Riscaldatore in grafite personalizzato per wafer di silicio semiconduttore, rivestimento SiC

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Breve descrizione:

Specifiche tecniche	VET-M3
Densità apparente (g/cm³)	≥1,85
Contenuto di ceneri (ppm)	≤500
Durezza Shore	≥45
Resistenza specifica (μ.Ω.m)	≤12
Resistenza alla flessione (MPa)	≥40
Resistenza alla compressione (MPa)	≥70
Dimensione massima del grano (μm)	≤43
Coefficiente di dilatazione termica mm/°C	≤4,4*10-6

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PersonalizzatoRiscaldatore in grafite per wafer di silicio semiconduttore

Specifiche tecniche	VET-M3
Densità apparente (g/cm³)	≥1,85
Contenuto di ceneri (ppm)	≤500
Durezza Shore	≥45
Resistenza specifica (μ.Ω.m)	≤12
Resistenza alla flessione (MPa)	≥40
Resistenza alla compressione (MPa)	≥70
Dimensione massima del grano (μm)	≤43
Coefficiente di dilatazione termica mm/°C	≤4,4*10-6

Riscaldatore in grafite personalizzato per wafer di silicio semiconduttore

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