La satisfacción del cliente es el objetivo principal de nuestra empresa. Nos esforzaremos al máximo para ofrecer soluciones innovadoras y de alta calidad, cumplir con sus especificaciones particulares y brindarle servicios de preventa, venta y posventa para nuestro nuevo producto: el horno de tubo CVD mejorado con plasma para la deposición de películas duras de alta calidad. Agradecemos su consulta; le brindaremos el mejor servicio con la mayor dedicación.
Lograr la satisfacción del comprador es el propósito de nuestra empresa sin fin. Haremos grandes esfuerzos para adquirir soluciones nuevas y de alta calidad, cumplir con sus especificaciones exclusivas y brindarle proveedores de preventa, venta y posventa paraHorno de tubo CVD de China y deposición química de vapor en horno de tubo CVDEn un mercado cada vez más competitivo, con un servicio sincero, productos de alta calidad y una merecida reputación, siempre brindamos apoyo a nuestros clientes en cuanto a productos y técnicas para lograr una cooperación a largo plazo. Vivir de la calidad y desarrollarnos a través de la confianza es nuestra meta constante. Creemos firmemente que, tras su visita, nos convertiremos en socios a largo plazo.
Carbono / compuestos de carbono(en adelante denominada “C/C o CFC”Es un tipo de material compuesto basado en carbono y reforzado con fibra de carbono y sus productos (preformas de fibra de carbono). Posee tanto la inercia del carbono como la alta resistencia de la fibra de carbono. Tiene buenas propiedades mecánicas, resistencia al calor, resistencia a la corrosión, amortiguación de la fricción y características de conductividad térmica y eléctrica.
SiC CVDEl recubrimiento presenta características como una estructura uniforme, un material compacto, resistencia a altas temperaturas, resistencia a la oxidación, alta pureza, resistencia a ácidos y álcalis y a reactivos orgánicos, con propiedades físicas y químicas estables.
En comparación con los materiales de grafito de alta pureza, el grafito comienza a oxidarse a 400 °C, lo que provoca una pérdida de polvo debido a la oxidación, lo que resulta en contaminación ambiental para los dispositivos periféricos y las cámaras de vacío, y aumenta las impurezas en el entorno de alta pureza.
Sin embargo, el recubrimiento de SiC puede mantener la estabilidad física y química a 1600 grados, y se utiliza ampliamente en la industria moderna, especialmente en la industria de semiconductores.
Nuestra empresa ofrece servicios de recubrimiento de SiC mediante el método CVD sobre superficies de grafito, cerámica y otros materiales. Mediante gases especiales que contienen carbono y silicio, se obtienen moléculas de SiC de alta pureza que se depositan sobre la superficie de los materiales recubiertos, formando una capa protectora de SiC. El SiC formado se adhiere firmemente a la base de grafito, otorgándole propiedades especiales. Esto se traduce en una superficie de grafito compacta, sin porosidad, resistente a altas temperaturas, a la corrosión y a la oxidación.
Características principales:
1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:
La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena incluso a temperaturas tan altas como 1600 °C.
2. Alta pureza: fabricado mediante deposición química de vapor bajo condiciones de cloración a alta temperatura.
3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sales y reactivos orgánicos.
Especificaciones principales de los recubrimientos CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Densidad | (g/cc)
| 3.21 |
| Resistencia a la flexión | (Mpa)
| 470 |
| Expansión térmica | (10-6/K) | 4
|
| Conductividad térmica | (W/mK) | 300
|
