Vállalatunk célja a vevői elégedettség elérése. Nagyszerű kezdeményezéseket teszünk új és kiváló minőségű megoldások beszerzése érdekében, megfelelünk az Ön egyedi igényeinek, és értékesítés előtti, értékesítés közbeni és értékesítés utáni szolgáltatásokat nyújtunk Önnek a legújabb, kiváló minőségű kemény filmek leválasztására szolgáló plazmatiszta CVD csőkemencék terén. Várjuk megkeresését, és a legjobb szolgáltatást nyújtjuk teljes szívvel.
Vállalatunk célja a vevői elégedettség elérése. Nagyszerű kezdeményezéseket teszünk új és kiváló minőségű megoldások beszerzése, az Ön egyedi igényeinek való megfelelés, valamint értékesítés előtti, értékesítés közbeni és értékesítés utáni szolgáltatások biztosítása érdekében.Kínai CVD csőkemence és CVD csőkemence kémiai gőzfázisú leválasztásAz egyre versenyképesebb piacon őszinte szolgáltatással, kiváló minőségű árukkal és megérdemelt hírnévvel mindig támogatjuk ügyfeleinket a termékek és technikák tekintetében a hosszú távú együttműködés elérése érdekében. A minőségre törekedni, a hitelre építve fejlődni örök törekvésünk. Szilárdan hisszük, hogy látogatása után hosszú távú partnerekké válunk.
Szén / szén kompozitok(a továbbiakban: „C / C vagy CFC”) egyfajta szén alapú kompozit anyag, amelyet szénszállal és annak termékeivel (szénszál előgyártmány) erősítenek meg. Rendelkezik a szén tehetetlenségével és a szénszál nagy szilárdságával. Jó mechanikai tulajdonságokkal, hőállósággal, korrózióállósággal, súrlódáscsillapítással, valamint hő- és elektromos vezetőképességgel rendelkezik.
CVD-SiCA bevonat jellemzői az egyenletes szerkezet, a kompakt anyag, a magas hőmérsékleti ellenállás, az oxidációs ellenállás, a nagy tisztaság, a sav- és lúgállóság, valamint a szerves reagensek stabil fizikai és kémiai tulajdonságai.
A nagy tisztaságú grafit anyagokkal összehasonlítva a grafit 400°C-on oxidálódni kezd, ami az oxidáció miatt porveszteséget okoz, ami környezetszennyezést okoz a perifériás eszközökben és a vákuumkamrákban, és növeli a nagy tisztaságú környezet szennyeződéseit.
A SiC bevonat azonban 1600 fokon is képes fizikai és kémiai stabilitást fenntartani, ezért széles körben használják a modern iparban, különösen a félvezetőiparban.
Cégünk CVD módszerrel végez SiC bevonatolási eljárást grafit, kerámiák és egyéb anyagok felületén, melynek során speciális, szenet és szilíciumot tartalmazó gázok magas hőmérsékleten reagálva nagy tisztaságú SiC molekulákat hoznak létre, amelyek a bevont anyagok felületére rakódnak le, SIC védőréteget képezve. A képződött SIC szilárdan kötődik a grafit alaphoz, különleges tulajdonságokat kölcsönözve a grafit alapnak, így a grafit felülete tömör, porozitásmentes, magas hőmérsékletnek ellenálló, korrózióálló és oxidációálló.
Főbb jellemzők:
1. Magas hőmérsékletű oxidációs ellenállás:
Az oxidációs ellenállás még 1600 °C hőmérsékleten is nagyon jó.
2. Nagy tisztaságú: kémiai gőzfázisú leválasztással, magas hőmérsékletű klórozási körülmények között állítják elő.
3. Erózióállóság: nagy keménység, tömör felület, finom részecskék.
4. Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.
A CVD-SIC bevonatok főbb jellemzői:
| SiC-CVD | ||
| Sűrűség | (g/cm³)
| 3.21 |
| Hajlító szilárdság | (MPa)
| 470 |
| Hőtágulás | (10-6/Ó) | 4
|
| Hővezető képesség | (W/mK) | 300
|
