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Por que uma caixa de wafers contém 25 wafers?
No sofisticado mundo da tecnologia moderna, os wafers, também conhecidos como wafers de silício, são os componentes essenciais da indústria de semicondutores. Eles são a base para a fabricação de diversos componentes eletrônicos, como microprocessadores, memórias, sensores, etc., e cada wafer...Leia mais -
Pedestais comumente usados para epitaxia em fase vapor
Durante o processo de epitaxia em fase vapor (VPE), a função do pedestal é suportar o substrato e garantir um aquecimento uniforme durante o crescimento. Diferentes tipos de pedestais são adequados para diferentes condições de crescimento e sistemas de materiais. A seguir, alguns exemplos...Leia mais -
Como prolongar a vida útil de produtos revestidos com carboneto de tântalo?
Os produtos revestidos com carboneto de tântalo são um material de alta temperatura comumente usado, caracterizado por alta resistência à temperatura, resistência à corrosão, resistência ao desgaste, etc. Portanto, são amplamente utilizados em indústrias como aeroespacial, química e de energia. Para obter...Leia mais -
Qual a diferença entre PECVD e LPCVD em equipamentos de CVD para semicondutores?
A deposição química de vapor (CVD) refere-se ao processo de deposição de um filme sólido na superfície de uma lâmina de silício por meio de uma reação química de uma mistura gasosa. De acordo com as diferentes condições de reação (pressão, precursor), pode ser dividida em vários equipamentos...Leia mais -
Características do molde de grafite de carbeto de silício
Molde de Carboneto de Silício e Grafite O molde de carboneto de silício e grafite é um molde composto com carboneto de silício (SiC) como base e grafite como material de reforço. Este molde possui excelente condutividade térmica, resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão e...Leia mais -
Processo semicondutor: processo completo de fotolitografia
A fabricação de cada produto semicondutor requer centenas de processos. Dividimos todo o processo de fabricação em oito etapas: processamento do wafer, oxidação, fotolitografia, corrosão, deposição de filme fino, crescimento epitaxial, difusão e implantação iônica. Para ajudar você...Leia mais -
4 bilhões! A SK Hynix anuncia investimento em embalagens avançadas de semicondutores no Parque de Pesquisa de Purdue.
West Lafayette, Indiana – A SK hynix Inc. anunciou planos para investir quase US$ 4 bilhões na construção de uma unidade de fabricação de embalagens avançadas e de P&D para produtos de inteligência artificial no Parque de Pesquisa de Purdue. O investimento estabelece um elo fundamental na cadeia de suprimentos de semicondutores dos EUA em West Lafayette...Leia mais -
A tecnologia laser lidera a transformação da tecnologia de processamento de substratos de carboneto de silício.
1. Visão geral da tecnologia de processamento de substratos de carboneto de silício As etapas atuais de processamento de substratos de carboneto de silício incluem: retificação do círculo externo, corte, chanframento, retificação, polimento, limpeza, etc. O corte é uma etapa importante no processamento de substratos semicondutores...Leia mais -
Materiais convencionais para campos térmicos: Materiais compósitos C/C
Os compósitos carbono-carbono são um tipo de compósito de fibra de carbono, com fibra de carbono como material de reforço e carbono depositado como material da matriz. A matriz dos compósitos C/C é o carbono. Como é composta quase inteiramente de carbono elementar, possui excelente resistência a altas temperaturas...Leia mais