electus pro crustulis diversarum crassitudinium etiam differt: ▪ Crustulae crassitudine plus ...
Plura lege
Distortio crustulae, quid faciendum est?
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMXVI
In quodam processu involucri, materiae involucri cum diversis coefficientibus expansionis thermalis adhibentur. Dum involucrum fit, crustulum super substratum involucri ponitur, deinde gradus calefactionis et refrigerationis perficiuntur ad involucrum perficiendum. Attamen, propter discrepantiam inter...
Plura lege
Cur celeritas reactionis Si et NaOH velocior est quam SiO₂?
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMX
Cur celeritas reactionis silicii et natrii hydroxidi celeritatem silicii dioxidi superare possit, ex sequentibus aspectibus explicari potest: Differentia in energia vinculi chemici ▪ Reactio silicii et natrii hydroxidi: Cum silicium cum natrii hydroxido reagit, energia vinculi Si-Si inter atomum silicii...
Plura lege
Cur silicium tam durum sed tam fragile est?
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMX
Silicium est crystallum atomicum, cuius atomi inter se vinculis covalentibus connexi sunt, structuram reticulatam spatialem formantes. In hac structura, vincula covalentia inter atomos valde directionalia sunt et magnam energiam vinculorum habent, quod silicium magnam duritiem ostendere facit cum viribus externis resistit...
Plura lege
Cur parietes laterales flectuntur durante corrosione sicca?
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMIII
Inuniformitas bombardamenti ionici. Corrosio sicca plerumque processus est qui effectus physicos et chemicos coniungit, in quo bombardamentus ionicus methodus corrosionis physicae magni momenti est. Per processum corrosionis, angulus incidentiae et distributio energiae ionum inaequales esse possunt. Si ion incidens...
Plura lege
Introductio ad tres communes technologias CVD
ab administratore die XXIV mensis Decembris anni MMIII
Depositio vaporis chemici (DVC) est technologia latissime adhibita in industria semiconductorum ad deponendas varias materias, inter quas amplam seriem materiarum insulantium, plurimae materiae metallicae et materiae ex mixtura metallorum. DVC est technologia traditionalis praeparationis pelliculae tenuis. Eius principium...
Plura lege
Num adamas alia instrumenta semiconducentia magnae potentiae substituere potest?
ab administratore die XXIV mensis Novembris, anno XXV
Materiae semiconductrices, ut fundamentum instrumentorum electronicorum modernorum, mutationes inauditas subeunt. Hodie, adamas paulatim magnum potentiale suum ut materia semiconductrix quartae generationis ostendit, propter suas excellentes proprietates electricas et thermicas necnon stabilitatem sub extremis pressionibus...
Plura lege