CVD-SiC estaldurak egitura uniformea, material trinkoa, tenperatura altuko erresistentzia, oxidazio erresistentzia, purutasun handia, azido eta alkali erresistentzia eta erreaktibo organikoaren ezaugarriak ditu, propietate fisiko eta kimiko egonkorrak dituena.

Garbitasun handiko grafito-materialekin alderatuta, grafitoa 400C-tan oxidatzen hasten da, eta horrek oxidazioaren ondorioz hauts galera eragingo du, gailu periferikoetan eta huts-ganberetan ingurumena kutsatuko du eta purutasun handiko inguruneko ezpurutasunak areagotzen ditu.

Hala ere, SiC estaldurak egonkortasun fisikoa eta kimikoa mantendu dezake 1600 gradutan, oso erabilia da industria modernoan, batez ere erdieroaleen industrian.

Gure enpresak SiC estaldura-prozesuko zerbitzuak eskaintzen ditu CVD metodoaren bidez grafito, zeramika eta beste materialen gainazalean, karbonoa eta silizioa duten gas bereziek tenperatura altuan erreakzionatu dezaten, purutasun handiko SiC molekulak lortzeko, estalitako materialen gainazalean metatutako molekulak. SIC babes-geruza osatuz.Eratutako SIC-a grafito-oinarriari sendo lotzen zaio, grafito-oinarriari propietate bereziak emanez, horrela grafitoaren gainazala trinkoa, porositaterik gabekoa, tenperatura altuko erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia eta oxidazio-erresistentzia bihurtuz.

Aplikazio:

Ezaugarri nagusiak:

1. Tenperatura handiko oxidazio erresistentzia:

Oxidazio-erresistentzia oso ona da oraindik tenperatura 1700 C-rainokoa denean.

2. Garbitasun handia: tenperatura altuko klorazio-baldintzetan lurrun-jadapen kimikoen bidez egina.

3. Higadura erresistentzia: gogortasun handia, gainazal trinkoa, partikula finak.

4. Korrosioarekiko erresistentzia: azido, alkali, gatza eta erreaktibo organikoak.

CVD-SIC estalduren zehaztapen nagusiak:

Hornikuntzarako gaitasuna:

10000 Pieza/Pieza Hilean
Paketatzea eta entrega:
Enbalatzea: Enbalaje estandarra eta sendoa
Poly poltsa + Kutxa + Kartoia + Paleta
Portua:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Epea: