Syarat industri semikonduktor kanggo bahan grafit pancen dhuwur banget, ukuran partikel grafit sing alus nduweni presisi dhuwur, tahan suhu dhuwur, kekuatan dhuwur, kerugian cilik lan kaluwihan liyane, kayata: cetakan produk grafit sinter.Amarga peralatan grafit sing digunakake ing industri semikonduktor (kalebu pemanas lan dies sinter) kudu tahan proses pemanasan lan pendinginan sing bola-bali, supaya bisa ngluwihi umur layanan peralatan grafit, biasane bahan grafit sing digunakake kudu duwe kinerja sing stabil lan fungsi dampak tahan panas.
01 Aksesoris grafit kanggo pertumbuhan kristal semikonduktor
Kabeh proses sing digunakake kanggo numbuhake kristal semikonduktor beroperasi ing suhu dhuwur lan lingkungan korosif. Zona panas tungku pertumbuhan kristal biasane dilengkapi komponen grafit kemurnian tinggi sing tahan panas lan tahan korosi, kayata pemanas, wadah, silinder insulasi, silinder pandhuan, elektroda, wadhah wadah, mur elektroda, lan liya-liyane.
Kita bisa nggawe kabeh bagean grafit saka piranti produksi kristal, sing bisa disedhiyakake kanthi individu utawa set, utawa bagean grafit khusus kanthi macem-macem ukuran miturut kabutuhan pelanggan. Ukuran produk bisa diukur ing lokasi, lan kandungan awu produk rampung bisa luwih sithik.luwih saka 5ppm.
02 Aksesoris grafit kanggo epitaksi semikonduktor
Proses epitaksial nuduhake tuwuhing lapisan bahan kristal tunggal kanthi susunan kisi sing padha karo substrat ing substrat kristal tunggal. Ing proses epitaksial, wafer dimuat ing cakram grafit. Kinerja lan kualitas cakram grafit nduweni peran penting ing kualitas lapisan epitaksial wafer. Ing bidang produksi epitaksial, akeh grafit kemurnian ultra-tinggi lan basis grafit kemurnian tinggi kanthi lapisan SIC dibutuhake.
Basis grafit perusahaan kita kanggo epitaksi semikonduktor nduweni macem-macem aplikasi, bisa cocog karo sebagian besar peralatan sing umum digunakake ing industri, lan nduweni kemurnian sing dhuwur, lapisan seragam, umur layanan sing apik banget, lan tahan kimia lan stabilitas termal sing dhuwur.
03 Aksesoris grafit kanggo implantasi ion
Implantasi ion nuduhake proses nyepetake sinar plasma boron, fosfor, lan arsenik menyang energi tartamtu, banjur nyuntikake menyang lapisan permukaan bahan wafer kanggo ngganti sifat bahan lapisan permukaan. Komponen piranti implantasi ion kudu digawe saka bahan kanthi kemurnian dhuwur kanthi tahan panas sing apik banget, konduktivitas termal, korosi sing luwih sithik sing disebabake dening sinar ion lan kandungan pengotor sing sithik. Grafit kanthi kemurnian dhuwur nyukupi syarat aplikasi, lan bisa digunakake kanggo tabung penerbangan, macem-macem celah, elektroda, tutup elektroda, saluran, terminator sinar, lan liya-liyane saka peralatan implantasi ion.
Kita ora mung bisa nyedhiyakake tutup pelindung grafit kanggo macem-macem mesin implantasi ion, nanging uga nyedhiyakake elektroda grafit kanthi kemurnian dhuwur lan sumber ion kanthi tahan korosi dhuwur kanthi macem-macem spesifikasi. Model sing ditrapake: Eaton, Azcelis, Quatum, Varian, Nissin, AMAT, LAM lan peralatan liyane. Kajaba iku, kita uga bisa nyedhiyakake produk keramik, tungsten, molibdenum, aluminium lan bagean sing dilapisi sing cocog.
04 Bahan insulasi grafit lan liya-liyane
Bahan insulasi termal sing digunakake ing peralatan produksi semikonduktor kalebu kain felt keras grafit, kain felt lunak, foil grafit, kertas grafit, lan tali grafit.
Kabeh bahan mentah kita yaiku grafit impor, sing bisa dipotong miturut ukuran tartamtu saka kabutuhan pelanggan utawa didol kanthi lengkap.
Baki karbon-karbon digunakake minangka pembawa kanggo lapisan film ing proses produksi sel silikon monokristalin surya lan silikon polikristalin. Prinsip kerjane yaiku: lebokake chip silikon menyang tray CFC lan kirim menyang tabung tungku kanggo ngolah lapisan film.
