PSS एच क्यारियर

उत्पादन विवरण

हाम्रो कम्पनीले ग्रेफाइट, सिरेमिक र अन्य सामग्रीहरूको सतहमा CVD विधिद्वारा SiC कोटिंग प्रक्रिया सेवाहरू प्रदान गर्दछ, जसले गर्दा कार्बन र सिलिकन युक्त विशेष ग्यासहरूले उच्च तापक्रममा प्रतिक्रिया गरेर उच्च शुद्धता SiC अणुहरू प्राप्त गर्छन्, लेपित सामग्रीहरूको सतहमा जम्मा भएका अणुहरू, SIC सुरक्षात्मक तह बनाउँछन्।

मुख्य विशेषताहरू:

१. उच्च तापक्रम अक्सीकरण प्रतिरोध:

तापक्रम १६०० सेल्सियससम्म हुँदा पनि अक्सिडेशन प्रतिरोध धेरै राम्रो हुन्छ।

२. उच्च शुद्धता: उच्च तापक्रम क्लोरिनेशन अवस्थामा रासायनिक वाष्प निक्षेपण द्वारा बनाइएको।

३. क्षरण प्रतिरोध: उच्च कठोरता, कम्प्याक्ट सतह, मसिना कणहरू।

४. जंग प्रतिरोध: एसिड, क्षार, नुन र जैविक अभिकर्मकहरू।

CVD-SIC कोटिंगको मुख्य विशिष्टताहरू