Navio profissional chinês Sic transporta wafers de silício para dentro do tubo do forno de revestimento por difusão de alta temperatura.

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ProdutoDdescrição

Os suportes para wafers de carboneto de silício são amplamente utilizados em processos de difusão em altas temperaturas.

Vantagens:

Alta resistência à temperatura:Uso normal a 1800 ℃

Alta condutividade térmica:equivalente ao material de grafite

Alta dureza:Com dureza inferior apenas à do diamante, o nitreto de boro é encontrado no nitreto de boro.

Resistência à corrosão:Ácidos e álcalis fortes não causam corrosão nele; sua resistência à corrosão é superior à do carboneto de tungstênio e da alumina.

Leve:baixa densidade, semelhante ao alumínio

Sem deformação: baixo coeficiente de expansão térmica

Resistência ao choque térmico:Ele pode suportar mudanças bruscas de temperatura, resistir a choques térmicos e possui desempenho estável.

 

Propriedades físicas do SiC

Propriedade Valor Método
Densidade 3,21 g/cc Flutuador e dimensão
Calor específico 0,66 J/g °K Flash de laser pulsado
Resistência à flexão 450 MPa 560 MPa Dobra de 4 pontos, dobra de 4 pontos RT, 1300°
tenacidade à fratura 2,94 MPa m1/2 Microindentação
Dureza 2800 Vickers, carga de 500g
Módulo de elasticidadeMódulo de Young 450 GPa 430 GPa Dobra de 4 pontos, dobra de 4 pontos RT, 1300 °C
Tamanho do grão 2 – 10 µm MEV (Microscopia Eletrônica de Varredura)

 

Propriedades térmicas do SiC

Condutividade térmica 250 W/m °K Método de flash a laser, RT
Expansão Térmica (CTE) 4,5 x 10-6 °K Temperatura ambiente até 950 °C, dilatômetro de sílica

 

 

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