English

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Pelapis SiC

Pemanas Grafit Kustom untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Lapisan SiC Gambar Unggulan
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Pelapis SiC
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Pelapis SiC
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Pelapis SiC
  • Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor, Pelapis SiC

Deskripsi Singkat:

Spesifikasi Teknis

VET-M3
Kepadatan Massal (g/cm3)

≥1,85
Kandungan Abu (PPM)

≤500
Kekerasan Pantai

≥45
Resistensi Spesifik (μ.Ω.m)

≤12
Kekuatan Lentur (Mpa)

≥40
Kekuatan Kompresi (Mpa)

≥70
Ukuran Butiran Maksimum (μm)

≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C

≤4,4*10-6


Unduh sebagai PDF

Detail Produk

Label Produk

Spesifikasi Teknis

VET-M3
Kepadatan Massal (g/cm3)

≥1,85
Kandungan Abu (PPM)

≤500
Kekerasan Pantai

≥45
Resistensi Spesifik (μ.Ω.m)

≤12
Kekuatan Lentur (Mpa)

≥40
Kekuatan Kompresi (Mpa)

≥70
Ukuran Butiran Maksimum (μm)

≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C

≤4,4*10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

 

 

 

 

Pemanas Grafit Khusus untuk Wafer Silikon Semikonduktor

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

    • PRODUK TERKAIT

    Obrolan Daring WhatsApp!