English

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor, lapisan SiC

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silikon Semikonduktor, Lapisan SiC Gambar Unggulan
  • Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor, lapisan SiC
  • Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor, lapisan SiC
  • Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor, lapisan SiC
  • Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor, lapisan SiC

Katrangan singkat:

Spesifikasi Teknis

VET-M3
Kapadhetan Massal (g/cm3)

≥1.85
Kandungan Ash (PPM)

≤500
Hardness Shore

≥45
Resistansi spesifik (μ.Ω.m)

≤12
Kekuatan lentur (Mpa)

≥40
Kekuwatan Tekan (Mpa)

≥70
Maks. Ukuran Grain (μm)

≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C

≤4.4*10-6


Ngundhuh minangka PDF

Detail Produk

Tag produk

Spesifikasi Teknis

VET-M3
Kapadhetan Massal (g/cm3)

≥1.85
Kandungan Ash (PPM)

≤500
Hardness Shore

≥45
Resistansi spesifik (μ.Ω.m)

≤12
Kekuatan lentur (Mpa)

≥40
Kekuwatan Tekan (Mpa)

≥70
Maks. Ukuran Grain (μm)

≤43
Koefisien Ekspansi Termal Mm/°C

≤4.4*10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor

 

 

 

 

Pemanas Grafit Khusus kanggo Wafer Silicon Semikonduktor

  • Sadurunge:
  • Sabanjure:

    • PRODUK RELATED

    Obrolan Online WhatsApp!